公开(公告)号：US07517554B2

公开(公告)日：2009-04-14

申请号：US11339627

申请日：2006-01-26

申请人： Tatsuya Saito ,  Tohru Den ,  Kazuhiko Fukutani ,  Aya Imada

发明人： Tatsuya Saito ,  Tohru Den ,  Kazuhiko Fukutani ,  Aya Imada

IPC分类号： C23C8/00

CPC分类号： C23C14/5873 ,  B82Y30/00 ,  C23C14/165

摘要： A process for producing a nano-structure is provided which enables control of the pore diameters and the pore intervals by film formation conditions. The process produces a nano-structure of an aluminum-silicon-germanium mixed film containing silicon and germanium at a content of 20 to 70 atom % relative to aluminum, the mixed film being constituted of a matrix composed mainly of silicon and germanium in a composition ratio of SixGe1-x (0≦X≦1), and cylindrical portions mainly composed of aluminum having a diameter of not larger 30 nm in the matrix. In the process, the mixed film is formed at a film-forming rate of not higher than 150 nm/min.

摘要翻译： 提供一种制造纳米结构的方法，其能够通过成膜条件控制孔径和孔间隔。 该方法产生相对于铝含有20〜70原子％含有硅和锗的铝 - 硅 - 锗混合膜的纳米结构，该混合膜由组成为主要由硅和锗组成的基体构成 SixGe1-x（0 <= X <= 1）的比例，以及主要由直径不大于30nm的铝构成的圆筒部。 在该过程中，以不高于150nm / min的成膜速度形成混合膜。

公开(公告)号：US20060127602A1

公开(公告)日：2006-06-15

申请号：US11339627

申请日：2006-01-26

申请人： Tatsuya Saito ,  Tohru Den ,  Kazuhiko Fukutani ,  Aya Imada

发明人： Tatsuya Saito ,  Tohru Den ,  Kazuhiko Fukutani ,  Aya Imada

IPC分类号： C23C8/00

CPC分类号： C23C14/5873 ,  B82Y30/00 ,  C23C14/165

摘要： A process for producing a nano-structure is provided which enables control of the pore diameters and the pore intervals by film formation conditions. The process produces a nano-structure of an aluminum-silicon-germanium mixed film containing silicon and germanium at a content of 20 to 70 atom % relative to aluminum, the mixed film being constituted of a matrix composed mainly of silicon and germanium in a composition ratio of SixGe1-x (0≦X≦1), and cylindrical portions mainly composed of aluminum having a diameter of not larger 30 nm in the matrix. In the process, the mixed film is formed at a film-forming rate of not higher than 150 nm/min.

摘要翻译： 提供一种制造纳米结构的方法，其能够通过成膜条件控制孔径和孔间隔。 该方法产生相对于铝含有20〜70原子％含有硅和锗的铝 - 硅 - 锗混合膜的纳米结构，该混合膜由组成为主要由硅和锗组成的基体构成 Si x 1 x x-x x（0 <= X 1 = 1）的比例，以及主要由矩阵中直径不大于30nm的铝构成的圆筒部 。 在该过程中，以不高于150nm / min的成膜速度形成混合膜。

公开(公告)号：US20050211663A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US11086423

申请日：2005-03-23

申请人： Aya Imada ,  Tohru Den ,  Tatsuya Saito

发明人： Aya Imada ,  Tohru Den ,  Tatsuya Saito

IPC分类号： B82B3/00 ,  B44C1/22 ,  C01F7/02 ,  C23C14/58 ,  C25D1/10 ,  C25D11/04 ,  C25D11/18 ,  G11B5/855

CPC分类号： C25D1/10 ,  C23C14/5853 ,  C23C14/5873 ,  C25D11/045 ,  C25D11/18 ,  G11B5/855

摘要： A process for producing a structure having a porous layer is provided. The process forms the porous layer with high thickness-controllability. The process comprises steps of preparing a layered product having, on a substrate, a first nonporous layer and a second nonporous layer different in constituting material composition from the first layer; anodizing the layered product to form pores in the first nonporous layer and the second nonporous layer; and removing the second nonporous layer having pores formed therein from the layered product.

