公开(公告)号：US20120247497A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13077530

申请日：2011-03-31

申请人： Sheng ZHANG ,  Rafael Ruiz, SR.

发明人： Sheng ZHANG ,  Rafael Ruiz, SR.

IPC分类号： A61K8/81 ,  B65D85/00 ,  A61Q90/00

CPC分类号： C09J4/00

摘要： A fast-bonding and long-lasting adhesive composition with a high viscosity for attaching eyelash/hair extension systems to human eyelash/hair, comprising: a cyanoacrylate monomer having a straight alkyl chain length of from 4 to 16 carbon atoms; an organic polymer thickening agent; an inorganic thickening agent; and a bonding accelerator, wherein the inorganic thickening agent does not separate from the composition.

摘要翻译： 一种具有高粘度的快速粘合和持久的粘合剂组合物，用于将睫毛/毛发延伸系统附着于人类睫毛/毛发，其包含：直链烷基链长度为4至16个碳原子的氰基丙烯酸酯单体; 有机聚合物增稠剂; 无机增稠剂; 和粘合促进剂，其中无机增稠剂不与组合物分离。

公开(公告)号：US20110283662A1

公开(公告)日：2011-11-24

申请号：US13112483

申请日：2011-05-20

申请人： Sheng ZHANG ,  Rafael Ruiz, SR.

发明人： Sheng ZHANG ,  Rafael Ruiz, SR.

IPC分类号： B65B55/08

CPC分类号： B65B55/16 ,  A61L2/0035

摘要： Disclosed is a method for sterilizing adhesive 1.1-disubstituted alkylene monomer compositions, including alpha-cyanoacrylates, using low dose gamma irradiation.

摘要翻译： 公开了一种使用低剂量γ照射对粘合剂1.1-二取代的亚烷基单体组合物（包括α-氰基丙烯酸酯）进行灭菌的方法。

公开(公告)号：US20110318224A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：US13154524

申请日：2011-06-07

申请人： Sheng ZHANG ,  Rafael Ruiz, SR.

发明人： Sheng ZHANG ,  Rafael Ruiz, SR.

IPC分类号： A61L2/08

CPC分类号： A61L2/082 ,  A61K31/275

摘要： The invention provides a method of preparing a sterile, liquid adhesive composition in a sealed container using X-ray irradiation. The liquid adhesive compositions maintain their stability after sterilization and have an extended shelf life, making them particularly useful in the medical field.

摘要翻译： 本发明提供了一种使用X射线照射在密封容器中制备无菌液体粘合剂组合物的方法。 液体粘合剂组合物在灭菌后保持其稳定性并具有延长的保存期限，使得它们在医疗领域中特别有用。

公开(公告)号：US20080261384A1

公开(公告)日：2008-10-23

申请号：US11736904

申请日：2007-04-18

申请人： Zhi-Qiang Sun ,  Xi PEI ,  Tien-Cheng Lan ,  Yu-Jou Chen ,  Guo-Fu Zhou ,  Kai-Ping Huang ,  Hong-Siek Gan ,  Jian-Peng Yan ,  Kai YANG ,  Sheng ZHANG

发明人： Zhi-Qiang Sun ,  Xi PEI ,  Tien-Cheng Lan ,  Yu-Jou Chen ,  Guo-Fu Zhou ,  Kai-Ping Huang ,  Hong-Siek Gan ,  Jian-Peng Yan ,  Kai YANG ,  Sheng ZHANG

IPC分类号： H01L21/425 ,  G03C5/00

CPC分类号： H01L21/31133 ,  G03F7/427 ,  H01L21/31138

摘要： A method of removing a photoresist layer is provided. An ion implantation process has been performed on the photoresist layer to transform a surface of the photoresist layer to a crust and a soft photoresist layer remains within the crust. The method includes performing a first removing step to remove the crust, such that the soft photoresist layer is exposed. Thereafter, a second removing step is performed to remove the soft photoresist layer. The first and the second removing steps are performed in difference chambers, and a temperature for performing the first removing step is lower than that for performing the second removing step and lower than a gasification temperature of a solvent in the soft photoresist layer.

摘要翻译： 提供了去除光致抗蚀剂层的方法。 已经在光致抗蚀剂层上进行了离子注入工艺，以将光致抗蚀剂层的表面转化为外壳，并且软的光致抗蚀剂层保留在外壳内。 该方法包括执行第一去除步骤以除去外壳，使得软的光致抗蚀剂层被暴露。 此后，执行第二去除步骤以去除软光致抗蚀剂层。 第一和第二除去步骤在差分室中进行，用于进行第一除去步骤的温度低于进行第二除去步骤的温度，而低于软质光致抗蚀剂层中溶剂的气化温度。