公开(公告)号：WO2011076416A1

公开(公告)日：2011-06-30

申请号：PCT/EP2010/007904

申请日：2010-12-23

Applicant: DÜRR DENTAL AG ,  HÄNTSCH, Herbert ,  DÜRRSTEIN, Martin ,  GEBHARDT, Herbert ,  BAUER, Walter ,  HATZFELD, Frank

Inventor： HÄNTSCH, Herbert ,  DÜRRSTEIN, Martin ,  GEBHARDT, Herbert ,  BAUER, Walter ,  HATZFELD, Frank

IPC: A61B6/14 ,  A61B6/04 ,  A61B5/00 ,  A61C19/04 ,  A61C9/00 ,  H01J35/32 ,  G06T7/00 ,  A61B6/02 ,  G01B11/25 ,  G06T5/00

CPC classification number: A61B6/145 ,  A61B5/0088 ,  A61B6/025 ,  A61B6/0457 ,  A61B6/4417 ,  A61B6/542 ,  A61B6/547 ,  A61B6/585 ,  A61B6/587 ,  A61B6/588 ,  A61B2562/17 ,  A61C7/00 ,  A61C9/004 ,  G01B11/2545 ,  G06T5/006 ,  G06T2207/10116 ,  G06T2207/20221 ,  G06T2207/30036

Abstract: Bei einem Verfahren zur Herstellung von entzerrten Röntgenbildern für die zahnmedizinische oder kieferorthopädische Diagnostik wird eine Röntgenquelle (28) in der Mundhöhle (34) eines Patienten (36) eingeführt. Ein Röntgendetektor (32) wird so angeordnet, dass er sich von außen zumindest um einen Teil des Kieferbogens des Patienten (36) herum erstreckt. Dann werden die Zähne des Patienten (36) mit Röntgenstrahlung durchleuchtet, wobei die auf den Röntgendetektor (32) auftreffende Röntgenstrahlung erfasst wird. Auf der Grundlage der von dem Röntgendetektor erfassten Röntgenstrahlung wird ein digitales Röntgenbild erzeugt. Erfindungsgemäß werden die Koordinaten von mehreren auf den Zähnen (38) liegenden Messpunkten mit Hilfe einer Messeinrichtung (50; 64; 73; 50a bis 50d; 106a, 106b, 66a, 66b; 110a, 110b; 130) gemessen. Unter Verwendung dieser Koordinaten wird schließlich das digitale Röntgenbild entzerrt.

Abstract translation: 在用于制造用于在患者的口腔内（34）牙科或正畸诊断用X射线源（28）均衡的X射线图像的方法（36）被引入。 的X射线检测器（32）被布置成使得其从患者的牙弓（36）周围的至少外侧的部分延伸。 然后患者（36）的牙齿通过x-射线辐射，X射线的检测器进行检测（32）入射的X射线辐射。 基于由X射线检测器的X射线辐射的数字X射线图像中检测出的信息为基础生成的。 根据本发明，多个位于测量点与测量装置的帮助下齿（38）的坐标是（64; 50 73; 50a到50d的; 130 106A，106B，66A，66B; 110A，110B）进行测定。 使用这些坐标，数字X射线图像最终扳平。

公开(公告)号：WO2011012236A1

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：PCT/EP2010/004377

申请日：2010-07-19

Applicant: COPF, Franz, Jun.

Inventor： COPF, Franz, Jun.

IPC: A61B17/70

CPC classification number: A61B17/7035 ,  A61B17/7032 ,  A61B17/7034 ,  A61B17/7041

Abstract: A spine fixation system (10; 210; 310) comprises a first rod (16; 216) that connects a first vertebra (V2) to a second vertebra (V) but not to a third vertebra (V4), and a second rod (14; 214) that connects the second vertebra (V3) to the third vertebra (V4) but not to the first vertebra. The spine fixation system is configured such that first vertebra (V2), but not the third vertebra (V4), is allowed to move relative to the second (V3) vertebra after the spine fixation system has been completely implanted.

