公开(公告)号：US20110117499A1

公开(公告)日：2011-05-19

申请号：US12824089

申请日：2010-06-25

申请人： Tasuku MATSUMIYA ,  Daiju SHIONO ,  Tomoyuki HIRANO ,  Takahiro DAZAI

发明人： Tasuku MATSUMIYA ,  Daiju SHIONO ,  Tomoyuki HIRANO ,  Takahiro DAZAI

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  C08F18/20

CPC分类号： C09D133/16 ,  C08F220/24 ,  C08F2438/00 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  C08L33/08 ,  C08L33/16 ,  C08L53/02 ,  C08F220/18

摘要： A fluorine-containing polymeric compound which contains a structural unit (f1) that is decomposable in an alkali developing solution as a block copolymer portion, a base component (A) that exhibits increased solubility in an alkali developing solution under the action of acid, and an acid generator component (B) that generates acid upon exposure.

摘要翻译： 含有可在碱性显影液中作为嵌段共聚物部分分解的结构单元（f1）的含氟聚合物，在酸性作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解性的碱成分（A），以及 酸性发生剂组分（B），其在暴露时产生酸。

公开(公告)号：US20100081086A1

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：US12568549

申请日：2009-09-28

申请人： Tomoyuki HIRANO ,  Takahiro DAZAI ,  Daiju SHIONO ,  Tasuku MATSUMIYA

发明人： Tomoyuki HIRANO ,  Takahiro DAZAI ,  Daiju SHIONO ,  Tasuku MATSUMIYA

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F24/00

CPC分类号： C08F220/28 ,  C08F220/26 ,  C08F220/68 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

摘要： A positive resist composition including a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under action of acid and an acid-generator component (B) which generates acid upon exposure, the base component (A) including a polymeric compound (A1′) containing an acid dissociable, dissolution inhibiting group within the structure thereof and including a structural unit (a0) represented by general formula (a0-1) (R2 represents a divalent linking group, and A″ represents an oxygen atom, a sulfur atom, or an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom) and a structural unit (a2) derived from an acrylate ester containing a lactone-containing cyclic group; or a polymeric compound (Al) including the structural unit (a0) and a structural unit (al) derived from an acrylate ester containing an acid dissociable, dissolution inhibiting group.

摘要翻译： 一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸的作用下在碱性显影液中显示出增加的溶解度的碱成分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），所述碱成分（A）包含高分子化合物 A1'），其包含在其结构内含有酸解离的溶解抑制基团，并且包含由通式（a0-1）表示的结构单元（a0）（R2表示二价连接基团，A“表示氧原子，硫 原子或可含有氧原子或硫原子的1〜5个碳原子的亚烷基）和由含有内酯的环状基团的丙烯酸酯衍生的结构单元（a2） 或包含结构单元（a0）的聚合化合物（A1）和由含有酸解离的溶解抑制基团的丙烯酸酯衍生的结构单元（a1）。

公开(公告)号：US20110244399A1

公开(公告)日：2011-10-06

申请号：US13028594

申请日：2011-02-16

申请人： Tomoyuki HIRANO ,  Takahiro DAZAI ,  Daiju SHIONO

发明人： Tomoyuki HIRANO ,  Takahiro DAZAI ,  Daiju SHIONO

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： C08F20/10 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： A method of forming a resist pattern, including: forming a resist film on a substrate using a resist composition containing a base component (A) which exhibits decreased solubility in an organic solvent under action of an acid and an acid-generator component (B) which generates an acid upon exposure, conducting exposure of the resist film, and patterning the resist film by a negative tone development using a developing solution containing an organic solvent, wherein the base component (A) includes a resin component (A1) containing a structural unit (a1) derived from an acrylate ester containing an acid decomposable group which exhibits increased hydrophilicity by the action of an acid and a structural unit (a0) derived from an acrylate ester containing an —SO2— containing cyclic group.

