公开(公告)号：US20070018071A1

公开(公告)日：2007-01-25

申请号：US11184066

申请日：2005-07-19

申请人： Stefan Kruijswijk ,  Johannes Heintze ,  Paul Veen

发明人： Stefan Kruijswijk ,  Johannes Heintze ,  Paul Veen

IPC分类号： G01J1/32

CPC分类号： G01J1/32 ,  G01J2001/4238 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/708

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam. The illumination system includes a pulsed source of radiation and a controller to control an output of the pulsed source of radiation. The controller includes a dose sensor to measure a dose of a pulse of the source of radiation. The dose sensor includes a dose sensor output to provide a dose signal representative of the measured dose. An integrator unit is connected to the dose sensor output. The integrator unit integrates the dose signal at least twice, an output of the integrator unit provides an integrator output signal including the at least twice integrated dose signal. The output of the integrator unit drives a driving input of the source of radiation with the integrator output signal.

公开(公告)号：US20070229792A1

公开(公告)日：2007-10-04

申请号：US11731024

申请日：2007-03-30

申请人： Stefan Kruijswijk ,  John Leeming

发明人： Stefan Kruijswijk ,  John Leeming

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70991

摘要： A double processing technique for device manufacture is disclosed that includes performing a first patterning step to form apertures in a resist layer which apertures are filled before the first resist layer is stripped and replaced by a second resist layer to be used in the second exposure. In an embodiment, a lithographic cell includes an integrated fill and/or strip unit and may be used to perform the above technique.

摘要翻译： 公开了一种用于器件制造的双重加工技术，其包括执行第一图案化步骤以在抗蚀剂层中形成孔，在第一抗蚀剂层被剥离之前填充孔，并且由在第二次曝光中使用的第二抗蚀剂层代替。 在一个实施例中，光刻单元包括集成的填充和/或条带单元，并且可以用于执行上述技术。

公开(公告)号：US20070146670A1

公开(公告)日：2007-06-28

申请号：US11317244

申请日：2005-12-27

申请人： Stefan Kruijswijk

发明人： Stefan Kruijswijk

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70441 ,  G03F1/36 ,  G03F1/44 ,  G03F1/68 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70683 ,  G03F9/7076

摘要： A lithographic apparatus arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate. The lithographic apparatus is provided with an alignment system for aligning the patterning device with the substrate. The patterning device includes a proximity mark with a number of adjacent proximity structures, each proximity structure including a space structure, a reference structure, and a test structure. The reference structure includes a first number of lines at a reference pitch, and the test structure includes a second number of lines at a test pitch. The patterning device may be used to perform proximity matching using the alignment system, or to perform further quality measurements, such as dose-to-size.

摘要翻译： 布置成将图案从图案形成装置转印到基板上的光刻设备。 光刻设备设置有用于将图案形成装置与衬底对准的对准系统。 图案形成装置包括具有多个相邻接近结构的接近标记，每个邻近结构包括空间结构，参考结构和测试结构。 参考结构包括参考间距的第一数量的线，并且测试结构包括在测试间距处的第二数量的线。 图案形成装置可以用于使用对准系统执行邻近度匹配，或者进行进一步的质量测量，例如剂量 - 尺寸。

公开(公告)号：US20060119812A1

公开(公告)日：2006-06-08

申请号：US11001083

申请日：2004-12-02

申请人： Stefan Kruijswijk ,  Erik Loopstra

发明人： Stefan Kruijswijk ,  Erik Loopstra

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70075 ,  G03F7/70083

摘要： The invention relates to a lithographic apparatus, a device manufacturing method and a device thus manufactured. The lithographic apparatus is of the scanning type, in which a target portion of a substrate is scanned through a patterned radiation beam. Inhomogeneities in the radiation beam may become visible in the form of stripes on the substrate. By imparting an additional movement to the substrate table and optionally to the patterning device of the apparatus, during scanning, in a direction at an angle with the scanning movement, such inhomogeneities are smeared out, and the overall homogeneity of the illumination may be improved.

