Abstract:
Verfahren zur Herstellung von mehrschichtigen Verbundkörpern, dadurch gekennzeichnet, dass man folgende Arbeitsschritte nacheinander durchführt: (a) man versieht eine negative oder positive Matrize durch Leistungs-modulierte Lasergravur mit einer Oberflächenstruktur in Form von einem Bild oder einem Muster, welches mindestens ein von geometrischen Elementen, Zahlen und Buchstaben verschiedenes Element (D) aufweist, wobei Rasterwinkel, Lochtiefe oder Verjüngungen innerhalb der Oberflächenstruktur unterschiedlich sind, (b) man formt gegebenenfalls von der positiven Matrize eine negative Matrize ab, (c) man besprüht die negative Matrize mit einer Kunststoff-Formulierung, wobei die negative Matrize eine Temperatur im Bereich von 50 bis 200°C aufweist, (d) man lässt die Kunststoff-Formulierung zu einem Film verfestigen, (e) man verbindet den Film mit einem Substrat (A), (f) und man trennt die Matrize ab, wobei man die Arbeitsschritte (e) und (f) in beliebiger Reihenfolge durchführen kann.
Abstract:
본 발명은 휴대용 통신기기의 내장형 안테나와 같은 입체적인 도체 패턴의 제조 방법 및 장치에 관한 것으로서, 본 발명의 입체적인 도체 패턴 제조 장치는, 입체 형상의 기재 표면에 원하는 궤적을 따라 레이저를 조사하여 상기 기재 표면을 선택적으로 가공할 수 있는 레이저 조사장치; 및 상기 레이저 조사장치에 의한 레이저 조사 중에 상기 기재를 고정 지지하는 지그로서, 상면에는 상기 기재의 앞면이 위를 향하도록 상기 기재를 고정하는 제1고정부와, 상기 기재의 뒷면이 위를 향하도록 상기 기재를 고정하는 제2고정부가 형성되어 있는 지그;를 구비한다. 본 발명에 따르면, 레이저 가공과 전해 도금 및 특정한 구조의 지그를 이용함으로써, 높은 생산성으로, 입체 형상의 기재 표면에 직접 입체 형상의 도체 패턴을 형성할 수 있다.
Abstract:
The present invention relates to a method for processing a nano fine electrode within a biochemical analysis chip. More particularly, a metal pattern is formed within a mother material, and then the mother material and the metal pattern are processed at the same time using a femtosecond laser to precisely and finely form a fine electrode in a fine channel. Also, only the metal pattern is additionally processed through a femtosecond laser nano surface processing method to obtain a more precise metal pattern on a nano scale level. As a result, a nano scale fine electrode having a size less than about 100 nanometers may be obtained. Also, accuracy of a nanometer level between the fine electrode and the fine channel may be secured, and the processing process may be simplified.
Abstract:
Methods of manufacturing a vacuum chamber and methods of forming a port tube for use in connection with a vacuum chamber are provided. Vacuum chambers, bodies, containers, port tubes, and related components made in accordance with these methods are also disclosed. Further, various laser-based arrangements and equipment (or components) that can be used in connection with these methods are further provided.
Abstract:
본 발명은 레이저 발진기를 온오프함에 따라 발생하는 레이저 빔의 불안정을 회피하여 고품질의 도광판을 제공할 수 있는 도광판 레이저 가공장치에 관한 것으로, 레이저 빔의 진행 경로 상에 배치되어 레이저 빔의 진행을 선택적으로 차단하는 빔 차단수단을 포함하여 이루어진다. (대표도) 도 1
Abstract:
L'installation d'usinage laser (2) pour graver des rainures (8, 9) dans une paroi d'une pièce mécanique (4), en particulier d'une bielle pour moteur à explosion, est équipée d'un dispositif laser à fibre optique (12) et agencée pour fournir des impulsions laser. Le dispositif laser à fibre optique est commandé de manière que les impulsions laser présentent une puissance de crête supérieure à 400 W et au moins deux fois supérieure à la puissance moyenne maximal du dispositif laser et de manière que la durée des impulsions laser est dans le domaine des nanosecondes (1 ns à 1000 ns) ou inférieure. Selon un premier mode de réalisation, le dispositif laser a fibre optique est commandé dans un mode « qcw » (quasi continuous wave). Selon un deuxième mode de réalisation préféré, le dispositif laser à fibre optique est commandé dans un mode déclenché (Q-Switch). Les modes de fonctionnement sélectionnés permettent d'augmenter l'efficacité d'usinage et d'obtenir une rainure avec un profil transversal optimal, notamment un faible rayon de courbure moyen au fond de la rainure permettant ensuite un fractionnement précis de la pièce mécanique avec une moindre force.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum partiellen Lösen einer definierten Fläche einer leitfähigen Schicht von einem Substrat (1). Hierzu wird in einem ersten Verfahrensschritt mittels eines Laserstrahls (3) die Fläche zunächst in Bereiche (4) unterteilt. Hierzu werden die Laserstrahlparameter derart eingestellt, dass lediglich die leitfähige Schicht abgetragen wird, ohne dass dabei zugleich auch das darunterliegende, die leitfähige Schicht tragende Substrat (1) beeinträchtigt wird. Hierzu wird jeder dieser streifenförmigen Bereiche (4) gegenüber den angrenzenden Bereichen (4) der leitfähigen Schicht durch Einbringen einer linienförmigen Ausnehmung (5) entlang eines jeweiligen Umfangs der Bereiche (4) thermisch isoliert. Die Ausnehmungen (5) werden hierzu als im Wesentlichen parallele Geraden eingebracht, die mit den durch den bekannten Verlauf der Leiterbahn (2) bestimmten Hauptachsen (X, Y) einen spitzen Winkel (α) von 22,5° einschließen. Auf diese Weise ist in der Praxis ein paralleler Verlauf der Ausnehmu ngen (5) zu einer Leiterbahn (2) annähernd ausgeschlossen, sodass ein zu der Leiterbahn (2) paralleler thermischer Energieeintrag beim Ablösen des der Leiterbahn (2) benachbarten Bereichs (4) und so eine Schädigung derselben vermieden wird. In einem nachfolgenden Verfahrensschritt werden die Bereiche (4) bei gleichzeitiger Erwärmung mittels einer Fluidströmung entfernt, deren Orientierung relativ zu den Ausnehmungen (5) derart eingestellt wird, dass die Fluidströmung weder parallel noch orthogonal auf die Ausnehmungen (5) trifft.
Abstract:
In a first aspect, the present invention relates to a system or device allowing fast, efficient and flexible laser-beam based processing. Further, the present invention provides a method for laser-beam based processing, e.g. in the field of high-precision laser patterning of micro structures on large-scale surfaces.