摘要翻译： 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括：使用含有在酸和酸发生剂组分（B）的作用下在有机溶剂中表现出降低的溶解度的碱成分（A）的抗蚀剂组合物在基材上形成抗蚀剂膜， 其在曝光时产生酸，曝光抗蚀剂膜，并使用含有有机溶剂的显影液通过负色调显影对抗蚀剂膜进行图案化，其中所述基础组分（A）包括含有结构 来自含有酸分解性基团的丙烯酸酯的丙烯酸酯单元（a1），其通过酸的作用显示增加的亲水性和由含有-SO 2 - 的环状基团的丙烯酸酯衍生的结构单元（a0）。

公开(公告)号：US20110262864A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US13028689

申请日：2011-02-16

申请人： Tomoyuki HIRANO ,  Takahiro DAZAI ,  Daiju SHIONO ,  Sho ABE

发明人： Tomoyuki HIRANO ,  Takahiro DAZAI ,  Daiju SHIONO ,  Sho ABE

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

摘要： A method of forming a resist pattern, including: forming a resist film on a substrate using a resist composition containing a base component (A) which exhibits decreased solubility in an organic solvent under action of an acid and an acid-generator component (B) which generates an acid upon exposure, conducting exposure of the resist film, and patterning the resist film by a negative tone development using a developing solution containing an organic solvent, wherein the base component (A) includes a resin component (A1) containing a structural unit (a0) derived from an acrylate ester containing an acid decomposable group which generates an alcoholic hydroxy group by the action of acid to thereby exhibit increased hydrophilicity.

摘要翻译： 一种形成抗蚀剂图案的方法，包括：使用含有在酸和酸发生剂组分（B）的作用下在有机溶剂中表现出降低的溶解度的碱成分（A）的抗蚀剂组合物在基材上形成抗蚀剂膜， 其在曝光时产生酸，曝光抗蚀剂膜，并使用含有有机溶剂的显影液通过负色调显影对抗蚀剂膜进行图案化，其中所述基础组分（A）包括含有结构 单元（a0）衍生自含有通过酸作用产生醇羟基的可酸分解基团的丙烯酸酯，从而表现出增加的亲水性。

公开(公告)号：US20100248148A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：US12814356

申请日：2010-06-11

申请人： Takahiro DAZAI ,  Takayoshi MORI ,  Hiroaki SHIMIZU ,  Kyoko OHSHITA

发明人： Takahiro DAZAI ,  Takayoshi MORI ,  Hiroaki SHIMIZU ,  Kyoko OHSHITA

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F232/08 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  Y10S430/111

摘要： There is provided a positive resist composition including a resin component (A) which displays increased solubility in an alkali developing solution under action of acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the resin component (A) includes a polymer compound (A1) containing a structural unit (a0) represented by a general formula (a0-1) shown below, and a structural unit (a1) derived from an acrylate ester which has an acid dissociable, dissolution inhibiting group: (in the formula (a0-1), R represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a halogenated lower alkyl group; two of R′ each independently represents a hydrogen atom, a lower alkyl group, or an alkoxy group of 1 to 5 carbon atoms; X represents an alkylene group of 1 to 5 carbon atoms, an oxygen atom, or a sulfur atom.).

摘要翻译： 提供一种正性抗蚀剂组合物，其包含在酸作用下在碱性显影液中显示增加的溶解性的树脂组分（A）和暴露时产生酸的酸产生剂组分（B），其中树脂组分（A） 包括含有下述通式（a0-1）表示的结构单元（a0）的高分子化合物（A1）和来自具有酸解离性，溶解抑制基团的丙烯酸酯的结构单元（a1）（ 在式（a0-1）中，R表示氢原子，低级烷基或卤代低级烷基; R'两个各自独立地表示氢原子，低级烷基或烷氧基， 5个碳原子; X表示1至5个碳原子的亚烷基，氧原子或硫原子）。