Abstract translation: 脊固定系统（10; 210; 310）包括将第一椎骨（V2）连接到第二椎骨（V）但不连接到第三椎骨（V4）的第一杆（16; 216）和第二杆 14），其将所述第二椎骨（V3）连接到所述第三椎骨（V4），而不连接到所述第一椎骨。 脊柱固定系统构造成使得在脊柱固定系统已经被完全植入之后允许第一椎骨（V2）而不是第三椎骨（V4）相对于第二（V3）椎骨移动。

公开(公告)号：WO2008131930A1

公开(公告)日：2008-11-06

申请号：PCT/EP2008/003371

申请日：2008-04-25

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  FISCHER, Jürgen ,  BENZ, Daniel ,  STACKLIES, Horst ,  BACH, Florian ,  MÜHLBERGER, Norbert

Inventor： FISCHER, Jürgen ,  BENZ, Daniel ,  STACKLIES, Horst ,  BACH, Florian ,  MÜHLBERGER, Norbert

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70216 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70158 ,  G03F7/702

Abstract: A mirror matrix (1), particularly for use in an illumina tion system of a microlithographic exposure apparatus, comprises at least two mirror elements (10), which are arranged next to one another on a support (2). Each mirror element has a reflective surface (11), an installation volume (50) associated with the mirror element, a bearing (20) defining a rotational axis (21) and an electromagnetic drive (30). The drive comprises a stator unit (31) and a rotor unit (30) that is connected to the mirror substrate (12). The electromagnetic drive is configured to tilt the mirror substrate (12) about the rotational axis (21) such that the stator unit (31) is always arranged inside the installation volume (50), and such that the rotor unit (32) does not enter the installation volume (150) of a neighbouring mirror element (110) when the mirror substrate (12) has reached its maximum tilting angle.

Abstract translation: 特别是用于微光刻曝光设备的照明系统的镜面阵列（1）包括在支撑件（2）上彼此相邻布置的至少两个镜元件（10）。 每个镜元件具有反射表面（11），与镜元件相关联的安装体积（50），限定旋转轴线（21）的轴承（20）和电磁驱动器（30）。 驱动器包括定子单元（31）和连接到反射镜基板（12）的转子单元（30）。 电磁驱动器被配置为使反射镜基板（12）围绕旋转轴线（21）倾斜，使得定子单元（31）总是布置在安装体积（50）内，并且使得转子单元（32）不 当反射镜基板（12）达到其最大倾斜角时，进入相邻镜元件（110）的安装体积（150）。

公开(公告)号：WO2008116616A1

公开(公告)日：2008-10-02

申请号：PCT/EP2008/002304

申请日：2008-03-22

Applicant: CARL ZEISS AG ,  MAX-PLANCK-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER WISSENSCHAFT E. V. ,  SPATZ, Joachim, P. ,  BRUNNER, Robert ,  LOHMÜLLER, Theobald

Inventor： SPATZ, Joachim, P. ,  BRUNNER, Robert ,  LOHMÜLLER, Theobald

IPC: G02B1/11

CPC classification number: G02B1/11 ,  B81B2203/0361 ,  B81C1/00396 ,  C03C15/00 ,  C03C17/008 ,  C03C17/009 ,  C03C17/10 ,  C03C17/25 ,  C03C17/256 ,  C03C23/0005 ,  C03C23/006 ,  C03C2217/21 ,  C03C2217/212 ,  C03C2217/217 ,  C03C2217/25 ,  C03C2217/254 ,  C03C2217/255 ,  C03C2217/256 ,  C03C2217/27 ,  C03C2217/29 ,  C03C2217/73 ,  C03C2218/111 ,  C03C2218/32 ,  C03C2218/34 ,  G02B1/111

Abstract: Es wird ein Verfahren zur Erzeugung einer Antireflektionsoberfläche auf einem optischen Element angegeben, welches folgende Schritte umfaßt : a) Bereitstellen des optischen Elements; b) Bereitstellen von unbeladenen kugelförmigen mizellenartigen Polymereinheiten, welche einen inneren Kernbereich und einen äußeren Hüllenbereich aufweisen; c) Beschichten wenigstens eines Bereichs der Oberfläche des optischen Elements mit Polymereinheiten, derart, daß die Polymereinheiten in einer filmartigen Schicht in einer im wesentlichen regelmäßigen Anordnung auf der Oberfläche des optischen Elements verteilt sind. Ferner wird ein optisches Element angegeben, dessen Antireflexionsoberfläche (28a, 28b, 28c) kugelförmige mizellenartige Polymereinheiten (16a, 16b, 16c), welche einen inneren Kernbereich (18) und einen äußeren Hüllenbereich (20) aufweisen und in einer filmartigen Schicht (26a, 26b, 26c) in einer im wesentlichen regelmäßigen Anordnung auf der Oberfläche des optischen Elements (22) verteilt sind, umfaßt. Es wird außerdem ein optisches Element angegeben, dessen Antireflexionsoberfläche (34, 34a) Metall-Cluster (32, 32a) und/oder Metalloxid-Cluster (38, 38) umfaßt, die in einer im wesentlichen regelmäßigen Anordnung auf der Oberfläche des optischen Elements (22) verteilt sind.

