VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS
    12.
    发明申请
    VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTOELEKTRONISCHEN BAUELEMENTS 审中-公开
    方法制造光电子器件

    公开(公告)号:WO2015001037A1

    公开(公告)日:2015-01-08

    申请号:PCT/EP2014/064221

    申请日:2014-07-03

    Abstract: Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines optoelektronischen Halbleiterchips (100) mit einer auf einer Oberseite des optoelektronischen Halbleiterchips angeordneten Maskenschicht (200), zum Bereitstellen eines Trägers (300) mit auf einer Oberfläche des Trägers angeordneten Wänden (320), die einen Aufnahmebereich seitlich begrenzen, zum Anordnen des optoelektronischen Halbleiterchips im Aufnahmebereich, wobei eine Unterseite des optoelektronischen Halbleiterchips der Oberfläche des Trägers zugewandt wird, zum Auffüllen eines den optoelektronischen Halbleiterchip umgebenden Bereichs des Aufnahmebereichs mit einem optisch reflektierenden Material (400) bis zu einer Höhe, die zwischen der Oberseite des optoelektronischen Halbleiterchips und einer Oberseite der Maskenschicht liegt, zum Entfernen der Maskenschicht, um einen Freiraum im optisch reflektierenden Material zu schaffen, und zum Einbringen eines wellenlängenkonvertierenden Materials (500) in den Freiraum.

    Abstract translation: 一种制造光电器件的方法包括,用于提供设置在所述支承壁的一个表面(320)上的支撑体(300)提供的光电子半导体芯片(100),其具有设置在所述光电子半导体芯片掩模层(200)的顶表面上的步骤, 在侧面限定了接收区域,用于放置光电子半导体芯片在容纳区域,其特征在于,面对所述载体的表面上的光电子半导体芯片的下侧,可容纳的高度填充所述接收区域的周围的光电子半导体芯片面积与光学反射材料(400), 这是光电子半导体芯片的顶表面和掩模层的上表面之间,除去所述掩模层以在所述光学反射材料的自由空间,以及用于将wellenlängenk onvertierenden材料(500)到自由空间中。

    VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES KONVERSIONSELEMENTS
    13.
    发明申请
    VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES KONVERSIONSELEMENTS 审中-公开
    一种用于生产转换元件

    公开(公告)号:WO2014202414A1

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:PCT/EP2014/061868

    申请日:2014-06-06

    Abstract: Ein Verfahren zum Herstellen eines Konversionselements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Substrats mit einer Oberfläche, zum Ausbilden einer ersten Maskenstruktur über der Oberfläche, wobei die erste Maskenstruktur erste Stege und zwischen den ersten Stegen angeordnete erste Öffnungen aufweist, wobei die ersten Öffnungen Kavitäten bilden, in denen die Oberfläche des Substrats zugänglich ist, zum Anordnen einer zweiten Maskenstruktur über der ersten Maskenstruktur, wobei die zweite Maskenstruktur zweite Stege und zwischen den zweiten Stegen angeordnete zweite Öffnungen aufweist, wobei die ersten Stege durch die zweiten Stege zumindest teilweise abgedeckt werden, wobei die Kavitäten durch die zweiten Öffnungen zumindest teilweise zugänglich bleiben, zum Einsprühen eines Materials in die Kavitäten durch die zweiten Öffnungen, zum Entfernen der zweiten Maskenstruktur und zum Entfernen der ersten Maskenstruktur.

    Abstract translation: 制造包括提供具有用于形成表面,其中,所述第一掩模图案包括第一连接盘和设置在所述第一脊第一开口之间在第一掩模图案的表面的衬底的步骤的转换元件的方法,所述第一开口,以形成空腔,其中 所述衬底的所述表面是用于在第一掩模图案,其中所述第二掩模图案包括第二纤维网和布置的第二开口,其中,第一纤维网被第二腹板至少部分覆盖所述第二腹板之间,空腔通过设置第二掩模图案访问 第二开口保持至少部分开放的,用于喷射到材料通过第二开口空腔用于除去第二掩模图案,并去除所述第一掩模图案。

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