公开(公告)号：US07569323B2

公开(公告)日：2009-08-04

申请号：US11492957

申请日：2006-07-26

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai ,  Masayuki Endo ,  Masaru Sasago ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai ,  Masayuki Endo ,  Masaru Sasago ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G03F7/30

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A resist protective coating material is provided comprising an α-trifluoromethylacrylic acid/norbornene copolymer having cyclic perfluoroalkyl groups as pendant. In a pattern-forming process, the material forms on a resist film a protective coating which is water-insoluble, dissolvable in alkaline developer and immiscible with the resist film, allowing for effective implementation of immersion lithography.

摘要翻译： 提供抗蚀剂保护涂层材料，其包含具有环状全氟烷基的α-三氟甲基丙烯酸/降冰片烯共聚物作为侧基。 在图案形成过程中，材料在抗蚀剂膜上形成保护性涂层，其是不溶于水的，可溶于碱性显影剂中并且与抗蚀剂膜不混溶，从而有​​效地实施浸渍光刻。

公开(公告)号：US06872514B2

公开(公告)日：2005-03-29

申请号：US10395256

申请日：2003-03-25

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Kazuhiko Maeda ,  Michitaka Ootani ,  Haruhiko Komoriya

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Kazuhiko Maeda ,  Michitaka Ootani ,  Haruhiko Komoriya

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  C08F12/30 ,  C08F114/18 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/115

摘要： A resist composition comprising a base polymer having a fluorinated sulfonate or fluorinated sulfone introduced therein is sensitive to high-energy radiation below 300 nm, has excellent transparency, contrast and adherence, and is suited for lithographic microprocessing.

摘要翻译： 包含其中引入氟化磺酸盐或氟化砜的基础聚合物的抗蚀剂组合物对于300nm以下的高能辐射敏感，具有优异的透明度，对比度和粘附性，并且适用于光刻微处理。

公开(公告)号：US07378218B2

公开(公告)日：2008-05-27

申请号：US11345325

申请日：2006-02-02

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/32

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A fluorinated polymer comprising recurring units of formulae (1a) to (1d) and having a Mw of 1,000-500,000 is provided. R1 is an acid labile group, R2 is a single bond or methylene, a1, a2, a3, and a4 are numbers from more than 0 to less than 1, and 0

摘要翻译： 提供了包含式（1a）至（1d）的重复单元并且Mw为1,000-500,000的含氟聚合物。 R 1是酸不稳定基团，R 2是单键或亚甲基，a1，a2，a3和a4是大于0至小于1的数， 并且0

公开(公告)号：US20060269871A1

公开(公告)日：2006-11-30

申请号：US11440126

申请日：2006-05-25

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer comprising recurring units of formula (1) wherein R1 is F or fluoroalkyl, R2 is alkylene or fluoroalkylene, and R3 is an acid labile group and having a Mw of 1,000-500,000 is used to formulate a resist composition, which is processed by the lithography involving ArF exposure and offers many advantages including resolution, minimal line edge roughness, etch resistance, and minimal surface roughness after etching. The composition performs well when processed by the ArF immersion lithography with liquid interposed between the projection lens and the wafer.

摘要翻译： 包含式（1）的重复单元的聚合物，其中R 1是F或氟代烷基，R 2是亚烷基或氟代亚烷基，R 3是 使用Mw为1,000-500,000的酸不稳定基团来配制抗蚀剂组合物，其通过涉及ArF曝光的光刻进行处理，并提供许多优点，包括分辨率，最小线边缘粗糙度，耐蚀刻性和蚀刻后的最小表面粗糙度 。 当通过ArF浸没式光刻法处理介于投影透镜和晶片之间的液体时，组合物表现良好。

公开(公告)号：US20060177765A1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：US11345325

申请日：2006-02-02

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/26 ,  C08F220/28 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A fluorinated polymer comprising recurring units of formulae (1a) to (1d) and having a Mw of 1,000-500,000 is provided. R1 is an acid labile group, R2 is a single bond or methylene, a1, a2, a3, and a4 are numbers from more than 0 to less than 1, and 0

摘要翻译： 提供了包含式（1a）至（1d）的重复单元并且Mw为1,000-500,000的含氟聚合物。 R 1是酸不稳定基团，R 2是单键或亚甲基，a1，a2，a3和a4是大于0至小于1的数， 并且0

公开(公告)号：US06855477B2

公开(公告)日：2005-02-15

申请号：US10256141

申请日：2002-09-27

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Haruhiko Komoriya ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Haruhiko Komoriya ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

摘要： A chemically amplified resist composition comprising (A) a polymer comprising recurring units containing at least one fluorine atom, (B) a compound of formula (1) wherein R1 and R2 are H, F or alkyl or fluorinated alkyl, at least one of R1 and R2 contains at least one fluorine atom, R3 is a single bond or alkylene, R4 is a n-valent aromatic or cyclic diene group, R5 is H or C(═O)R6, R6 is H or methyl, and n is 2, 3 or 4, (C) an organic solvent, and (D) a photoacid generator is sensitive to high-energy radiation and has improved sensitivity and transparency at a wavelength of less than 200 nm.

