公开(公告)号：WO2012029785A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：PCT/JP2011/069613

申请日：2011-08-30

Applicant: 富士フイルム株式会社 ,  南 一守 ,  冨澤 秀樹 ,  有岡 大輔

Inventor： 南　一守 ,  冨澤　秀樹 ,  有岡　大輔

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/0047 ,  G03F7/0385 ,  G03F7/0387 ,  G03F7/0388

Abstract: 　充填剤の表面に－Ｌ １ －ＮＨ－Ｒ ２ （Ｌ １ は炭素数１～１２のアルキレン基、Ｒ ２ は炭素数１～１２の有機基）の部分構造を有する無機充填剤、バインダー、光重合開始剤および重合性化合物を含有し、該感光性組成物の全固形分中における該無機充填剤の含有量が３０質量％以上である感光性組成物、並びに、これを用いた感光性フィルム、永久パターン、永久パターン形成方法及びプリント基板。

Abstract translation: 一种光敏组合物，其表面具有由-L1-NH-R2（其中L1表示具有1-12个碳原子的亚烷基，R2表示具有1-12个碳原子的有机基团）表示的部分结构的无机填料 ，粘合剂，光聚合引发剂和可聚合化合物，其中无机填料相对于感光组合物的总固体含量的含量为30质量％以上; 以及各自使用感光性组合物的感光性膜，永久型图案，永久性图案形成方法和印刷基板。

公开(公告)号：WO2012026400A1

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：PCT/JP2011/068751

申请日：2011-08-19

Applicant: AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社 ,  横山 大志 ,  福家 崇司 ,  田代 裕治 ,  關藤 高志 ,  野中 敏章

Inventor： 横山　大志 ,  福家　崇司 ,  田代　裕治 ,  關藤　高志 ,  野中　敏章

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0757 ,  G03F7/022

Abstract: 一般式（１）：ＲＳｉ（ＯＲ １ ） ３ で示されるシラン化合物と一般式（２）：Ｓｉ（ＯＲ １ ） ４ で示されるシラン化合物を塩基性触媒の存在下で加水分解・縮合させて得られ、プリベーク後の膜の５重量％ＴＭＡＨ水溶液に対する溶解度が１，０００Å／秒以下であるポリシロキサン（Ｉａ）、少なくとも前記一般式（１）で示されるシラン化合物を酸性あるいは塩基性触媒の存在下で加水分解・縮合させて得られ、プリベーク後の膜の２．３８重量％ＴＭＡＨ水溶液に対する溶解度が１００Å／秒以上であるポリシロキサン（Ｉｂ）、ジアゾナフトキノン誘導体及び溶剤を含有するポジ型感光性シロキサン組成物。 （式中、Ｒは、任意のメチレンが酸素で置き換えられてもよい炭素数１～２０の直鎖状、分岐状あるいは環状アルキル基、または炭素数６～２０で任意の水素がフッ素で置き換えられてもよいアリール基を表し、Ｒ １ は、炭素数１～５のアルキル基を表す。）

Abstract translation: 一种正型感光性硅氧烷组合物，其含有聚硅氧烷（Ia），其通过使通式（1）中的RSi（OR 1）3表示的硅烷化合物和通式（1）中的Si（OR 1）4表示的硅烷化合物）通式 （2）在碱性催化剂存在下，其预烘膜在5重量％TMAH水溶液中的溶解速率为1000埃/秒以下; 通过在酸或碱性催化剂的存在下至少使通式（1）表示的硅烷化合物水解和缩合得到的聚硅氧烷（Ib），其预烘膜的溶解速率为 在2.38重量％TMAH水溶液中的/秒以上; 和重氮萘醌衍生物和溶剂。 （式中，R表示碳原子数1〜20的直链状，支链状或环状的烷基，其中任意亚甲基可被氧代替，或表示碳原子数为6〜20的芳基， 被氟取代; R1是具有1至5个碳原子的烷基）

公开(公告)号：WO2012020599A1

公开(公告)日：2012-02-16

申请号：PCT/JP2011/063727

申请日：2011-06-15

Applicant: 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ,  津金 菜採 ,  斎藤 秀夫 ,  日下部 透 ,  仲道 元則