Abstract translation: 一种用于形成提供了一种光学元件上形成防反射表面，其包括以下步骤的方法：a）提供光学元件; b）提供具有一个内芯区域和外部包层区域卸载球形胶束的聚合物单元; C）涂层的至少与聚合物单元的光学元件的表面的一部分，使得所述聚合物单元被分布在膜状层中的光学元件的表面上形成基本上规则阵列。 此外，被指定的光学元件，防反射表面（28A，28B，28​​C），其具有在膜状层26a中的内部芯部区域（18）和外壳部分（20）和（球形胶束的聚合物单元（16A，16B，16C）， （22）包括26B，26C）被分布在光学元件的表面上形成基本上规则阵列。 它也提供了一种光学元件，防反射表面（34，34A）的金属簇（32，32A）和/或金属氧化物簇（38，38），其（在光学元件的表面上形成基本上规则的阵列 22）分布。

公开(公告)号：WO2008092653A2

公开(公告)日：2008-08-07

申请号：PCT/EP2008/000706

申请日：2008-01-30

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  DIECKMANN, Nils ,  MAUL, Manfred ,  HETTICH, Christian ,  NATT, Oliver

Inventor： DIECKMANN, Nils ,  MAUL, Manfred ,  HETTICH, Christian ,  NATT, Oliver

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191

Abstract: An illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises at least one transmission filter (66; 166; 266; 366; 466; 566; 666; 666'; 766, 766'; 866, 866') which has a different transmittance at least at two positions and which is arranged between a pupil plane (42, 60) and a field plane (52, 58). The transmittance distribution is determined such that it has field dependent correcting effects on the ellipticity. In some embodiments the telecentricity and/or the irradiance uniformity is not affected by this correction.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置的照明系统包括至少一个透射过滤器（66; 166; 266; 366; 466; 566; 666; 666'; 766,766'; 866,866'）， 在两个位置处，并且其布置在瞳孔平面（42,60）和场平面（52,58）之间。 确定透射率分布，使得其对椭圆率具有场依赖校正效应。 在一些实施例中，远心度和/或辐照度均匀性不受该校正的影响。

公开(公告)号：WO2008009356A1

公开(公告)日：2008-01-24

申请号：PCT/EP2007/005986

申请日：2007-07-06

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  GRUNER, Toralf ,  ZAHLTEN, Claus ,  TSCHISCHGALE, Jörg

Inventor： GRUNER, Toralf ,  ZAHLTEN, Claus ,  TSCHISCHGALE, Jörg

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70883 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70575

Abstract: Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage weist ein Projektionsobjektiv (20; 120), das mehrere optische Elemente (56; 156) enthält, sowie ein Gerät (58; 116, 155, 162a, 162b) auf, an dem ein Geräteparameter abruf bar ist. Der Geräteparameter bezieht sich auf eine Umgebungsbedingung oder eine Zustandgröße von mindestens einem der optischen Elemente. Der Geräteparameter kann sich auch auf eine Stellgröße eines Betätigungselements beziehen, durch das die Wirkung wenigstens einer Komponente (116) der Projektionsbelichtungsanlage veränderbar ist. Mit einer Temperiereinrichtung (44; 144) ist die Temperatur einer innerhalb oder außerhalb des Projektionsobjektivs angeordneten und von Projektionslicht (13; 113) durchtretenen Flüssigkeit (38; 138) auf einen SoIlwert einstellbar. Eine Steuerungseinheit (48; 148) bestimmt den Sollwert für die Temperatur der Flüssigkeit in Abhängigkeit von dem Geräteparameter.

