公开(公告)号：WO2016135965A1

公开(公告)日：2016-09-01

申请号：PCT/JP2015/055930

申请日：2015-02-27

申请人： ギガフォトン株式会社

发明人： 黒澤　義明 ,  菅沼　崇

IPC分类号： H01S3/10 ,  G02B26/02 ,  H01L21/027 ,  H05G2/00

CPC分类号： G02B26/023 ,  G02B26/02 ,  G02B27/14 ,  G21K1/06 ,  H01S3/005 ,  H01S3/1003 ,  H01S3/2316 ,  H05G2/008

摘要： 　本開示の一態様によるビームダンプ装置は、アッテネータモジュールと、ビームダンプモジュールと、アッテネータモジュールおよびビームダンプモジュールを制御する制御部とを備え、アッテネータモジュールは、光軸に対して第１角度傾いて配置された第１ビームスプリッタと、光軸に対して第１角度と絶対値が等しく且つ反対符号の第２角度傾いて配置された第２ビームスプリッタと、第１ビームスプリッタによって反射されたレーザ光が入射する第１ビームダンパと、第２ビームスプリッタによって反射されたレーザ光が入射する第２ビームダンパと、第１および第２ビームスプリッタをレーザ光の光路に対して挿入または退避する第１ステージとを含み、ビームダンプモジュールは、レーザ光の光軸に対して傾いて配置されたミラーと、ミラーによって反射されたレーザ光が入射する第３ビームダンパと、ミラーを光路に対して挿入または退避する第２ステージとを含んでもよい。

摘要翻译： 根据本公开的一个实施例的光束投射装置设置有衰减器模块，光束放大模块和用于控制衰减器模块和光束分离模块的控制单元。 衰减器模块包括：第一分束器，其相对于光轴以第一角度倾斜设置; 第二分束器，其相对于光轴以相对于第一角度具有绝对值并具有与其相反的符号的第二角度倾斜设置; 第一光束阻尼器，其上由第一分束器反射的激光入射; 第二光束阻尼器，其上由第二分束器反射的激光入射; 以及第一和第二分束器在激光的光路中插入或缩回的第一阶段。 光束投射模块可以包括：相对于激光的光轴倾斜设置的反射镜; 由反射镜反射的激光入射的第三光束阻尼器; 以及第二阶段，其上将镜子插入或从光路缩回。

公开(公告)号：WO2016098543A1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：PCT/JP2015/083075

申请日：2015-11-25

申请人： ギガフォトン株式会社

发明人： 鈴木　徹 ,  菅沼　崇 ,  高山　明大 ,  黒澤　義明

IPC分类号： H01S3/10 ,  H01L21/30 ,  H05G2/00

CPC分类号： H01S3/10 ,  H01L21/30 ,  H01S3/00 ,  H01S5/005 ,  H05G2/00 ,  H05G2/008

摘要： 　極端紫外光生成装置におけるビーム調節装置は、パルスレーザ光の光路上に配置された、第１凹面ミラーと第１凸面ミラーとからなる第１組と、パルスレーザ光の光路上で第１組より下流において、第１凹面ミラーと第１凸面ミラーの配置順序とは逆に配置された、第２凹面ミラーと第２凸面ミラーとからなる第２組と、第１凹面ミラーと第１凸面ミラーとの間の距離、及び、第２凹面ミラーと第２凸面ミラーとの間の距離を、同時に増加または同時に減少させる方向に変化させる移動装置と、を含んでもよい。

摘要翻译： 本发明的极紫外光发生装置中的光束调节装置可以包括：第一对，其包括第一凹面镜和布置在用于脉冲激光的光路上的第一凸面镜;第二对，包括第二凹面镜和 第二凸透镜，布置在用于脉冲激光的光路上的第一对的下游并且以与第一凹面镜和第一凸面镜相反的顺序布置;以及移动装置，其改变第一凹面镜与第二凹面镜之间的距离， 第一凸面镜和第二凹面镜与第二凸面镜之间的距离，以同时增加或同时减小距离。

公开(公告)号：WO2016073190A1

公开(公告)日：2016-05-12

申请号：PCT/US2015/056515

申请日：2015-10-20

申请人： ASML NETHERLANDS B.V.