摘要翻译： 提供了具有多孔层的结构体的制造方法。 该方法形成具有高厚度可控性的多孔层。 该方法包括以下步骤：制备在基材上具有与第一层不同的构成材料组成的第一无孔层和第二无孔层的层叠体; 阳极氧化层状产物以在第一无孔层和第二无孔层中形成孔; 并且从层叠体中除去其中形成有孔的第二无孔层。

公开(公告)号：US07455759B2

公开(公告)日：2008-11-25

申请号：US10543375

申请日：2004-08-10

申请人： Tatsuya Saito ,  Aya Imada ,  Tohru Den

发明人： Tatsuya Saito ,  Aya Imada ,  Tohru Den

IPC分类号： C25D11/04 ,  C23C28/00

CPC分类号： C25D11/24 ,  C25D11/045

摘要： An anodized coating suitable for formation of highly regulated pores is provided. A method for production of a structure having pores characterized by including the steps of: forming starting points at predetermined intervals in an aluminum alloy formed on a substrate, and forming pores by anodization with the starting points as origins. In another embodiment, first and second aluminum alloy layers are anodized to form pores penetrating into the layers, wherein a diameter of a pore in the first alloy is different from a diameter of a pore in the second alloy. In an additional embodiment, a substrate is anodized to form pores, wherein the substrate contains an additive which changes the diameter within each pore, the amount of the additive continuously changing along the direction perpendicular to the substrate.

摘要翻译： 提供适于形成高度调节的孔的阳极氧化涂层。 一种制造具有孔结构的方法，其特征在于包括以下步骤：在形成在基板上的铝合金中以预定间隔形成起点，并以起始点为阳极氧化形成孔。 在另一个实施例中，第一和第二铝合金层被阳极氧化以形成渗入层中的孔，其中第一合金中的孔的直径不同于第二合金中的孔的直径。 在另外的实施方案中，将基底阳极氧化以形成孔，其中所述基底含有改变每个孔内的直径的添加剂，所述添加剂的量沿垂直于所述基底的方向连续变化。

公开(公告)号：US07591641B2

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：US11367343

申请日：2006-03-06

申请人： Tatsuya Saito ,  Aya Imada ,  Tohru Den

发明人： Tatsuya Saito ,  Aya Imada ,  Tohru Den

IPC分类号： B29C59/00 ,  B28B7/38

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G11B5/855

摘要： A novel mold is provided. The mold is prepared through steps of forming a concavo-convex pattern on a substrate, forming a film by embedding a material of a composition having shape-memory in the concavo-convex pattern, and forming a mold having the concavo-convex pattern by separating the film from the concavo-convex pattern after the film formation in the film formation step.

摘要翻译： 提供了一种新颖的模具。 通过在基板上形成凹凸图案的步骤来制备模具，通过将具有形状记忆的组合物的材料嵌入凹凸图案中形成膜，并通过分离形成具有凹凸图案的模具 在成膜步骤中成膜后的凹凸图案的膜。

公开(公告)号：US07288203B2

公开(公告)日：2007-10-30

申请号：US11086423

申请日：2005-03-23

申请人： Aya Imada ,  Tohru Den ,  Tatsuya Saito

发明人： Aya Imada ,  Tohru Den ,  Tatsuya Saito

IPC分类号： B44C1/22 ,  G11B5/706

CPC分类号： C25D1/10 ,  C23C14/5853 ,  C23C14/5873 ,  C25D11/045 ,  C25D11/18 ,  G11B5/855

摘要： A process for producing a structure having a porous layer is provided. The process forms the porous layer with high thickness-controllability. The process comprises steps of preparing a layered product having, on a substrate, a first nonporous layer and a second nonporous layer different in constituting material composition from the first layer; anodizing the layered product to form pores in the first nonporous layer and the second nonporous layer; and removing the second nonporous layer having pores formed therein from the layered product.

