公开(公告)号：WO2022047854A1

公开(公告)日：2022-03-10

申请号：PCT/CN2020/117280

申请日：2020-09-24

Applicant: TCL华星光电技术有限公司

Inventor： 刘净

IPC: C23F1/44 ,  C23F1/18

Abstract: 一种蚀刻钼/铜/钼或钼合金/铜/钼合金三层金属配线结构的蚀刻液组合物及其应用。所述蚀刻液组合物组分包含过氧化氢、二元醇、蚀刻抑制剂、螯合剂、蚀刻添加剂、pH调节剂和水。该蚀刻液不仅可以减缓双氧水的分解，还可以延长蚀刻液的寿命，极大地降低了生产制造过程中的蚀刻液成本，提高蚀刻液的安全系数。

公开(公告)号：WO2019163256A1

公开(公告)日：2019-08-29

申请号：PCT/JP2018/044858

申请日：2018-12-06

Applicant: 住友電気工業株式会社 ,  国立大学法人横浜国立大学

Inventor： 奥野　一樹 ,  東野　孝浩 ,  俵山　博匡 ,  真嶋　正利 ,  増村　春輝 ,  黒田　義之 ,  光島　重徳

IPC: C22C1/08 ,  C22C18/00 ,  C22C19/03 ,  C22F1/00 ,  C22F1/10 ,  C23F1/02 ,  C23F1/44 ,  C25D1/08 ,  C25D7/00

Abstract: 三次元網目状構造を有する金属多孔体であって、上記三次元網目状構造を形成している骨格と、上記骨格を被覆する、微細孔を有する被覆層とを備え、上記三次元網目状構造は、支柱部と複数の上記支柱部を繋ぐノード部とを備え、上記骨格は、アルカリ耐性を有する第一金属を含み、上記微細孔は、その平均孔径が１０ｎｍ以上１μｍ以下であり、上記被覆層は、アルカリ耐性を有する第二金属を含み且つアルカリ溶解性の金属を含んでいてもよく、上記アルカリ溶解性の金属は、その含有割合が上記骨格と上記被覆層との全質量を基準として０質量％以上３０質量％以下である、金属多孔体。

公开(公告)号：WO2016129598A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：PCT/JP2016/053843

申请日：2016-02-09

Applicant: 新日鐵住金株式会社

Inventor： 樽谷　芳男

IPC: H01M8/0202 ,  C22C38/00 ,  C22C38/46 ,  C22C38/48 ,  C22C38/50 ,  C23F1/08 ,  C23F1/28 ,  C23F1/44 ,  H01M8/10

CPC classification number: H01M8/021 ,  C22C38/00 ,  C22C38/001 ,  C22C38/002 ,  C22C38/004 ,  C22C38/005 ,  C22C38/008 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/06 ,  C22C38/42 ,  C22C38/44 ,  C22C38/46 ,  C22C38/48 ,  C22C38/50 ,  C23F1/28 ,  C23G1/081 ,  C23G1/085 ,  H01M2008/1095

Abstract: 　質量％で、C:0.001~0.030%、Si:0.20~1.5%、Mn:0.01~1.5%、P:0.035%以下、S:0.01%以下、Cr:22.5~35.0%、Mo:0.01~6.0%、Ni:0.01~6.0%、Cu:0.01~1.0%、Sn:0.10~2.5%、In:0.001~1.0%、N:0.035%以下、V:0.01~0.35%、Al:0.001~1.0%を含有し、残部Feおよび不可避不純物からなり、かつ{Cr含有量(質量%)+3×Mo含有量(質量%)}の計算値が22.5~45.0%である化学組成を有するフェライト系ステンレス鋼材。この鋼材を用いたセパレータを備える固体高分子形燃料電池は、電池内の環境での耐食性が格段に優れ、接触電気抵抗が金めっき材と同等である。

Abstract translation: 本发明提供一种铁素体系不锈钢材料，以质量％计，C：0.001-0.030％，Si：0.20〜1.5％，Mn：0.01〜1.5％，P：0.035％以下，S：0.01％以下，22.5 -35.0％的Cr，0.01-6.0％的Mo，0.01-6.0％的Ni，0.01-1.0％的Cu，0.10-2.5％的Sn，0.001-1.0％的In，0.035％或更少的N， V的0.35％，Al：0.001-1.0％，剩余的Fe和不可避免的杂质。 铁素体系不锈钢材料的{Cr含量（质量％）+ 3×Mo含量（质量％）}的计算值为22.5〜45.0％的化学组成。 设置有使用铁素体不锈钢材料的隔板的固体聚合物燃料电池在电池内的环境中具有显着优异的耐腐蚀性和与金属镀层材料相当的电接触电阻。

公开(公告)号：WO2016129352A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：PCT/JP2016/051690

申请日：2016-01-21

Applicant: メック株式会社

Inventor： 荻野　悠貴 ,  東嶋　真美 ,  林崎　将大 ,  王谷　稔

IPC: C23F1/44 ,  C23F1/26 ,  C23G5/032 ,  C23G5/036

CPC classification number: C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01L21/32133 ,  H05K3/067