发明人： RAJYAGURU, Chirag ,  ALGOTS, John, Martin ,  ISHIKAWA, Tetsuya ,  BAUMGART, Peter, Michael

IPC分类号： G21K5/04

CPC分类号： H05G2/006 ,  H05G2/008

摘要： An EUV light source target material handling system Is disclosed which includes a target material dispenser and a target material repository in which solid target material in the target material repository is converted to target material in liquid form through the use of inductive heating.

摘要翻译： 公开了一种EUV光源目标材料处理系统，其包括目标材料分配器和目标材料储存库，其中通过使用感应加热将目标材料储存库中的固体目标材料转化为液体形式的目标材料。

公开(公告)号：WO2016038657A1

公开(公告)日：2016-03-17

申请号：PCT/JP2014/073661

申请日：2014-09-08

申请人： ギガフォトン株式会社

发明人： 安藤　正彦 ,  植野　能史 ,  鈴木　徹

IPC分类号： H05G2/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： H05G2/008 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/70991

摘要： 　パルスレーザ光を極端紫外光チャンバに伝送する伝送システムは、第１プリパルスレーザ光の光路と第２プリパルスレーザ光の光路とを略一致させる、光路調節装置と、光路調節装置によって略一致させられた第１プリパルスレーザ光と第２プリパルスレーザ光の光路を、第１プリパルスレーザ光の光路と、第２プリパルスレーザ光の光路とに分離する、光路分離装置と、光路分離装置により分離された第１プリパルスレーザ光の光路上に配置され、第１プリパルスレーザ光のビームパラメータを調節する、第１ビーム調節装置と、光路分離装置により分離された前記第２プリパルスレーザ光の光路上に配置され、第２プリパルスレーザ光のビームパラメータを調節する、第２ビーム調節装置と、を含んでもよい。

摘要翻译： 用于将脉冲激光束传输到极端UV光室的传输系统可以包含：光路调节装置，其中使第一预脉冲激光束的光路和第二预脉冲激光束的光路近似为近似 一起; 光路分离装置，其中通过光路调节装置将大致在一起的第一预脉冲激光束和第二预脉冲激光束的光路分离成第一预脉冲激光器的光路 光束和第二预脉冲激光束的光路; 第一光束调节装置，设置在由光路分离装置分离的第一预脉冲激光束的光路上，用于调节第一预脉冲激光束的光束参数; 以及第二光束调节装置，设置在由光路分离装置分离的第二预脉冲激光束的光路上，用于调节第二预脉冲激光束的光束参数。

公开(公告)号：WO2016013550A1

公开(公告)日：2016-01-28

申请号：PCT/JP2015/070740

申请日：2015-07-21

申请人： ギガフォトン株式会社

发明人： 薮　隆之 ,  細田　裕計 ,  石井　卓也

IPC分类号： H05G2/00

CPC分类号： H05G2/006 ,  G03F7/70033 ,  G21F3/00 ,  H05G2/008

摘要： 　ＥＵＶ光のエネルギー安定性を向上させる。　極端紫外光生成装置は、内部に供給されたターゲットにレーザ光が照射されることで発生するプラズマから極端紫外光が生成されるチャンバと、前記ターゲットをドロップレットとして前記チャンバの内部に供給するターゲット生成器と、前記ターゲット生成器から前記チャンバの内部に供給された前記ドロップレットを計測するドロップレット計測器と、前記プラズマから放射される電磁波から前記ドロップレット計測器を遮蔽する遮蔽部材と、を備え、前記ドロップレット計測器は、前記ドロップレットに連続光を照射する光源と、前記チャンバに設けられ前記連続光を透過するウインドウと、前記ウインドウを介して前記連続光を受光する光センサと、を含み、前記遮蔽部材は、前記ウインドウの前記チャンバ内部側に対して設けられ前記連続光の光路を覆うように形成された遮蔽体を含んでもよい。

摘要翻译： 本发明提高了EUV光的能量稳定性。 极紫外光产生装置设置有室，其中通过将激光束引导到供应到室内的目标处产生的等离子体产生极端的紫外光，用于将靶作为液滴供应到内部的目标发生器 用于测量从目标发生器供应到腔室内部的液滴的液滴测量仪器，以及用于屏蔽液滴测量仪器免受从等离子体辐射的电磁波的屏蔽部件。 液滴测量仪器包括用于用连续光照射液滴的光源，设置到腔室以便透射连续光的窗口，以及用于通过窗口接收连续光的光传感器。 屏蔽构件可以包括设置在窗户的室内侧并形成为覆盖连续光的光路的屏蔽体。

公开(公告)号：WO2016012192A1

公开(公告)日：2016-01-28

申请号：PCT/EP2015/064497

申请日：2015-06-26

申请人： ASML NETHERLANDS B.V.

