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    Photoresist stripper compositions
    2.
    发明授权
    Photoresist stripper compositions 失效
    光刻胶剥离剂组合物

    公开(公告)号：US06589719B1

    公开(公告)日：2003-07-08

    申请号：US10116030

    申请日：2002-04-05

    申请人： Seung-Hyun Ahn ,  Sang-Mun Chon ,  Hoe-Sik Chung ,  Mi-Sook Jeon ,  Eun-Mi Bae ,  Baik-Soon Choi ,  Ok-Seok Jang

    发明人： Seung-Hyun Ahn ,  Sang-Mun Chon ,  Hoe-Sik Chung ,  Mi-Sook Jeon ,  Eun-Mi Bae ,  Baik-Soon Choi ,  Ok-Seok Jang

    IPC分类号： G03C742

    CPC分类号： G03F7/168 ,  G03F7/422

    摘要： A photoresist stripper composition is made up of a mixture of an acetic acid ester, &ggr;-butyrolactone (GBL), and a non-acetate ester or a poly alkyl alcohol derivative. The acetic acid ester may be at least one of n-butyl acetate, amyl acetate, ethyl aceto-acetate, and isopropyl acetate. The non-acetate ester may be at least one of ethyl lactate (EL), ethyl-3-ethoxy propionate (EEP) and methyl-3-methoxy (MMP). The poly alkyl alcohol derivative may be at least one of propylene glycol monomethyl ester (PGME) and propylene glycol monomethyl ester acetate (PGMEA).

    摘要翻译： 光致抗蚀剂剥离剂组合物由乙酸酯，γ-丁内酯（GBL）和非乙酸酯或多烷基醇衍生物的混合物组成。 乙酸酯可以是乙酸正丁酯，乙酸戊酯，乙酸乙酯和乙酸异丙酯中的至少一种。 非乙酸酯酯可以是乳酸乙酯（EL），乙基-3-乙氧基丙酸酯（EEP）和甲基-3-甲氧基（MMP）中的至少一种。 聚烷基醇衍生物可以是丙二醇单甲酯（PGME）和丙二醇单甲酯乙酸酯（PGMEA）中的至少一种。