Abstract:
Es wird ein Bauteil (9) mit einem lichtemittierenden Bauelement (1) vorgeschlagen, wobei das Bauelement (1) ausgebildet ist, um elektromagnetische Strahlung zu erzeugen, mit einer Konversionsschicht (2), wobei die Konversionsschicht (2) ausgebildet ist, umeine Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung des Bauelementes (1) wenigstens teilweise zu konvertieren, wobei die Konversionsschicht (2) über einer lichtemittierenden Seite (3) des Bauelementes (1) angeordnet ist, wobei eine für elektromagnetische Strahlung transparente Platte (7) über der Konversionsschicht (2) angeordnet ist, wobei die Platte (7) eine Einstrahlfläche (16) und eine Ausstrahlfläche (17) für elektromagnetische Strahlung aufweist, wobei die Einstrahlfläche (16) der Platte (7) der Konversionsschicht (2) angeordnet ist.
Abstract:
Ein wellenlängenkonvertierendes Element ist als flaches Plättchen ausgebildet, das eine Grundform mit einer Außenkontur aufweist. Das wellenlängenkonvertierende Element weist gegenüber der Grundform eine Aussparung auf, die durch eine Begrenzungskante begrenzt wird. An jedem Zusammentreffen der Begrenzungskante mit der Außenkontur ist jeweils ein Winkel von weniger als 90° eingeschlossen.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl strahlungsemittierender Halbleiterchips mit den folgenden Schrittenangegeben: - Bereitstellen einer Vielzahl von Halbleiterkörpern (1), die dazu geeignet sind, elektromagnetische Strahlung von einer Strahlungsaustrittsfläche (3) auszusenden, - Aufbringen der Halbleiterkörper (1) auf einen Träger (2), - Aufbringen einer ersten Maskenschicht (4) auf Bereiche des Trägers (2) zwischen den Halbleiterkörpern (1), - vollflächiges Aufbringen einer Konversionsschicht (5) mit einem Sprühbeschichtungsverfahren auf die Halbleiterkörper (1) und die erste Maskenschicht (4), und - Entfernen der ersten Maskenschicht (4), so dass jeweils eine Konversionsschicht (5) auf der Strahlungsaustrittsfläche (3) der Halbleiterkörper (1) entsteht.
Abstract:
Bei einem Lumineszenzdiodenchip mit einer Strahlungsaustrittsfläche (1) und einer Kontaktstruktur (2, 3, 4), die auf der Strahlungsaustrittsfläche (1) angeordnet ist, und ein Bondpad (4) und mehrere zur Stromaufweitung vorgesehene Kontaktstege (2, 3), die mit dem Bondpad (4) elektrisch leitend verbunden sind, umfasst, ist das Bondpad (4) in einem Randbereich der Strahlungsaustrittsfläche (1) angeordnet. Der Lumineszenzdiodenchip zeichnet sich insbesondere durch eine verminderte Absorption der emittierten Strahlung (23) in der Kontaktstruktur (2, 3, 4) aus.
Abstract:
Es wird ein Leiterrahmen (1) für einen strahlungsemittierenden Halbleiterchip (7) mit einem ersten Element (2) mit einer ersten Haupterstreckungsebene, einem zweiten Element (3) mit einer zweiten Haupterstreckungsebene und einem dritten Element (4) mit einer dritten Haupterstreckungsebene angegeben, wobei -die erste Haupterstreckungsebene, die zweite Haupterstreckungsebene und die dritte Haupterstreckungsebene parallel zueinander angeordnet sind, -die drei Elemente (2, 3, 4) in einer Stapelrichtung (R) übereinander angeordnet sind, und -das dritte Element (4) eine Auflagefläche (9) für den Halbleiterchip (7) aufweist, die kleiner ist als eine Montagefläche (8) des Halbleiterchips (7). Weiterhin werden ein optoelektronisches Bauelement und ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Leuchtvorrichtung (129), umfassend: - einen Träger (101), - auf welchem zumindest ein optoelektronisches Leuchtmittel (103, 105) zum Emittieren von Licht in einen Abstrahlbereich (122) angeordnet ist, - wobei eine Farbstreuschicht (117) zum Erzeugen einer Farbe mittels einer Streuung von Licht an einer dem Leuchtmittel (103, 105) abgewandten Oberfläche der Farbstreuschicht (117) im Abstrahlbereich (122) gebildet ist. Die Erfindung betrifft ferner ein entsprechendes Verfahren zum Herstellen einer Leuchtvorrichtung (129).