发明人： MUYS, Peter, Frans, Maria ,  SCACCABAROZZI, Luigi ,  PIJNENBURG, Johannes, Adrianus, Cornelis, Maria

IPC分类号： H05G2/00

CPC分类号： H05G2/008 ,  H05G2/005

摘要： A radiation source arranged to receive an initiating radiation beam. The radiation source comprises a polarisation adjustment apparatus and a focussing unit configured to focus the initiating radiation beam to be incident on a fuel target. The polarisation adjustment apparatus is operable to adjust a polarisation state of the initiating radiation beam such that the initiating radiation beam has a spatially non-uniform polarisation state in its cross-section so as to control a spatial intensity distribution of the initiating radiation beam at the fuel target.

摘要翻译： 被布置成接收起始辐射束的辐射源。 辐射源包括偏振调节装置和被配置成将要入射的起始辐射束聚焦在燃料靶上的聚焦单元。 偏振调节装置可操作以调节起始辐射束的偏振状态，使得起始辐射束在其横截面中具有空间上不均匀的偏振状态，以便控制起始辐射束的空间强度分布 燃油目标。

公开(公告)号：WO2016007396A1

公开(公告)日：2016-01-14

申请号：PCT/US2015/039160

申请日：2015-07-03

申请人： APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： HASSAN, Vinayak Vishwanath ,  HOFMANN, Ralf ,  BEASLEY, Cara ,  FOAD, Majeed A.

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G02B5/0891 ,  C23C14/06 ,  C23C14/14 ,  C23C16/24 ,  C23C16/45525 ,  G02B5/0833 ,  G02B5/0875 ,  G03F7/7015 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067 ,  H05G2/008

摘要： An extreme ultraviolet reflective element and method of manufacture includes: a substrate; a multilayer stack on the substrate, the multilayer stack includes a plurality of reflective layer pairs having a first reflective layer formed from silicon and a second reflective layer formed from molybdenum; a barrier layer formed between the first reflective layer and the second reflective layer with the barrier layer formed from boron, carbon, nitrogen, oxygen, fluorine, sulphur, phosphorous, or a combination thereof; and a capping layer on and over the multilayer stack for protecting the multilayer stack by reducing oxidation and mechanical erosion.

摘要翻译： 一种极紫外反射元件及其制造方法包括：基板; 所述多层叠层包括多个反射层对，所述多个反射层对具有由硅形成的第一反射层和由钼形成的第二反射层; 在第一反射层和第二反射层之间形成阻挡层，阻挡层由硼，碳，氮，氧，氟，硫，磷或其组合形成; 以及多层叠层上和上方的覆盖层，用于通过减少氧化和机械侵蚀来保护多层堆叠。

公开(公告)号：WO2016005006A1

公开(公告)日：2016-01-14

申请号：PCT/EP2014/064958

申请日：2014-07-11

申请人： TRUMPF LASERSYSTEMS FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING GMBH