Inventor： 津金　菜採 ,  斎藤　秀夫 ,  日下部　透 ,  仲道　元則

IPC: C08G77/20 ,  C08F299/08 ,  C08G77/14 ,  C08L83/06 ,  C08L83/07 ,  G03F7/075

CPC classification number: C08L83/00 ,  C08F299/08 ,  C08G77/14 ,  C08G77/20 ,  C08K5/0025 ,  C08K9/06 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/0757 ,  C08L83/04 ,  C08L83/06

Abstract: 　厚膜でもクラック耐性が良好であり、低線膨張係数、低熱重量減少及び低収縮率を維持できる光硬化樹脂硬化物を与える樹脂組成物を提供する。本発明に係る感光性シリコーン樹脂組成物は、シリカ粒子含有縮合反応物（Ａ）と光重合開始剤（Ｂ）を含む感光性シリコーン樹脂組成物であって、該シリカ粒子含有縮合反応物（Ａ）は、下記一般式（１）：Ｒ １ ｎ１ ＳｉＸ １ ４－ｎ１ ｛式中、Ｒ １ 、ｎ１、Ｘ １ は請求項で定義。｝で表される１種類以上のシラン化合物の加水分解縮合生成物からなるポリシロキサン化合物（ａ）及び／又は該シラン化合物と、シリカ粒子（ｂ）との縮合反応物であり、末端構造Ｓｉ－Ｏ－Ｙ（式中、Ｙは請求項で定義。）は、以下式（２）：０＜［Ｓｉ－Ｏ－ＳｉＲ ３ ３ ］／（［Ｓｉ－Ｏ－Ｒ ２ ］＋［Ｓｉ－Ｏ－ＳｉＲ ３ ３ ］）≦１｛式中、Ｒ ２ とＲ ３ は請求項で定義。｝を満たし、かつ、光重合性官能基を有することを特徴とする。

Abstract translation: 提供一种树脂组合物，其即使形成为厚膜也能获得具有良好抗龟裂性的光固化性树脂的固化物，并且能够维持低的线膨胀系数，低热重损失和低收缩率。 该感光性有机硅树脂组合物含有（A）含有二氧化硅颗粒的缩合反应产物和（B）光聚合引发剂，其特征在于含二氧化硅颗粒的缩合反应产物（A）是聚硅氧烷化合物 （a）包含由以下通式（1）表示的一种或多种硅烷化合物的水解缩合产物：R1n1SiX1 4-n1（其中R1，n1和X1如权利要求中所定义）和/或硅烷化合物， 和二氧化硅颗粒（b），并且具有满足下式（2）的Si-OY（其中Y定义在权利要求中）的末端结构：0 3 3] /（[Si-O-R 2] + [Si -O-SiR 3 3]）= 1（其中R 2和R 3在权利要求中定义），并具有光聚合官能团。

公开(公告)号：WO2012014059A1

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：PCT/IB2011/001756

申请日：2011-07-27

Applicant: AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.

Inventor： WU, Hengpeng ,  LI, Meng ,  CAO, Yi ,  YIN, Jian ,  LEE, DongKwan ,  HONG, Sung-Eun ,  PAUNESCU, Margareta

IPC: C09D183/08 ,  G03F7/075 ,  G03F7/40 ,  C09D4/00

CPC classification number: C09D183/08 ,  C08G77/26 ,  C08K5/09 ,  C08K5/544 ,  G03F7/405

Abstract: The present invention relates to an aqueous composition for coating over a photoresist pattern comprising a first water soluble compound comprising at least a silicon moiety and at least one amino group, and a second compound comprising at least 1 carboxylic acid group. The invention further relates to processes for using the novel invention.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的水性组合物，其包含至少包含硅部分和至少一个氨基的第一水溶性化合物和包含至少1个羧酸基团的第二化合物。 本发明还涉及使用本发明的方法。

