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    Color filter and liquid crystal display
    1.
    发明授权
    Color filter and liquid crystal display 有权
    彩色滤光片和液晶显示屏

    公开(公告)号：US06455208B1

    公开(公告)日：2002-09-24

    申请号：US09559399

    申请日：2000-04-26

    申请人： Yuka Yamashiki ,  Masuichi Eguchi ,  Takuo Watanabe ,  Jun Tsukamoto

    发明人： Yuka Yamashiki ,  Masuichi Eguchi ,  Takuo Watanabe ,  Jun Tsukamoto

    IPC分类号： G02B520

    CPC分类号： G02F1/133514 ,  G02B5/223 ,  G02F1/133516

    摘要： An object of the present invention is to provide a liquid crystal display exhibiting excellent display performance. The object of the present invention is achieved by a colored polymer thin film having an average refractive index of 1.60 to 1.90, and an absolute value of birefringence of 0.01 or less, and a color filter and a liquid crystal display using the colored polymer thin film. The color filter using the colored polymer thin film of the present invention exhibits reduced retardation, and can thus provide a liquid crystal display exhibiting excellent display performance.

    摘要翻译： 本发明的目的是提供一种显示出优异的显示性能的液晶显示器。 本发明的目的是通过平均折射率为1.60〜1.90，双折射的绝对值为0.01以下的着色聚合物薄膜和使用有色聚合物薄膜的滤色器和液晶显示器来实现的 。 使用本发明的着色聚合物薄膜的滤色器显示出减少的延迟，并且因此可以提供显示出优异的显示性能的液晶显示器。

    Black composition, black coating composition, resin black matrix, color filter for liquid crystal display and liquid crystal display
    3.
    发明授权
    Black composition, black coating composition, resin black matrix, color filter for liquid crystal display and liquid crystal display 有权
    黑色组合物，黑色涂料组合物，树脂黑色矩阵，液晶显示器用彩色滤光片和液晶显示器

    公开(公告)号：US08476351B2

    公开(公告)日：2013-07-02

    申请号：US10575776

    申请日：2004-10-14

    申请人： Masahiro Yoshioka ,  Ryo Nagase ,  Masaya Tsujii ,  Masuichi Eguchi

    发明人： Masahiro Yoshioka ,  Ryo Nagase ,  Masaya Tsujii ,  Masuichi Eguchi

    IPC分类号： C08K3/10 ,  C08K3/04 ,  C08F8/00

    CPC分类号： C09D133/06 ,  G02B5/201 ,  Y10T428/10

    摘要： A black coating composition which gives a highly adhesive resin black matrix that exhibits a high OD value which was able to be attained only by metal thin film black matrices is disclosed. The black coating composition comprises as indispensable components a titanium nitride oxide and a resin. The X-ray intensity ratios R1 and R2 of the titanium nitride oxide represented by the Equations (1) and (2) below, respectively, satisfy the relationships represented by Formulae (3) and (4) below: R1=I3/{I3+1.8(I1+1.8I2)}  (1) R2=I2/I1  (2) R1>0.70  (3) 0.85

    摘要翻译： 公开了一种黑色涂料组合物，其赋予仅能通过金属薄膜黑色矩阵获得的具有高OD值的高粘合性树脂黑色矩阵。 黑色涂料组合物包含氮化钛和树脂作为不可缺少的组分。 由下式（1）和（2）表示的氮氧化钛的X射线强度比R1和R2分别满足下式（3）和（4）所示的关系：R1 = I3 / {I3 +1.8（I1 + 1.8I2）}（1）R2 = I2 / I1（2）R1> 0.70（3）0.85

    Photosensitive polyimide precursor compositions and process for preparing same
    5.
    发明授权
    Photosensitive polyimide precursor compositions and process for preparing same 失效
    感光聚酰亚胺前体组合物及其制备方法

    公开(公告)号：US5310862A

    公开(公告)日：1994-05-10

    申请号：US926766

    申请日：1992-08-06

    申请人： Hideshi Nomura ,  Masuichi Eguchi ,  Masaya Asano

    发明人： Hideshi Nomura ,  Masuichi Eguchi ,  Masaya Asano

    IPC分类号： B65B55/08 ,  G03F7/037 ,  G03F7/038 ,  C08G69/26 ,  C08G73/12

    CPC分类号： G03F7/037 ,  G03F7/0387

    摘要： A photosensitive polyimide precursor composition containing as main ingredients a poly(amic acid) wherein at least one molecular end is esterified with an alcohol, a compound containing carbon-carbon unsaturation having photoreactivity, and a photopolymerization initiator.The photosensitive polyimide precursor composition of the present invention can be prepared without the formation of any harmful by-product. When film formed from this composition is masked for patterning and then subjected to exposure and development using a developer, the amount of exposed portion dissolved in the developer until unexposed portion is dissolved off by the developer, is small and so it is possible to obtain a thick pattern. Further, by heat-treating this pattern, there can be obtained a thick polyimide pattern.

