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公开(公告)号：US20060187428A1
公开(公告)日：2006-08-24
申请号：US11061754
申请日：2005-02-18
申请人： Arno Bleeker , Dominicus Adrianus Franken , Martinus Hendricus Hoeks , Lambertus Kessels , Tobrjorn Sandstrom
发明人： Arno Bleeker , Dominicus Adrianus Franken , Martinus Hendricus Hoeks , Lambertus Kessels , Tobrjorn Sandstrom
IPC分类号： G03B27/42
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70833 , G03F7/70875
摘要： A lithographic apparatus provided with an array of individually controllable elements that is detachably mounted to mounting points on a support frame of the lithographic apparatus.
摘要翻译： 一种光刻设备，其设置有独立可控元件的阵列，其可拆卸地安装到光刻设备的支撑框架上的安装点。
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公开(公告)号：US20050068510A1
公开(公告)日：2005-03-31
申请号：US10946333
申请日：2004-09-22
IPC分类号： G02B26/08 , G02B5/10 , G03F7/20 , H01L21/027 , G03B27/54
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/703 , G03F7/70783
摘要： One or more patterning arrays are mounted to a mounting plate via height adjustment structures that enable the flatness of the active surfaces of the patterning arrays to be controlled. The height adjustment structures may comprise an array of piezoelectric actuators or screws. Alternatively, the backside of the patterning means may be polished to optical flatness and bonded by crystal bonding to an optically flat surface of a rigid mounting body.
摘要翻译： 一个或多个图形阵列通过高度调节结构安装到安装板，使得能够控制图案化阵列的有效表面的平坦度。 高度调节结构可以包括压电致动器或螺钉的阵列。 或者，可以将图案形成装置的背面抛光到光学平面度，并通过晶体结合键合到刚性安装体的光学平坦表面。
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公开(公告)号：US20050105069A1
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：US10715828
申请日：2003-11-19
CPC分类号： G03F7/709 , G03F7/70258 , G03F7/70833
摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes an illumination system for providing a beam of radiation used to irradiate a patterning device, and a first support that supports the patterning device. The patterning device capable of patterning the beam of radiation. The apparatus also includes a second support that supports a substrate, a projection system for projecting the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a projection system positioning module that controls at least one of a position and an orientation of the projection system based on at least one of a velocity and an acceleration of the projection system.
摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括用于提供用于照射图案形成装置的辐射束的照明系统和支撑图案形成装置的第一支撑件。 能够图案化辐射束的图案形成装置。 该装置还包括支撑基板的第二支撑件，用于将图案化的辐射束投射到基板的目标部分上的投影系统，以及投影系统定位模块，其控制投影的位置和取向中的至少一个 基于投影系统的速度和加速度中的至少一个的系统。
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公开(公告)号：US20050105066A1
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：US10960784
申请日：2004-10-08
IPC分类号： G02B7/00 , G02B7/182 , G02B7/198 , G03B27/52 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70891 , G21K1/06 , G21K2201/065
摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system for providing a beam of radiation, and a support structure for supporting a patterning device. The patterning device serves to impart the projection beam with a pattern in its cross-section. The apparatus also includes a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate. At least one of the patterning device, or the projection system, and the illumination system includes a reflector assembly that includes a reflector substrate with a reflective surface for reflecting part of incident radiation, and a heat exchanger system that is constructed and arranged to exchange heat with the reflector substrate. The heat exchanger system includes a thermally active element that is disposed in a recess of the reflector substrate at a side of the reflector substrate that is different from the reflective surface.
摘要翻译： 光刻设备包括用于提供辐射束的照明系统和用于支撑图案形成装置的支撑结构。 图案形成装置用于使投影光束在其横截面上具有图案。 该装置还包括用于保持基板的基板台和用于将图案化的光束投影到基板的目标部分上的投影系统。 图案形成装置或投影系统中的至少一个以及照明系统包括反射器组件，该反射器组件包括具有用于反射入射辐射的一部分的反射表面的反射器基板，以及构造和布置成交换热量的热交换器系统 与反射器基板。 热交换器系统包括热活性元件，该热活性元件设置在反射器基板的与反射表面不同的一侧的凹部中。
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