公开(公告)号：US20100137673A1

公开(公告)日：2010-06-03

申请号：US11758937

申请日：2007-06-06

申请人： Suresh Srivastava ,  Gilbert R. Gonzales ,  Roger W. Howell ,  Wesley E. Bolch ,  Radoslav Adzic

发明人： Suresh Srivastava ,  Gilbert R. Gonzales ,  Roger W. Howell ,  Wesley E. Bolch ,  Radoslav Adzic

IPC分类号： A61M36/04 ,  A61F2/82

CPC分类号： A61N5/1002 ,  A61F2/91 ,  A61F2210/0095 ,  A61F2230/0054 ,  A61N5/1014 ,  A61N2005/1003 ,  A61N2005/1005 ,  A61N2005/1019

摘要： The present invention discloses a method of selectively providing radiation dosimetry to a subject in need of such treatment. The radiation is applied by an implant comprising a body member and 117mSn electroplated at selected locations of the body member, emitting conversion electrons absorbed immediately adjacent selected locations while not affecting surrounding tissue outside of the immediately adjacent area.

摘要翻译： 本发明公开了一种选择性地向需要这种治疗的受试者提供放射剂量测定法的方法。 通过植入物施加放射线，所述植入物包括主体部件和在主体部件的选定位置处电镀的117mSn，在不影响紧邻区域外部的周围组织的情况下发射直接在所选位置附近吸收的转换电子。

公开(公告)号：US08834338B2

公开(公告)日：2014-09-16

申请号：US11758937

申请日：2007-06-06

申请人： Suresh Srivastava ,  Gilbert R. Gonzales ,  Roger W. Howell ,  Wesley E. Bolch ,  Radoslav Adzic

发明人： Suresh Srivastava ,  Gilbert R. Gonzales ,  Roger W. Howell ,  Wesley E. Bolch ,  Radoslav Adzic

IPC分类号： A61N5/00 ,  A61F2/91 ,  A61N5/10

CPC分类号： A61N5/1002 ,  A61F2/91 ,  A61F2210/0095 ,  A61F2230/0054 ,  A61N5/1014 ,  A61N2005/1003 ,  A61N2005/1005 ,  A61N2005/1019

摘要： The present invention discloses a method of selectively providing radiation dosimetry to a subject in need of such treatment. The radiation is applied by an implant comprising a body member and 117mSn electroplated at selected locations of the body member, emitting conversion electrons absorbed immediately adjacent selected locations while not affecting surrounding tissue outside of the immediately adjacent area.

摘要翻译： 本发明公开了一种选择性地向需要这种治疗的受试者提供放射剂量测定法的方法。 通过植入物施加放射线，所述植入物包括主体部件和在主体部件的选定位置处电镀的117mSn，在不影响紧邻区域外部的周围组织的情况下发射直接在所选位置附近吸收的转换电子。