公开(公告)号：US20120080061A1

公开(公告)日：2012-04-05

申请号：US13242442

申请日：2011-09-23

申请人： Young-Hoo Kim ,  Kun-Tack Lee ,  Seung-Yul Park ,  Yong-Bum Kwon

发明人： Young-Hoo Kim ,  Kun-Tack Lee ,  Seung-Yul Park ,  Yong-Bum Kwon

IPC分类号： B08B3/10 ,  B08B11/00 ,  F26B7/00 ,  B08B3/02

CPC分类号： H01L21/67034 ,  F26B5/005 ,  F26B5/08 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67028

摘要： Example embodiments relate to an apparatus for drying a substrate. The apparatus may include a housing including first barrier walls having a first height, a rotary chuck that is disposed within the housing and configured to rotate the substrate, a nozzle system that is disposed above the rotary chuck and configured to supply a fluid onto the substrate, a cleaning liquid supply unit supplying a cleaning liquid for cleaning the substrate to the nozzle system, and a drying liquid supply unit supplying a drying liquid for drying the substrate to the nozzle system.

摘要翻译： 示例性实施例涉及用于干燥基底的装置。 该装置可以包括壳体，该壳体包括具有第一高度的第一阻挡壁，设置在壳体内并被配置为使基板旋转的旋转卡盘，布置在旋转卡盘上方并构造成将流体供应到基板上的喷嘴系统 向所述喷嘴系统供给清洗所述基板的清洗液的清洗液供给单元，以及向所述喷嘴系统供给干燥所述基板的干燥液的干燥液供给单元。

公开(公告)号：US20060292817A1

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：US11452409

申请日：2006-06-14

申请人： Cheol-Woo Park ,  Yong-Sun Ko ,  Byoung-Moon Yoon ,  Kyung-Hyun Kim ,  Kwang-Wook Lee ,  Chang-Gil Ryu ,  Sung-Ho Ha ,  Woo-Suck Song ,  Yong-Myung Jun ,  Seung-Yul Park

发明人： Cheol-Woo Park ,  Yong-Sun Ko ,  Byoung-Moon Yoon ,  Kyung-Hyun Kim ,  Kwang-Wook Lee ,  Chang-Gil Ryu ,  Sung-Ho Ha ,  Woo-Suck Song ,  Yong-Myung Jun ,  Seung-Yul Park

IPC分类号： H01L21/20

CPC分类号： H01L21/02068 ,  H01L27/10817 ,  H01L27/10852 ,  H01L28/91

摘要： In a method of processing a semiconductor structure and a method of forming a capacitor for a semiconductor device using the same, a semiconductor structure may be cleaned using a cleaning solution having a surface tension lower than that of water. The semiconductor structure may be dried in an isopropyl alcohol vapor atmosphere.

摘要翻译： 在半导体结构的处理方法和使用其的半导体器件的电容器的形成方法中，可以使用表面张力低于水的清洗液来清洗半导体结构。 半导体结构可以在异丙醇蒸气气氛中干燥。