    摘要翻译： 作为主要成分的感光性聚酰亚胺前体组合物，其中至少一个分子末端用醇酯化，含有具有光反应性的碳 - 碳不饱和键的化合物和光聚合引发剂的聚（酰胺酸）。 可以制备本发明的光敏聚酰亚胺前体组合物，而不会形成任何有害的副产物。 当由该组合物形成的膜被掩模以进行图案化，然后使用显影剂进行曝光和显影时，溶解在显影剂中的暴露部分的量直到未曝光部分被显影剂溶解掉，因此可以获得 厚图案。 此外，通过热处理该图案，可以获得厚的聚酰亚胺图案。

    Waterless planographic printing plate precursor
    6.
    发明授权
    Waterless planographic printing plate precursor 有权
    无水平版印刷版前体

    公开(公告)号：US08617793B2

    公开(公告)日：2013-12-31

    申请号：US12513513

    申请日：2007-11-01

    申请人： Akihiro Iihara ,  Mitsuru Suezawa ,  Masuichi Eguchi

    发明人： Akihiro Iihara ,  Mitsuru Suezawa ,  Masuichi Eguchi

    IPC分类号： G03F7/00

    CPC分类号： B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/16 ,  B41N1/003 ,  B41N1/14 ,  G03F7/0752

    摘要： A waterless planographic printing plate precursor is capable of plate inspection without a post-dyeing step, capable of being handled in a light room and excellent in coloring matter fixing in silicone rubber layer. The waterless planographic printing plate precursor has at least a photosensitive layer or heat sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, which is a waterless planographic printing plate precursor characterized in that a color pigment is contained in the above-mentioned silicone rubber layer, and it is possible to obtain a more excellent effect by further incorporating, in the above-mentioned silicone rubber layer, a pigment dispersant containing an organic complex compound comprising of a metal and an organic compound. Furthermore, when aluminum and/or titanium is contained as the above-mentioned metal, a more excellent effect can be obtained.

    摘要翻译： 无水平版印刷版原版能够进行平板检查，无需后染色步骤，能够在光室中处理，并且硅胶橡胶层中的着色剂固色性优异。 无水平版印刷版原版具有至少一层感光层或热敏层和基材上的硅橡胶层，该基材是无水平版印刷版原版，其特征在于在上述硅橡胶层中含有着色颜料， 并且通过在上述硅橡胶层中进一步掺入含有由金属和有机化合物构成的有机络合物的颜料分散剂，可以获得更优异的效果。 此外，当含有铝和/或钛作为上述金属时，可以获得更好的效果。

    WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR
    7.
    发明申请
    WATERLESS PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR 有权
    无水平面印刷板前身

    公开(公告)号：US20100075250A1

    公开(公告)日：2010-03-25

    申请号：US12513513

    申请日：2007-11-01

    申请人： Akihiro Iihara ,  Mitsuru Suezawa ,  Masuichi Eguchi

    发明人： Akihiro Iihara ,  Mitsuru Suezawa ,  Masuichi Eguchi

    IPC分类号： G03F7/004

    CPC分类号： B41C1/1016 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/14 ,  B41C2210/16 ,  B41N1/003 ,  B41N1/14 ,  G03F7/0752

    摘要： A waterless planographic printing plate precursor is capable of plate inspection without a post-dyeing step, capable of being handled in a light room and excellent in coloring matter fixing in silicone rubber layer. The waterless planographic printing plate precursor has at least a photosensitive layer or heat sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate, which is a waterless planographic printing plate precursor characterized in that a color pigment is contained in the above-mentioned silicone rubber layer, and it is possible to obtain a more excellent effect by further incorporating, in the above-mentioned silicone rubber layer, a pigment dispersant containing an organic complex compound comprising of a metal and an organic compound. Furthermore, when aluminum and/or titanium is contained as the above-mentioned metal, a more excellent effect can be obtained.