摘要翻译： 提供了具有多孔层的结构体的制造方法。 该方法形成具有高厚度可控性的多孔层。 该方法包括以下步骤：制备在基材上具有与第一层不同的构成材料组成的第一无孔层和第二无孔层的层叠体; 阳极氧化层状产物以在第一无孔层和第二无孔层中形成孔; 并且从层叠体中除去其中形成有孔的第二无孔层。

公开(公告)号：US20060216413A1

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：US11367343

申请日：2006-03-06

申请人： Tatsuya Saito ,  Aya Imada ,  Tohru Den

发明人： Tatsuya Saito ,  Aya Imada ,  Tohru Den

IPC分类号： B29C59/02

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G11B5/855

摘要： A novel mold is provided. The mold is prepared through steps of forming concavo-convex pattern on substrate, forming a film by embedding material of a composition having shape-memory in the concavo-convex pattern, and forming mold having the concavo-convex pattern by separating the film from the concavo-convex pattern after the film formation in the film formation step.

摘要翻译： 提供了一种新颖的模具。 通过在基板上形成凹凸图案的步骤来制备模具，通过将具有形状记忆的组合物的材料嵌入凹凸图案中形成薄膜，以及通过将薄膜从该凹凸图案分离而形成具有凹凸图案的模具 在成膜步骤中成膜后的凹凸图案。

公开(公告)号：US20060194433A1

公开(公告)日：2006-08-31

申请号：US10543375

申请日：2004-08-10

申请人： Tatsuya Saito ,  Aya Imada ,  Tohru Den

发明人： Tatsuya Saito ,  Aya Imada ,  Tohru Den

IPC分类号： H01L21/44 ,  H01L23/48

CPC分类号： C25D11/24 ,  C25D11/045

摘要： An anodized coating suitable for formation of highly regulated pores is provided. A method for production of a structure having pores characterized by including the steps of: forming starting points at predetermined intervals in an aluminum alloy formed on a substrate; and forming pores by anodization with the starting points as origins.

摘要翻译： 提供适于形成高度调节的孔的阳极氧化涂层。 一种具有孔结构的方法，其特征在于包括以下步骤：在形成在基底上的铝合金中以预定间隔形成起始点; 并以起始点为起点通过阳极氧化形成孔。

公开(公告)号：US20060144812A1

公开(公告)日：2006-07-06

申请号：US10559966

申请日：2003-12-05

申请人： Aya Imada ,  Tohru Den

发明人： Aya Imada ,  Tohru Den

IPC分类号： B44C1/22

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C59/022 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： The present invention relates to a process for producing a structure having holes at prescribed positions. The structure is produced through steps of (A) providing an impressing member having protrusions, and a substrate, (B) forming a layer, on the substrate, from a material having a less strength than the impressing member, (C) forming depressions by impressing the impressing member on the layer corresponding to protrusions of the impressing member, (D) etching the layer to bare at least a part of the surface of the substrate, and (E) anodizing the substrate to form holes on the substrate.

公开(公告)号：US07636214B2

公开(公告)日：2009-12-22

申请号：US10540575

申请日：2004-02-06

申请人： Aya Imada ,  Tohru Den

发明人： Aya Imada ,  Tohru Den

IPC分类号： G11B5/09

CPC分类号： G02B6/1225 ,  B82Y10/00 ,  B82Y20/00 ,  C25D11/045 ,  G11B5/743 ,  G11B5/855

摘要： A nano structure having pore array structures in which a plurality of periodic arrays are formed adjacent to one another and a method of manufacturing the nano structure are provided. A nano structure having periodic array structures of pores formed in an anodized oxide film with a plurality of types of the periodic array structures arranged adjacent to one another is provided. Furthermore, a method of manufacturing a nano structure in which a plurality of periodic array structures formed in an anodized oxide film having different periods are arranged adjacent to one another, including (1) a step of forming pore starting points made up of a plurality of types of periodic arrays on the surface of a substrate comprised of aluminum as a principal component and (2) a step of anodizing the substrate simultaneously at the same anodization voltage is provided.

摘要翻译： 提供了具有孔阵列结构的纳米结构，其中多个周期性阵列彼此相邻地形成，并且提供了制造纳米结构的方法。 提供一种纳米结构，其具有在阳极化氧化膜中形成的孔的周期性阵列结构，其具有彼此相邻布置的多种类型的周期性阵列结构。 此外，制造其中在具有不同周期的阳极化氧化膜中形成的多个周期性阵列结构彼此相邻布置的纳米结构的方法，包括（1）形成由多个 提供了以铝为主要成分的基板表面上的周期性阵列的类型，以及（2）在同一阳极氧化电压下同时阳极氧化基板的步骤。