公开(公告)号：US20060209313A1

公开(公告)日：2006-09-21

申请号：US11084866

申请日：2005-03-21

申请人： Theodorus Van Den Akker ,  Martinus Hendricus Hoeks ,  Pieter De Jager ,  Lambertus Kessels ,  Marco Martinus Van Hassel ,  Frank Morselt

发明人： Theodorus Van Den Akker ,  Martinus Hendricus Hoeks ,  Pieter De Jager ,  Lambertus Kessels ,  Marco Martinus Van Hassel ,  Frank Morselt

IPC分类号： G06F3/12

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70508

摘要： A method and device for programming an array of individually controllable elements configured to impart a beam with a pattern. For example, the method can be suitable for use in a lithographic apparatus. The method comprises generating first data representing a first pattern, generating second data representing a second pattern, writing the first data to a first buffer, and reading the first data from the first buffer to program the array of individually controllable elements to display the first pattern, while writing the second data to a second buffer in parallel.

摘要翻译： 用于对被配置为赋予光束的图案的独立可控元件的阵列的编程的方法和装置。 例如，该方法可适用于光刻设备。 该方法包括产生表示第一图案的第一数据，产生表示第二图案的第二数据，将第一数据写入第一缓冲器，以及从第一缓冲器读取第一数据以对独立可控元件阵列进行编程以显示第一图案 同时将第二数据并行地写入第二缓冲器。

公开(公告)号：US20060187428A1

公开(公告)日：2006-08-24

申请号：US11061754

申请日：2005-02-18

申请人： Arno Bleeker ,  Dominicus Adrianus Franken ,  Martinus Hendricus Hoeks ,  Lambertus Kessels ,  Tobrjorn Sandstrom

发明人： Arno Bleeker ,  Dominicus Adrianus Franken ,  Martinus Hendricus Hoeks ,  Lambertus Kessels ,  Tobrjorn Sandstrom

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/70875

摘要： A lithographic apparatus provided with an array of individually controllable elements that is detachably mounted to mounting points on a support frame of the lithographic apparatus.

摘要翻译： 一种光刻设备，其设置有独立可控元件的阵列，其可拆卸地安装到光刻设备的支撑框架上的安装点。

公开(公告)号：US20060119815A1

公开(公告)日：2006-06-08

申请号：US11005231

申请日：2004-12-07

申请人： Dominicus Jacobus Franken ,  Arno Bleeker ,  Wilhelmus Box ,  Martinus Hendricus Hoeks ,  Henricus Tegenbosch ,  Kars Troost ,  Lambertus Kessels

发明人： Dominicus Jacobus Franken ,  Arno Bleeker ,  Wilhelmus Box ,  Martinus Hendricus Hoeks ,  Henricus Tegenbosch ,  Kars Troost ,  Lambertus Kessels

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70291

摘要： A system and method are used to allow for compensation of a thermal output of an array of individually controllable elements. This can be done by inputting control signals to the array when it is not being used to pattern a projection beam in order to maintain the temperature of the array. A heating element can be provided to maintain the temperature of the array. A thermal reservoir can be provided to maintain the temperature of the array or a cooling element can be provided to reduce the temperature of the array during use.

摘要翻译： 使用系统和方法来补偿单独可控元件阵列的热输出。 这可以通过在不使用阵列投影光束来控制阵列的温度时将控制信号输入到阵列来完成。 可以提供加热元件以保持阵列的温度。 可以提供热储存器以保持阵列的温度或者可以提供冷却元件以在使用期间降低阵列的温度。

公开(公告)号：US07145636B2

公开(公告)日：2006-12-05

申请号：US11022925

申请日：2004-12-28

申请人： Martinus Hendricus Hoeks

发明人： Martinus Hendricus Hoeks

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70508 ,  G03F7/70291

摘要： A lithographic method and apparatus used to pattern an object. An illumination source supplies a beam of radiation. A pattern generator forms a pattern to pattern a beam of radiation using the pattern data. A projection system projects the patterned beam onto a target portion of a substrate supported by a stage during an exposure operation. A control module determines a respective maximum operational parameter for the illumination source, the pattern generator, and/or the stage.

摘要翻译： 用于对对象进行图案化的光刻方法和装置。 照明源提供辐射束。 图案生成器使用图案数据形成用于对辐射束进行图案化的图案。 在曝光操作期间，投影系统将图案化的光束投射到由支撑的基板的目标部分上。 控制模块确定照明源，图案发生器和/或台的各自的最大操作参数。

公开(公告)号：US20070009146A1

公开(公告)日：2007-01-11

申请号：US11167918

申请日：2005-06-28

申请人： Martinus Hendricus Hoeks ,  Patricius Tinnemans

发明人： Martinus Hendricus Hoeks ,  Patricius Tinnemans

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06F17/50

CPC分类号： G03F7/70508 ,  G03F7/70291

摘要： A lithography apparatus with a data-path for converting a representation of a requested dose pattern to a sequence of control data suitable for controlling an array of individually controllable elements. The data path comprises a plurality of data manipulation devices and a calculation load controller for balancing a calculation load between the data manipulation devices. A device manufacturing method using elements of the lithography apparatus, and a flat panel display and integrated circuit device manufactured using the method.

摘要翻译： 一种具有数据路径的光刻设备，用于将请求的剂量图案的表示转换为适于控制单独可控元件的阵列的一系列控制数据。 数据路径包括多个数据操作装置和用于平衡数据操纵装置之间的计算负荷的计算负载控制器。 使用光刻设备的元件的器件制造方法，以及使用该方法制造的平板显示器和集成电路器件。

公开(公告)号：US07791710B2

公开(公告)日：2010-09-07

申请号：US11546905

申请日：2006-10-13

申请人： Martinus Hendricus Hoeks

发明人： Martinus Hendricus Hoeks

IPC分类号： G03B27/32 ,  G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70508 ,  G03F7/70291

摘要： A lithographic method and apparatus for determining operational parameters of a maskless lithography tool. In an embodiment, an amount of data in a datapath of the maskless lithography system is reduced. A maximum value of at least one operational parameter of the maskless lithography system is determined responsive to the reduced amount of data in the datapath.

摘要翻译： 一种用于确定无掩模光刻工具的操作参数的光刻方法和装置。 在一个实施例中，减少了无掩模光刻系统的数据通路中的数据量。 响应于数据路径中的数据量的减少来确定无掩模光刻系统的至少一个操作参数的最大值。