Abstract: 本発明は、銅の存在下でチタンを選択的にエッチングすることができ、しかも毒性が低く、保存安定性に優れるエッチング液、及びそれを用いたエッチング方法を提供することを目的とする。本発明のエッチング液は、硫酸、塩酸、及びトリクロロ酢酸からなる群より選択される少なくとも１種の酸と、チオケトン系化合物及びチオエーテル系化合物からなる群より選択される少なくとも１種の有機硫黄化合物とを含むものであり、銅の存在下でチタンを選択的にエッチングすることができる。

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够在铜存在下选择性地蚀刻钛，同时具有低毒性和优异的储存稳定性的蚀刻液; 以及使用该蚀刻液的蚀刻方法。 根据本发明的蚀刻液含有：选自硫酸，盐酸和三氯乙酸中的至少一种酸; 和至少一种选自硫酮化合物和硫醚化合物的有机硫化合物。 该蚀刻液能够在铜的存在下选择性地蚀刻钛。

公开(公告)号：WO2013075952A1

公开(公告)日：2013-05-30

申请号：PCT/EP2012/072153

申请日：2012-11-08

Applicant: ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH ,  LÜTZOW, Norbert ,  THOMS, Martin ,  EXNER, Anika ,  KLOPPISCH, Mirko

Inventor： LÜTZOW, Norbert ,  THOMS, Martin ,  EXNER, Anika ,  KLOPPISCH, Mirko

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/46 ,  C23F1/44 ,  H05K3/06 ,  H05K3/10 ,  H01L21/3213

CPC classification number: C23F1/18 ,  C23F1/44 ,  C23F1/46 ,  C25D5/34 ,  H01L21/32134 ,  H05K3/067 ,  H05K3/108 ,  H05K2203/0789

Abstract: The present invention relates to an aqueous composition and a process for etching of copper and copper alloys. The aqueous composition comprises Fe 3+ ions, an acid and a N-alkoxylated polyamide. The aqueous composition is particularly useful for making of fine structures in the manufacture of printed circuit boards, IC substrates and the like.

Abstract translation: 本发明涉及一种水性组合物和一种用于蚀刻铜和铜合金的方法。 含水组合物包含Fe 3+离子，酸和N-烷氧基化聚酰胺。 水性组合物特别可用于制造印刷电路板，IC基板等中的精细结构。

公开(公告)号：WO2013029785A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：PCT/EP2012/003622

申请日：2012-08-29

Applicant: DEDEK, Petr

Inventor： DEDEK, Petr

IPC: C22B7/00 ,  C23F1/30 ,  C23F1/44 ,  C22B11/00 ,  C22B3/24

CPC classification number: C22B11/04 ,  C22B1/005 ,  C22B3/16 ,  C22B3/24 ,  C22B7/007 ,  C22B11/042 ,  C22B11/046 ,  C23F1/30 ,  C23F1/44 ,  Y02P10/214 ,  Y02P10/234

Abstract: A method for removing metal and/or precious metal-containing depositions from substrates, wherein said substrate is subjected to treatment with an organo amine protectant component P and an inorganic active component A. Component P may be formed in situ by reaction with component R. Component P is an organic amine and/or organic amine hydrochloride (preferably diisopropylamine hydrochloride), component A is an inorganic compound (preferably inorganic acid or a mixture thereof) and component R is an organic compound that can be split along the C- N bond by the component A into an organic amine (preferably dimethylformamide or N-methyl pyrrolidone). The metals in the form of organo-metallic complexes can be isolated and/or separated by means of different chemical reactions (preferably reduction reactions) and/or biosorption (preferably with seaweed or yeast).

Abstract translation: 一种用于从底物中除去金属和/或贵金属沉积物的方法，其中所述基底用有机胺保护剂组分P和无机活性组分A进行处理。组分P可以通过与组分R的反应原位形成。 组分P是有机胺和/或有机胺盐酸盐（优选二异丙胺盐酸盐），组分A是无机化合物（优选无机酸或其混合物），组分R是可以沿着C-键分裂的有机化合物 通过组分A转化为有机胺（优选二甲基甲酰胺或N-甲基吡咯烷酮）。 可以通过不同的化学反应（优选还原反应）和/或生物吸附（优选与海藻或酵母）分离和/或分离有机金属络合物形式的金属。

公开(公告)号：WO2012048079A3

公开(公告)日：2012-04-12

申请号：PCT/US2011/055049

申请日：2011-10-06

Applicant: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. ,  CHEN, Tianniu ,  THOMAS, Nicole E. ,  LIPPY, Steven ,  BARNES, Jeffrey A. ,  COOPER, Emanuel I. ,  ZHANG, Peng

Inventor： CHEN, Tianniu ,  THOMAS, Nicole E. ,  LIPPY, Steven ,  BARNES, Jeffrey A. ,  COOPER, Emanuel I. ,  ZHANG, Peng

IPC: C23F1/02 ,  C23F1/44

Abstract: A removal composition and process for selectively removing a first metal gate material (e.g., titanium nitride) relative to a second metal gate material (e.g., tantalum nitride) from a microelectronic device having said material thereon. The removal composition can include fluoride or alternatively be substantially devoid of fluoride. The substrate preferably comprises a high-k/metal gate integration scheme.