    摘要翻译： 无水平版印刷版原版能够进行平板检查，无需后染色步骤，能够在光室中处理，并且硅胶橡胶层中的着色剂固色性优异。 无水平版印刷版原版具有至少一层感光层或热敏层和基材上的硅橡胶层，该基材是无水平版印刷版原版，其特征在于在上述硅橡胶层中含有着色颜料， 并且通过在上述硅橡胶层中进一步掺入含有由金属和有机化合物构成的有机络合物的颜料分散剂，可以获得更优异的效果。 此外，当含有铝和/或钛作为上述金属时，可以获得更好的效果。

    Photosensitive compositions
    8.
    发明授权
    Photosensitive compositions 失效
    感光组合物

    公开(公告)号：US4243743A

    公开(公告)日：1981-01-06

    申请号：US29154

    申请日：1979-04-11

    申请人： Hiroo Hiramoto ,  Masuichi Eguchi

    发明人： Hiroo Hiramoto ,  Masuichi Eguchi

    IPC分类号： G03C7/10 ,  C08F2/00 ,  C08F2/48 ,  C08G69/28 ,  C08G73/00 ,  C08G73/10 ,  C08G73/14 ,  C08G73/16 ,  G03F7/037 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027 ,  H05K3/28 ,  G03C1/68

    CPC分类号： C08G73/1003 ,  C08G69/28 ,  C08G73/1025 ,  C08G73/14 ,  G03F7/037 ,  Y10S430/107

    摘要： This invention relates to a photosensitive composition comprising a precursor of a heat resistant polymer having carboxylic groups and a compound having a photosensitive olefinic double bond and an amino or quaternary ammonium salt. The photosensitive composition can give highly heat resistant relief patterns with good edge sharpness, good mechanical and chemical properties as well as good insulating properties. The heat resistant relief patterns obtained from the composition of this invention are especially useful as insulating, passivation or protective coatings in semiconductor devices.

    摘要翻译： 本发明涉及包含具有羧基的耐热性聚合物的前体和具有感光性烯属双键的化合物和氨基或季铵盐的感光性组合物。 感光性组合物可以赋予高耐热的浮雕图案，具有良好的边缘清晰度，良好的机械和化学性能以及良好的绝缘性能。 由本发明组合物获得的耐热浮雕图案特别适用于半导体器件中的绝缘，钝化或保护涂层。

    Method of forming positive polyimide patterns
    10.
    发明授权
    Method of forming positive polyimide patterns 失效
    形成正聚酰亚胺图案的方法

    公开(公告)号：US5614354A

    公开(公告)日：1997-03-25

    申请号：US692337

    申请日：1996-08-05

    申请人： Masuichi Eguchi ,  Masaya Asano ,  Kazutaka Kusano

    发明人： Masuichi Eguchi ,  Masaya Asano ,  Kazutaka Kusano

    IPC分类号： G03F7/037 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  G03F7/012

    CPC分类号： G03F7/38 ,  G03F7/0387 ,  G03F7/039 ,  G03F7/037 ,  Y10S430/107

    摘要： The present invention relates to a method of forming positive polyimide patterns which includes a process wherein a film of a composition of actinic radiation-sensitive polyimide precursor is formed on a substrate which is selectively exposed to an actinic radiation, then such a treatment is applied to the film that the film in unexposed portion attains higher degree of curing than the film in exposed portion after the exposure, and the film is removed from the exposed portion. According to the invention, such an unexpected effect can be achieved as a positive polyimide pattern can be formed by using a composition of actinic radiation-sensitive polyimide precursor which has only been used in forming negative patterns. According to the invention, the positive polyimide pattern can be formed easily and the pattern obtained has excellent performance.

    摘要翻译： PCT No.PCT / JP94 / 00104 Sec。 371日期：1994年11月22日 102（e）1994年11月22日日期PCT 1994年1月26日PCT PCT。 公开号WO94 / 18607 日期：1994年8月18日本发明涉及一种形成正聚酰亚胺图案的方法，其包括其中在选择性地暴露于光化辐射的基底上形成光化性辐射敏感聚酰亚胺前体的组合物的膜，然后这样 对该膜施加处理，使得未曝光部分的膜比曝光后的曝光部分中的膜达到更高的固化程度，并且从曝光部分去除膜。 根据本发明，可以通过使用仅用于形成负图案的光化辐射敏感聚酰亚胺前体的组合物来形成正的聚酰亚胺图案，可以实现这种意想不到的效果。 根据本发明，可以容易地形成正的聚酰亚胺图案，并且所获得的图案具有优异的性能。