公开(公告)号：WO2011136073A1

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：PCT/JP2011/059573

申请日：2011-04-18

Applicant: JSR株式会社 ,  一戸 大吾

Inventor： 一戸　大吾

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/40

Abstract: 　本発明は、［Ａ］同一又は異なる重合体分子中に、下記式（１）で表される基を有する構造単位（Ｉ）とエポキシ基含有構造単位（ＩＩ）とを含む重合体、［Ｂ］シロキサンポリマー、及び［Ｃ］光酸発生体を含有するポジ型感放射線性組成物である。［Ｂ］シロキサンポリマーは、下記式（２）で表される加水分解性シラン化合物の加水分解縮合物であることが好ましい。［Ａ］重合体と［Ｂ］シロキサンポリマーの合計に対する［Ａ］重合体の質量比は５質量％以上９５質量％以下であることが好ましい。

Abstract translation: 公开了一种阳性辐射敏感性组合物，其含有：在相同或不同的聚合物分子中具有含有式（1）所示基团的结构单元（I）和含环氧基的结构单元（ II）; 硅氧烷聚合物[B]; 和光致酸发生剂[C]。 硅氧烷聚合物[B]优选为由式（2）表示的水解硅烷化合物的水解缩合物。 聚合物[A]与聚合物[A]和硅氧烷聚合物[B]的总量的质量比优选为5〜95质量％。

公开(公告)号：WO2011092994A1

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：PCT/JP2010/073774

申请日：2010-12-28

Applicant: JSR株式会社 ,  伊東 宏和 ,  石川 悟司 ,  山村 哲也 ,  花村 政暁 ,  有村 雄一朗

Inventor： 伊東　宏和 ,  石川　悟司 ,  山村　哲也 ,  花村　政暁 ,  有村　雄一朗

IPC: H01L33/14 ,  G03F7/075 ,  H01L21/312 ,  H01S5/323

CPC classification number: G03F7/0757 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  H01L33/007 ,  H01L33/145

Abstract: 　本発明は、電流阻止層を有する半導体発光素子の製造方法において、エッチングなどのプロセスを介さず、種々の位置や層上に種々の形状の電流阻止層を形成することが可能な、半導体発光素子の製造方法、当該半導体発光素子の製造方法によって得られる半導体発光素子、および当該半導体発光素子の製造方法に用いられる感光性組成物を提供することを目的とする。本発明は、電流阻止層を有する半導体発光素子の製造方法において、リソグラフィー法により感光性組成物から得られるパターンを形成し、該パターンを電流阻止層とすることを特徴とする。

Abstract translation: 本发明提供一种具有电流阻挡层的半导体发光元件的制造方法，其中，可以在层上的各个位置上形成各种形状的电流阻挡层，而不涉及蚀刻工艺。 还提供了通过所述半导体发光元件的制造方法获得的半导体发光元件和用于制造半导体发光元件的所述方法中使用的光敏组合物。 制造具有电流阻挡层的半导体发光元件的方法包括通过光刻法形成可由光敏组合物获得的图案，其特征在于所述图案变为电流阻挡层。

公开(公告)号：WO2011081321A2

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：PCT/KR2010/008849

申请日：2010-12-10

Applicant: 제일모직 주식회사 ,  김미영 ,  김상균 ,  조현모 ,  고상란 ,  윤희찬 ,  정용진 ,  김종섭

Inventor： 김미영 ,  김상균 ,  조현모 ,  고상란 ,  윤희찬 ,  정용진 ,  김종섭

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0752 ,  C08G77/16 ,  C08G77/18 ,  C08L83/04 ,  C08L83/06 ,  G03F7/11 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/02216 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0332

Abstract: 화학식 1로 표시되는 구조단위 40 내지 80 몰%를 포함하는 유기실란계 축중합물 및 용매를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물이 제공된다.　 이로써, 본 발명은 저장안정성 및 내에칭성이 우수한 레지스트 하층막을 제공하여 우수한 패턴을 전사할 수 있는 레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 반도체 집적회로 디바이스의 제조방법을 제공할 수 있다.