Abstract translation: 微光刻投射曝光设备包括投射物镜（20; 120），所述多个光学元件（56; 156）和设备（58; 116，155，162A，162B），在其上装置参数检索栏。 设备参数涉及的环境条件或所述光学元件中的至少一个的状态变量。 设备参数也可以指的是致动元件，通过该投影曝光装置的效果是可变的至少一个部件（116）的操纵变量。 用调温装置（44; 144）是它被布置内部或投影透镜之外，并且投射光（13; 113）中的温度通过转义液体（38; 138）可调节到一个SoIlwert。 控制单元（48; 148）确定用于根据设备参数的液体的温度的目标值。

公开(公告)号：WO2007144193A1

公开(公告)日：2007-12-21

申请号：PCT/EP2007/005297

申请日：2007-06-15

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  SCHUSTER, Karl-Heinz ,  FELDMANN, Heiko ,  GRUNER, Toralf ,  TOTZECK, Michael ,  CLAUSS, Wilfried ,  BEDER, Susanne ,  KRÄHMER, Daniel ,  DITTMANN, Olaf

Inventor： SCHUSTER, Karl-Heinz ,  FELDMANN, Heiko ,  GRUNER, Toralf ,  TOTZECK, Michael ,  CLAUSS, Wilfried ,  BEDER, Susanne ,  KRÄHMER, Daniel ,  DITTMANN, Olaf

IPC: G02B27/00 ,  G03F7/20 ,  G02B5/30

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B5/3091 ,  G02B27/0025 ,  G03F7/70308

Abstract: A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus has a high index refractive optical element (L3) with an index of refraction greater than 1.6. This element (L3) has a volume and a material related optical property which varies over the volume. Variations of this optical property cause an aberration of the objective. In one embodiment at least 4 optical surfaces are provided that are arranged in at least one volume (L3') which is optically conjugate with the volume of the refractive optical element. Each optical surface comprises at least one correction means, for example a surface deformation or a birefringent layer with locally varying properties, which at least partially corrects the aberration caused by the variation of the optical property.

Abstract translation: 微光刻投影曝光装置的投影物镜具有折射率大于1.6的高折射率折射光学元件（L3）。 该元件（L3）具有在体积上变化的体积和材料相关的光学性质。 该光学特性的变化导致物镜的像差。 在一个实施例中，提供至少4个光学表面，其布置在与折射光学元件的体积光学共轭的至少一个体积（L3'）中。 每个光学表面包括至少一个校正装置，例如具有局部变化特性的表面变形或双折射层，其至少部分地校正由光学性质的变化引起的像差。

公开(公告)号：WO2007093436A1

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：PCT/EP2007/001370

申请日：2007-02-16

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  WOLF, Oliver ,  SIEKMANN, Heiko ,  KALCHBRENNER, Eva ,  RENNON, Siegfried ,  WANGLER, Johannes ,  BRESAN, Andre ,  GERHARD, Michael ,  HAVERKAMP, Nils ,  SCHOLZ, Axel ,  SCHARNWEBER, Ralf ,  LAYH, Michael ,  BURKART, Stefan

Inventor： WOLF, Oliver ,  SIEKMANN, Heiko ,  KALCHBRENNER, Eva ,  RENNON, Siegfried ,  WANGLER, Johannes ,  BRESAN, Andre ,  GERHARD, Michael ,  HAVERKAMP, Nils ,  SCHOLZ, Axel ,  SCHARNWEBER, Ralf ,  LAYH, Michael ,  BURKART, Stefan

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70075 ,  Y10T83/0304 ,  Y10T83/04

Abstract: An optical integrator for producing a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a first array of elongated convexly curved first microlenses (112X) that are arranged side by side in a first plane and have first vertex lines (V). The optical integrator further comprises a second array of elongated convexly curved second microlenses (114X; 214X) that are arranged side by side in a second plane and have second vertex lines (V 1 to V 4 ). At least one second vertex line or a portion thereof does not coincide, in a projection along an optical axis of the optical integrator, with any one of the first vertex lines (V) or portions thereof.