公开(公告)号：WO2011023798A1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：PCT/EP2010/062558

申请日：2010-08-27

Applicant: ZANINI AUTO GRUP, S.A. ,  MAYER PUJADAS, Augusto ,  SANAHUJA CLOT, José

Inventor： MAYER PUJADAS, Augusto ,  SANAHUJA CLOT, José

IPC: B44C1/22 ,  B44C3/00 ,  C25D5/48 ,  C25D5/12 ,  C23F1/02 ,  C23F1/44 ,  C23F4/02 ,  C23F4/04 ,  B23K26/00

CPC classification number: C23F4/02 ,  B23K26/361 ,  B44F1/02 ,  C23F1/02 ,  C23F1/44 ,  C25D5/12 ,  C25D5/16 ,  C25D5/48

Abstract: The invention relates to a process for the treatment of parts for creating a surface with areas with shiny and matte appearances, in which on the surface previously coated with a first layer of copper and a second layer of metal a selective etching of the second layer is performed, wherein the selective etching of the second layer is performed according to the area or areas to be glazed with respect to the rest of the part. The process allows a finish with areas of a different shine (from mirror shine to matte), the differences in thickness of which cannot be observed by the human eye without optical aids.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于处理用于产生具有光泽和无光泽外观的区域的表面的部件的方法，其中在预先涂覆有第一层铜的表面和第二层金属上选择性蚀刻第二层 其中，根据相对于所述部件的其余部分而要上釉的面积或面积进行所述第二层的选择性蚀刻。 该过程允许具有不同光泽（从镜面光泽到无光泽）的区域的光洁度，其没有光学辅助装置的人眼不能观察到厚度的差异。

公开(公告)号：WO2007128345A1

公开(公告)日：2007-11-15

申请号：PCT/EP2006/062138

申请日：2006-05-08

Applicant: ECOLAB INC. ,  TYBORSKI, Thomas

Inventor： TYBORSKI, Thomas

IPC: C11D1/37 ,  C11D1/83 ,  C11D3/02 ,  C11D3/12 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/36 ,  C23F1/44 ,  C23F1/30 ,  C11D1/34

CPC classification number: C23G1/083 ,  C11D1/342 ,  C11D1/345 ,  C11D1/37 ,  C11D1/78 ,  C11D1/83 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/042 ,  C11D3/044 ,  C11D3/1213 ,  C11D3/122 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/28 ,  C11D3/361 ,  C11D11/0029 ,  C23G1/10 ,  C23G1/103 ,  C23G1/125

Abstract: The invention relates to a acidic composition for cleaning surfaces of metal or alloys which are susceptible to corrosion comprising i) an ester of phosphoric acid, diphosphoric acid or polyphosphoric acid, ii) a benzotriazole derivative of the general formula (I) in which each of the groups R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 is the same or different and is hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, or an acyl group, iii) a phosphonic acid of the general formula R 6 -PO-(OH) 2 (II) in which the group R 6 is alkyl group, alkenyl group, aryl group, or arylalkyl group and iv) an acidic source. The invention further relates to a use solution and to a method for cleaning.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于清洁容易腐蚀的金属或合金表面的酸性组合物，其包括：i）磷酸，二磷酸或多磷酸的酯，ii）通式（I）的苯并三唑衍生物，其中 基团R 1，R 2，R 3，R 4和R 5 >相同或不同，为氢原子，烷基，烯基或酰基，iii）通式为R 6的膦酸-OPO - （OH） 其中基团R 6为烷基，烯基，芳基或芳基烷基的基团（II），和iv）酸性源。 本发明还涉及使用溶液和清洁方法。

公开(公告)号：WO2006029823A2

公开(公告)日：2006-03-23

申请号：PCT/EP2005/009838

申请日：2005-09-14

Applicant: BASF AKTIENGESELLSCHAFT ,  WITTELER, Helmut ,  LAUBUSCH, Bernd ,  HEIDENFELDER, Thomas

Inventor： WITTELER, Helmut ,  LAUBUSCH, Bernd ,  HEIDENFELDER, Thomas

IPC: C23G1/06 ,  C23G1/08 ,  C23G1/12 ,  C23G1/10 ,  C23F1/44 ,  C23G5/02 ,  C23G5/032 ,  C23C22/02

CPC classification number: C23G1/125 ,  C23C22/02 ,  C23F1/44 ,  C23G1/065 ,  C23G1/088 ,  C23G1/103 ,  C23G5/02 ,  C23G5/032 ,  C25D5/48 ,  C25F3/20

Abstract: Verfahren zum Behandeln metallischer Oberflächen, bei dem man Methansulfonsäureformulierungen einsetzt, die weniger als 28 Gew. % Wasser sowie optional Amine und/oder weitere Bestandteile enthalten.

Abstract translation: 一种用于处理金属表面的方法，其中使用含有Methansulfonsäureformulierungen小于28重量％的水和任选的胺中和/或包含其它成分。