Abstract translation: 提供了一种抗蚀剂底层的组合物，包括有机硅烷系缩聚化合物和溶剂，其中，有机硅烷类缩聚化合物含有40〜80摩尔％的化学式表示的结构单元 因此，本发明涉及使用具有优异的储存稳定性和耐蚀刻性的抗蚀剂的底层，以及使用其制造半导体集成电路的方法，能够实现优异的图案转印性的抗蚀剂底层组合物 设备。

公开(公告)号：WO2011004991A1

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：PCT/KR2010/004358

申请日：2010-07-05

Applicant: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION

Inventor： LEE, Kwangyeol

IPC: B29C33/42 ,  B82B3/00 ,  H01L21/02 ,  B29C33/56 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027 ,  B81C1/00 ,  G03F7/09

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

Abstract: Nanoimprint molds for molding a surface of a material are provided. A nanoimprint mold includes a body with a molding surface that is formed by shaped nanopillars. The nanopillars may be formed on a substrate and shaped by performing at least a first partial oxidation of the nanopillars and then removing at least a portion of the oxidized material. Once shaped, a hard substance is deposited on the nanopillars to begin forming the molding surface of the nanoimprint mold. The deposition of a hard substance is followed by the deposition of carbon nanotube on the hard substance and then the removal of the substrate and nanopillars from the molding surface.

Abstract translation: 提供用于模制材料表面的纳米压印模具。 纳米压印模具包括具有由成形的纳米柱形成的模制表面的主体。 纳米柱可以形成在基底上并通过进行至少第一次部分氧化纳米柱然后去除至少一部分氧化的材料而成型。 一旦成形，硬质物质沉积在纳米柱上以开始形成纳米压印模具的模制表面。 硬质物质的沉积之后是将碳纳米管沉积在硬质物质上，然后从模制表面去除基底和纳米柱。

公开(公告)号：WO2010050614A1

公开(公告)日：2010-05-06

申请号：PCT/JP2009/068935

申请日：2009-10-29

Applicant: FUJIFILM CORPORATION ,  KODAMA, Kunihiko

Inventor： KODAMA, Kunihiko

IPC: C08F259/08 ,  C08F265/06 ,  C08F275/00 ,  C08F279/00 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/075

CPC classification number: C08F259/08 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F265/00 ,  C08F265/04 ,  C08F283/12 ,  C08L51/003 ,  C09D183/10 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0758 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31935 ,  Y10T428/31938 ,  C08L2666/02

Abstract: A composition for imprints comprising a polymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and a polymer having a functional group with at least one of a fluorine atom or a silicon atom and having a polymerizable functional group, wherein the polymer has a weight-average molecular weight of at least 2000 and the amount of the polymer is from 0.01 to 20% by mass relative to the polymerizable monomer, is excellent in patternability and mold releasability, capable of forming good patterns and free from a problem of mold contamination.

Abstract translation: 一种用于印痕的组合物，其包含可聚合单体，光聚合引发剂和具有至少一个氟原子或硅原子并具有可聚合官能团的官能团的聚合物，其中所述聚合物的重均分子量为 至少2000，聚合物的量相对于可聚合单体为0.01〜20质量％，具有优异的图案性和脱模性，能够形成良好的图案并且没有模具污染的问题。

公开(公告)号：WO2010047138A1

公开(公告)日：2010-04-29

申请号：PCT/JP2009/055029

申请日：2009-03-16

Applicant: 日立化成工業株式会社 ,  青木 陽介 ,  阿部 浩一 ,  粕谷 圭

Inventor： 青木 陽介 ,  阿部 浩一 ,  粕谷 圭

IPC: G03F7/075 ,  C08G77/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: C09D183/02 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/24802

Abstract: 　本発明の感光性樹脂組成物は、（ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含む第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：前記（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステルと、を含有するものである。 　 ［式（１）中、Ｒ １ は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］

Abstract translation: 公开了一种感光性树脂组合物，其含有作为第一硅氧烷树脂的组分（a），其是通过水解缩合含有通式（1）表示的化合物的第一硅烷化合物，作为能够 溶解组分（a）和作为苯酚或醇的酯的组分（c）和萘醌二叠氮化物磺酸盐。 [式（1）中，R 1表示有机基团。 A表示二价有机基团; X表示水解性基团; 并且分子中的多个X可以彼此相同或不同。]