发明人： SCHULZ, Joachim ,  KRAUSS, Günther ,  WISSERT, Matthias

IPC分类号： H05G2/00 ,  H01S3/10 ,  H01S3/223 ,  H01S3/23 ,  H01S3/00

CPC分类号： H01S3/10038 ,  H01S3/0078 ,  H01S3/10015 ,  H01S3/1003 ,  H01S3/2232 ,  H01S3/2316 ,  H01S3/2391 ,  H05G2/008

摘要： Die Erfindung betrifft eine Treiberlaseranordnung (12) für eine EUV-Strahlungserzeugungsvorrichtung (1), umfassend: eine Strahlquelle (2) zur Erzeugung von gepulster Laserstrahlung (7) mit einer Laserfrequenz (f L ), sowie eine Verstärkeranordnung (3) mit mindestens einem optischen Verstärker (4a-c) zur Verstärkung der gepulsten Laserstrahlung (7). Die Treiberlaseranordnung (12) ist gekennzeichnet durch mindestens eine Frequenzverschiebungseinrichtung (13a-c) zur Erzeugung einer Frequenzverschiebung der Laserfrequenz (f L ) der Laserstrahlung (7) relativ zu einer Maximums-Frequenz einer frequenzabhängigen Verstärkung des mindestens einen optischen Verstärkers (4a-c), sowie eine Steuereinrichtung (14), die ausgebildet ist, die Frequenzverschiebung (∆f) derart einzustellen, dass die Verstärkung (V RED ) des optischen Verstärkers (4a-c) für die Laserstrahlung (7) auf weniger als 90 %, bevorzugt auf weniger als 70 %, besonders bevorzugt auf weniger als 50 % einer maximalen Verstärkung (V MAX ) des optischen Verstärkers (4a-c) reduziert ist. Die Erfindung betrifft auch ein zugehöriges Verfahren sowie ein Computerprogrammprodukt.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于EUV辐射产生装置的驱动激光组件（12）（1），包括：用于产生脉冲激光辐射光束源（2）（7）用激光频率（FL），以及一个放大器装置（3）与至少一个光放大器 （图4A-C），用于放大所述脉冲激光辐射（7）。 驱动激光组件（12），用于产生激光频率的激光辐射的（佛罗里达州）的频移的特征在于至少一个频移装置（13a-c）的（7）相对于所述至少一个光放大器的依赖于频率的增益的最大频率（图4a-c）中 和控制装置，其被设计为设定的频率偏移（.DELTA.f）（14），使得所述增益的光放大器（VRED）（图4A-C），用于将激光辐射（7）至小于90％，优选为小于 70％，更优选为最大增益的光放大器（VMAX）（图4a-c）中的小于50％的减少。 本发明还涉及一种相应的方法和计算机程序产品。

公开(公告)号：WO2015166526A1

公开(公告)日：2015-11-05

申请号：PCT/JP2014/061839

申请日：2014-04-28

申请人： ギガフォトン株式会社

发明人： 白石　裕

IPC分类号： H05G2/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70033 ,  H01L21/027 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

摘要： 　ターゲット供給装置（７Ａ）は、ターゲット物質（２７０）を貯蔵するタンク（７１１Ａ）と、タンク（７１１Ａ）に接続され、ターゲット物質（２７０）を出力するノズル（７１８Ａ）と、タンク（７１１Ａ）にガスを供給するガス供給部（７３Ａ）とを備え、ガス供給部（７３Ａ）は、ガスライン（７３０Ａ）に接続され、ガスライン（７３０Ａ）から供給されるガスを昇圧してタンク（７１１Ａ）に出力する昇圧器（７３１Ａ）と、タンク（７１１Ａ）内の圧力を計測する圧力センサ（７３５Ａ）と、圧力センサ（７３５Ａ）での計測結果に基づいて、タンク（７１１Ａ）に供給されるガスの圧力を調整する圧力コントローラ（７３６Ａ）とを備えてもよい。

摘要翻译： 该目标供给装置（7A）具备储存目标物质（270）的罐（711A），与所述罐（711A）连接并输出目标物质（270）的喷嘴（718A），以及 气体供给单元（73A），其向罐（711A）供给气体。 气体供给单元（73A）可以设置有：与气体管线（730A）连接的增压器（731A），提高从所述气体管线（730A）供给的气体的压力，并输出所述气体供给单元 气体（711A）; 测量罐（711A）内的压力的压力传感器（735A）; 以及基于来自压力传感器（735A）的测量结果来调节供应到罐（711A）的气体的压力的压力控制器（736A）。

公开(公告)号：WO2015124372A3

公开(公告)日：2015-10-15

申请号：PCT/EP2015051352

申请日：2015-01-23

申请人： ASML NETHERLANDS BV

发明人： VAN SCHOOT JAN BERNARD PLECHELMUS ,  CUPERUS MINNE ,  DE BOEIJ WILHELMUS PETRUS ,  YAKUNIN ANDREI MIKHAILOVICH

IPC分类号： G03F7/20 ,  H05G2/00

CPC分类号： G03F7/70433 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70091 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/7025 ,  G03F7/70425 ,  G03F7/70483 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

摘要： A lithographic system comprising a lithographic apparatus (LA) with an anamorphic projection system (PS), and a radiation source (SO) configured to generate an EUV radiation emitting plasma at a plasma formation location (4), the EUV radiation emitting plasma having an elongate form in a plane substantially perpendicular to an optical axis (OA) of the radiation source (SO).

摘要翻译： 一种光刻系统，包括具有变形投影系统（PS）的光刻设备（LA）和被配置为在等离子体形成位置（4）处产生EUV辐射等离子体的辐射源（SO），所述EUV辐射发射等离子体具有 在基本上垂直于辐射源（SO）的光轴（OA）的平面中的细长形式。