摘要翻译： 一种化学放大抗蚀剂组合物，其包含（A）包含含有至少一个氟原子的重复单元的聚合物，（B）式（1）的化合物，其中R 1和R 2为H，F或烷基或氟化烷基 ，R 1和R 2中的至少一个含有至少一个氟原子，R 3是单键或亚烷基，R 4是n价的芳族或环状二烯基，R 5 >为H或C（= O）R 6，R 6为H或甲基，n为2,3或4，（C）有机溶剂，（D）光致酸发生剂对高 能量辐射，并且在小于200nm的波长下具有改善的灵敏度和透明度。

公开(公告)号：US20070026341A1

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：US11492957

申请日：2006-07-26

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai ,  Masayuki Endo ,  Masaru Sasago ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai ,  Masayuki Endo ,  Masaru Sasago ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A resist protective coating material is provided comprising an α-trifluoromethylacrylic acid/norbornene copolymer having cyclic perfluoroalkyl groups as pendant. In a pattern-forming process, the material forms on a resist film a protective coating which is water-insoluble, dissolvable in alkaline developer and immiscible with the resist film, allowing for effective implementation of immersion lithography.

摘要翻译： 提供抗蚀剂保护涂层材料，其包含具有环状全氟烷基的α-三氟甲基丙烯酸/降冰片烯共聚物作为侧基。 在图案形成过程中，材料在抗蚀剂膜上形成保护性涂层，其是不溶于水的，可溶于碱性显影剂中并且与抗蚀剂膜不混溶，从而有​​效地实施浸渍光刻。

公开(公告)号：US07666967B2

公开(公告)日：2010-02-23

申请号：US11606069

申请日：2006-11-30

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： C08F214/18

CPC分类号： C07D307/93 ,  C07D409/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A polymer comprising recurring units (2) obtained through polymerization of an ester compound of formula (1) is used to form a resist composition. R1 is F or C1-C6 fluoroalkyl, R2 is H or C1-C8 alkyl, R3 is O or C1-C6 alkylene, R4 and R5 each are H or C1-C10 alkyl or fluoroalkyl, and R6 is H or an acid labile group. The resist composition, when processed by ArF lithography, has advantages including improved resolution, transparency, minimal line edge roughness, and etch resistance. The resist composition exhibits better performance when processed by ArF immersion lithography with liquid interposed between a projection lens and a wafer.

摘要翻译： 使用包含通过聚合式（1）的酯化合物获得的重复单元（2）的聚合物来形成抗蚀剂组合物。 R 1是F或C 1 -C 6氟代烷基，R 2是H或C 1 -C 8烷基，R 3是O或C 1 -C 6亚烷基，R 4和R 5各自是H或C 1 -C 10烷基或氟代烷基，R 6是H或酸不稳定基团 。 当通过ArF光刻处理时，抗蚀剂组合物具有改进的分辨率，透明度，最小的线边缘粗糙度和耐蚀刻性的优点。 当通过ArF浸没式光刻法处理介于投影透镜和晶片之间的液体时，抗蚀剂组合物表现出更好的性能。

公开(公告)号：US07488567B2

公开(公告)日：2009-02-10

申请号：US11440126

申请日：2006-05-25

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

摘要： A polymer comprising recurring units of formula (1) wherein R1 is F or fluoroalkyl, R2 is alkylene or fluoroalkylene, and R3 is an acid labile group and having a Mw of 1,000-500,000 is used to formulate a resist composition, which is processed by the lithography involving ArF exposure and offers many advantages including resolution, minimal line edge roughness, etch resistance, and minimal surface roughness after etching. The composition performs well when processed by the ArF immersion lithography with liquid interposed between the projection lens and the wafer.

摘要翻译： 一种包含式（1）的重复单元的聚合物，其中R1是F或氟代烷基，R2是亚烷基或氟代亚烷基，R3是酸不稳定基团，Mw为1,000-500,000，用于配制抗蚀剂组合物， 涉及ArF曝光的光刻技术提供许多优点，包括分辨率，最小线边缘粗糙度，耐蚀刻性和蚀刻后的最小表面粗糙度。 当通过ArF浸没式光刻法处理介于投影透镜和晶片之间的液体时，组合物表现良好。

公开(公告)号：US20070128555A1

公开(公告)日：2007-06-07

申请号：US11606069

申请日：2006-11-30

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani

IPC分类号： C08L31/00 ,  G03C5/00 ,  C07D307/94

CPC分类号： C07D307/93 ,  C07D409/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A polymer comprising recurring units (2) obtained through polymerization of an ester compound of formula (1) is used to form a resist composition. R1 is F or C1-C6 fluoroalkyl, R2 is H or C1-C8 alkyl, R3 is O or C1-C6 alkylene, R4 and R5 each are H or C1-C10 alkyl or fluoroalkyl, and R6 is H or an acid labile group. The resist composition, when processed by ArF lithography, has advantages including improved resolution, transparency, minimal line edge roughness, and etch resistance. The resist composition exhibits better performance when processed by ArF immersion lithography with liquid interposed between a projection lens and a wafer.

摘要翻译： 使用包含通过聚合式（1）的酯化合物获得的重复单元（2）的聚合物来形成抗蚀剂组合物。 R 1是F或C 1 -C 6氟代烷基，R 2是H或C 1 C 3 -C 8烷基，R 3是O或C 1 -C 6亚烷基，R 4和5以及R 5各自为H或C 1 -C 10烷基或氟代烷基，R“ 6是H或酸不稳定基团。 当通过ArF光刻处理时，抗蚀剂组合物具有改进的分辨率，透明度，最小的线边缘粗糙度和耐蚀刻性的优点。 当通过ArF浸没式光刻法处理介于投影透镜和晶片之间的液体时，抗蚀剂组合物表现出更好的性能。