Abstract translation: 一种用于在微光刻投影曝光装置的照明系统中制造多个次级光源的光学积分器，包括在第一平面中并排设置并具有第一顶点线的第一阵列的细长的凸形弯曲的第一微透镜（112X） V）。 光学积分器还包括细长的凸形弯曲的第二微透镜（114X; 214X）的第二阵列，所述第二阵列在第二平面中并排布置，并且具有第二顶点线（V SUB 1至V 4） ）。 在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶点线或其一部分与第一顶点线（V）中的任何一个或其部分不一致。

公开(公告)号：WO2007003437A2

公开(公告)日：2007-01-11

申请号：PCT/EP2006/006608

申请日：2006-07-06

Applicant: COPF, Franz, Jun.

Inventor： COPF, Franz, Jun.

IPC: A61F2/44 ,  A61F2/46

CPC classification number: A61F2/447 ,  A61F2/28 ,  A61F2/30767 ,  A61F2/4611 ,  A61F2002/2835 ,  A61F2002/30112 ,  A61F2002/30266 ,  A61F2002/30383 ,  A61F2002/30471 ,  A61F2002/30604 ,  A61F2002/30772 ,  A61F2002/30777 ,  A61F2002/30878 ,  A61F2002/30879 ,  A61F2002/30884 ,  A61F2002/30902 ,  A61F2002/30904 ,  A61F2002/30975 ,  A61F2002/4475 ,  A61F2002/448 ,  A61F2002/4627 ,  A61F2220/0025 ,  A61F2220/0091 ,  A61F2230/0004 ,  A61F2230/0082 ,  A61F2310/00023 ,  A61F2310/0058

Abstract: A rigid cage (110) to be introduced into an intervertebral-disc compartment between two adjacent vertebrae is assembled from two constituent elements (110a, 110b) along a jointing face which extends parallel to transverse sides of the cage. According to another embodiment, operating means, for example a pair of rods (231, 233), may be fastened to a cage (210) in order to rotate the cage within the intervertebral-disc compartment. Both approaches make it possible to introduce the cage through an access canal having a very omall diameter.

Abstract translation: 被引入到两个相邻椎骨之间的椎间盘腔室中的刚性保持架（110）由两个组成元件（110a，110b）沿着平行于所述椎间盘的横向侧延伸的接合面组装 笼。 根据另一个实施例，操作装置（例如一对杆（231,233））可以被紧固到笼（210）上，以便使笼在椎间盘腔室内旋转。 两种方法都可以通过一个直径非常小的通道引入笼子。

公开(公告)号：WO2007003436A1

公开(公告)日：2007-01-11

申请号：PCT/EP2006/006607

申请日：2006-07-06

Applicant: COPF, Franz, Jun.

Inventor： COPF, Franz, Jun.

IPC: A61B17/17 ,  A61G13/04 ,  A61B17/16

CPC classification number: A61B17/1757 ,  A61B17/1671 ,  A61B90/39

Abstract: A system for aligning a material-abrading tool (56, 58) relative to an intervertebral-disc compartment at the start of an intervertebral-disc operation comprises an operating table (12), which is capable of being tilted about its longitudinal axis (14), and an image-recording device (22) for recording lateral images of the intervertebral-disc compartment. The tool (56, 58) is capable of being fastened to a reference frame (20), which is arranged above the operating table (12), in a defined relative position with respect to the reference frame (20). Fαrthermore, the reference frame (20) is capable of being tilted about a tilt axis parallel to the longitudinal axis (14) of the operating table (12). The system comprises, in addition, an alignment element (30) which is rigidly connected to the reference frame (20) and at the same time capable of being registered with the intervertebral-disc compartment by the image-recording device (22).

Abstract translation: 在椎间盘手术开始时相对于椎间盘隔间对准材料研磨工具（56,58）的系统包括操作台（12），其能够围绕其纵向轴线（14）倾斜 ）和用于记录椎间盘隔室的横向图像的图像记录装置（22）。 工具（56,58）能够被固定到相对于参考框架（20）限定的相对位置的布置在操作台（12）上方的参考框架（20）。 另外，参考框架（20）能够围绕平行于操作台（12）的纵向轴线（14）的倾斜轴线倾斜。 此外，该系统还包括刚性地连接到参考框架（20）并且同时能够通过图像记录装置（22）与椎间盘隔室对准的对准元件（30）。