公开(公告)号：US07348122B2

公开(公告)日：2008-03-25

申请号：US11511375

申请日：2006-08-29

申请人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

发明人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/022 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/40

摘要： A photosensitive resin composition comprising: a quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol compound represented by formula (I) as defined in the specification; and a polybenzoxazole precursor, and a method for manufacturing a semiconductor device using the same

摘要翻译： 一种光敏树脂组合物，其包含：如说明书中定义的由式（I）表示的酚化合物的醌二叠氮磺酸酯; 和聚苯并恶唑前体，以及使用其制造半导体器件的方法

公开(公告)号：US08530003B2

公开(公告)日：2013-09-10

申请号：US13352589

申请日：2012-01-18

申请人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

发明人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

IPC分类号： C08J7/04 ,  C08G61/12 ,  H01L21/31 ,  G03C1/00

CPC分类号： H01L21/02118 ,  C08F2/50 ,  C08G69/48 ,  C08G73/22 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/037 ,  H01L21/312

摘要： A polybenzoxazole precursor is represented by the following formula (1): wherein R1a to R4a, R1b to R4b, X1, Y1 and m are defined in the specification.

摘要翻译： 聚苯并恶唑前体由下式（1）表示：其中R1a至R4a，R1b至R4b，X1，Y1和m在本说明书中定义。

公开(公告)号：US07371501B2

公开(公告)日：2008-05-13

申请号：US11715883

申请日：2007-03-09

申请人： Tsukasa Yamanaka ,  Kenichiro Sato

发明人： Tsukasa Yamanaka ,  Kenichiro Sato

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0233

摘要： A photosensitive resin composition comprises: a polybenzoxazole precursor (A); a naphthoquinone diazide photosensitizer (B); and a specific phenolic hydroxyl group-containing compound (C).

摘要翻译： 光敏树脂组合物包含：聚苯并恶唑前体（A）; 萘醌二氮嗪光敏剂（B）; 和特定的含酚羟基的化合物（C）。

公开(公告)号：US07252924B2

公开(公告)日：2007-08-07

申请号：US10801723

申请日：2004-03-17

申请人： Tsukasa Yamanaka ,  Kenichiro Sato

发明人： Tsukasa Yamanaka ,  Kenichiro Sato

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40 ,  Y10S430/114

摘要： A positive resist composition comprising: at least two resins which differ in glass transition temperature by at least 5° C.; and a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, wherein each of the two resins comprises at least either of a repeating unit derived from an acrylic acid derivative monomer and a repeating unit derived from an methacrylic acid derivative monomer and further comprises an alicyclic structure and at least one group that increases a solubility of the resin in alkaline developer by the action of an acid.

摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含：玻璃化转变温度不同至少5℃的至少两种树脂; 以及在用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物，其中两种树脂中的每一种包含衍生自丙烯酸衍生物单体的重复单元和衍生自甲基丙烯酸衍生物单体的重复单元中的至少一种，并且还包含 脂环结构和至少一个通过酸作用增加树脂在碱性显影剂中的溶解度的基团。

公开(公告)号：US20070166643A1

公开(公告)日：2007-07-19

申请号：US11645554

申请日：2006-12-27

申请人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka ,  Tomotaka Tsuchimura

发明人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka ,  Tomotaka Tsuchimura

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/40

摘要： A positive photosensitive resin composition, which contains a polybenzoxazole precursor capable of increasing alkali solubility by an action of an acid, a triarylsulfonium salt and a sensitizer; and a method of manufacturing a semiconductor device using the composition.

摘要翻译： 一种正型感光性树脂组合物，其含有能够通过酸，三芳基锍盐和敏化剂的作用增加碱溶解性的聚苯并恶唑前体; 以及使用该组合物制造半导体器件的方法。

公开(公告)号：US08133550B2

公开(公告)日：2012-03-13

申请号：US11855302

申请日：2007-09-14

申请人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

发明人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

IPC分类号： C08J7/04 ,  G03F7/00 ,  G03F7/26

CPC分类号： H01L21/02118 ,  C08F2/50 ,  C08G69/48 ,  C08G73/22 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/037 ,  H01L21/312

摘要： A polybenzoxazole precursor is represented by the following formula (1): wherein R1a to R4a, R1b to R4b, X1, Y1 and m are defined in the specification.

摘要翻译： 聚苯并恶唑前体由下式（1）表示：其中R1a至R4a，R1b至R4b，X1，Y1和m在本说明书中定义。

公开(公告)号：US07615331B2

公开(公告)日：2009-11-10

申请号：US11851751

申请日：2007-09-07

申请人： Tsukasa Yamanaka ,  Kenichiro Sato

发明人： Tsukasa Yamanaka ,  Kenichiro Sato

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/40

摘要： A photosensitive resin composition contains: a polymer represented by the formula (I) as defined herein, in which 0.5 mol % or more of A in the polymer represented by the formula (I) is a protective group; a photosensitizing agent; a compound containing a methacryloyl or acryloyl group within a molecule of the compound; and a solvent.

摘要翻译： 感光性树脂组合物含有：由式（I）表示的聚合物中的0.5mol％以上的A为保护基的式（I）所示的聚合物， 光敏剂; 在化合物的分子内含有甲基丙烯酰基或丙烯酰基的化合物的化合物; 和溶剂。

公开(公告)号：US07368216B2

公开(公告)日：2008-05-06

申请号：US11655905

申请日：2007-01-22

申请人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

发明人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0233

摘要： A positive photosensitive resin composition, which contains a polybenzoxazole precursor, a quinonediazide photosensitizer and a carbonate solvent, and a method of manufacturing a semiconductor device using the composition.

摘要翻译： 含有聚苯并恶唑前体，醌二叠氮化物光敏剂和碳酸酯溶剂的正型感光性树脂组合物以及使用该组合物的半导体装置的制造方法。

公开(公告)号：US20070212899A1

公开(公告)日：2007-09-13

申请号：US11715883

申请日：2007-03-09

申请人： Tsukasa Yamanaka ,  Kenichiro Sato

发明人： Tsukasa Yamanaka ,  Kenichiro Sato

IPC分类号： H01L21/469 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/0233

摘要： A photosensitive resin composition comprises: a polybenzoxazole precursor (A); a naphthoquinone diazide photosensitizer (B); and a specific phenolic hydroxyl group-containing compound (C).

摘要翻译： 光敏树脂组合物包含：聚苯并恶唑前体（A）; 萘醌二氮嗪光敏剂（B）; 和特定的含酚羟基的化合物（C）。

公开(公告)号：US20070172753A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：US11655905

申请日：2007-01-22

申请人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

发明人： Kenichiro Sato ,  Tsukasa Yamanaka

IPC分类号： G03C5/18

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0233

摘要： A positive photosensitive resin composition, which contains a polybenzoxazole precursor, a quinonediazide photosensitizer and a carbonate solvent, and a method of manufacturing a semiconductor device using the composition.

摘要翻译： 含有聚苯并恶唑前体，醌二叠氮化物光敏剂和碳酸酯溶剂的正型感光性树脂组合物以及使用该组合物的半导体装置的制造方法。