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement (10, 20, 30, 40) umfasst einen optoelektronischen Halbleiterchip (200), der derart in einen Formkörper (100) eingebettet ist, dass eine Oberseite (201) des optoelektronischen Halbleiterchips (200) zumindest teilweise nicht durch den Formkörper (100) bedeckt ist. Auf einer Oberseite (101) des Formkörpers (100) ist eine erste Metallisierung (510) angeordnet. Die erste Metallisierung (510) ist elektrisch gegen den optoelektronischen Halbleiterchip (200) isoliert. Auf der ersten Metallisierung (510) ist ein erstes Material (610, 615) angeordnet.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines Konversionselements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Substrats mit einer Oberfläche, zum Ausbilden einer ersten Maskenstruktur über der Oberfläche, wobei die erste Maskenstruktur erste Stege und zwischen den ersten Stegen angeordnete erste Öffnungen aufweist, wobei die ersten Öffnungen Kavitäten bilden, in denen die Oberfläche des Substrats zugänglich ist, zum Anordnen einer zweiten Maskenstruktur über der ersten Maskenstruktur, wobei die zweite Maskenstruktur zweite Stege und zwischen den zweiten Stegen angeordnete zweite Öffnungen aufweist, wobei die ersten Stege durch die zweiten Stege zumindest teilweise abgedeckt werden, wobei die Kavitäten durch die zweiten Öffnungen zumindest teilweise zugänglich bleiben, zum Einsprühen eines Materials in die Kavitäten durch die zweiten Öffnungen, zum Entfernen der zweiten Maskenstruktur und zum Entfernen der ersten Maskenstruktur.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements (10) umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Substrats (100) mit einem auf einer Oberfläche (101) des Substrats (100) angeordneten optoelektronischen Halbleiterchip (200), zum Bereitstellen einer Maske (300) mit einer unteren Lage (310) und einer oberen Lage (330), wobei die untere Lage (310) eine untere Öffnung (320) und die obere Lage (330) eine obere Öffnung (340) aufweist, die gemeinsam eine durchgehende Maskenöffnung (350) bilden, wobei die untere Öffnung (320) eine größere Fläche aufweist als die obere Öffnung (340), zum Anordnen der Maske (300) über der Oberfläche (101) des Substrats (100) derart, dass die untere Lage (310) der Oberfläche (101) des Substrats (100) zugewandt und die Maskenöffnung (350) über dem optoelektronischen Halbleiterchip (200) angeordnet ist, zum Aufsprühen einer Schicht (400) auf den optoelektronischen Halbleiterchip (200) durch die Maskenöffnung (350), und zum Entfernen der Maske (300).
Abstract:
Es wird unter anderem ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von Halbleiterbauelementen mit den folgenden Schritten angegeben: - Bereitstellen eines Trägers (1) mit einer Vielzahl erster Durchbrüche (11) und zweiter Durchbrüche (12), die sich jeweils vollständig durch den Träger (1) erstrecken, - Füllen der ersten Durchbrüche (11) und der zweiten Durchbrüche (12) mit einem Anschlussmaterial (3), - Aufbringen einer Vielzahl von Halbleiterchips (4) auf den Träger (1), wobei zumindest manche der Vielzahl von Halbleiterchips (4) einen ersten Durchbruch (11) und einen zweiten Durchbruch (12) überdecken, - Herstellen einer elektrisch leitenden Verbindung zwischen zumindest manchen der Vielzahl von Halbleiterchips (4) und dem Anschlussmaterial (3) in den überdeckten ersten Durchbrüchen (11) und in den überdeckten zweiten Durchbrüchen (12), - Vereinzeln in eine Vielzahl von Halbleiterbauelementen (100), wobei jedes Halbleiterbauelement (100) zumindest einen Halbleiterchip (4) umfasst, der über das Anschlussmaterial (3) von der dem Halbleiterchip (4) her abgewandten Seite elektrisch kontaktierbar ist.