摘要翻译： 本发明涉及光刻设备，器件制造方法和由此制造的器件。 光刻设备是扫描型的，其中基板的目标部分通过图案化的辐射束被扫描。 辐射束中的不均匀性可能以基板上的条纹的形式变得可见。 通过在扫描期间，在与扫描运动成一定角度的方向上向衬底台施加额外的运动并且可选地赋予设备的图案形成装置，这样的不均匀性被涂抹，并且可以提高照明的整体均匀性。

公开(公告)号：US20060139599A1

公开(公告)日：2006-06-29

申请号：US11019525

申请日：2004-12-23

申请人： Stefan Kruijswijk ,  Marcel Mathijs Marie Dierichs ,  Markus Franciscus Eurlings ,  Heine Mulder

发明人： Stefan Kruijswijk ,  Marcel Mathijs Marie Dierichs ,  Markus Franciscus Eurlings ,  Heine Mulder

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70108 ,  G03F7/70275

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to provide a radiation beam; a patterning device configured to pattern the radiation beam to form a patterned radiation beam; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a substrate. An optical assembly includes multiple optical elements two-dimensionally arranged between a radiation source and the patterning device to create a predetermined angular distribution of the radiation beam. In order to improve the uniformity of the radiation beam the optical elements are selected from a predetermined number of optical elements having different shapes and/or sizes.

摘要翻译： 光刻设备包括被配置为提供辐射束的照明系统; 图案形成装置，其被配置成图案化所述辐射束以形成图案化的辐射束; 以及投影系统，被配置为将图案化的辐射束投影到基板上。 光学组件包括在辐射源和图案形成装置之间二维布置的多个光学元件，以产生辐射束的预定角度分布。 为了提高辐射束的均匀性，光学元件从具有不同形状和/或尺寸的预定数量的光学元件中选择。

公开(公告)号：US20050206868A1

公开(公告)日：2005-09-22

申请号：US10964815

申请日：2004-10-15

申请人： Stefan Kruijswijk ,  Rard De Leeuw ,  Paul Luehrmann ,  Wim Tel ,  Paul Van Wijnen ,  Kars Troost

发明人： Stefan Kruijswijk ,  Rard De Leeuw ,  Paul Luehrmann ,  Wim Tel ,  Paul Van Wijnen ,  Kars Troost

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03B27/52 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70991

摘要： A rework station and a metrology device(s) are incorporated into a lithographic processing cell so that a faulty substrate can be reworked directly and reprocessed without, for example, an overhead involved in changing masks, etc.

摘要翻译： 返修站和测量设备被并入到光刻处理单元中，使得有缺陷的基板可以直接重新加工并且再处理，而不需要例如改变掩模等的开销。

公开(公告)号：US20050146699A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US11068895

申请日：2005-03-02

申请人： Leon Levasier ,  Arie Den Boef ,  Ingo Dirnstorfer ,  Andre Jeunink ,  Stefan Kruijswijk ,  Henricus Pellemans ,  Irwan Setija ,  Hoite Tolsma

发明人： Leon Levasier ,  Arie Den Boef ,  Ingo Dirnstorfer ,  Andre Jeunink ,  Stefan Kruijswijk ,  Henricus Pellemans ,  Irwan Setija ,  Hoite Tolsma

IPC分类号： G01B11/00 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F9/7003 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076

摘要： A lithographic apparatus according to one embodiment of the invention includes an alignment subsystem configured to align the substrate on the substrate table relative to the patterning structure. The alignment structure comprises a non-periodic feature which may be detectable as e.g. a capture position or a check position using a reference grating in the alignment subsystem. The non-periodic feature may cause a phase effect in the detected signal of the alignment subsystem or an amplitude effect.

摘要翻译： 根据本发明的一个实施例的光刻设备包括对准子系统，该对准子系统被配置为相对于图案化结构对准衬底台上的衬底。 对准结构包括非周期性特征，其可以被检测为例如。 在对准子系统中使用参考光栅的捕获位置或检查位置。 非周期性特征可能导致对准子系统的检测信号中的相位效应或幅度效应。