公开(公告)号：WO2009022428A1

公开(公告)日：2009-02-19

申请号：PCT/JP2007/065968

申请日：2007-08-16

申请人： 旭硝子株式会社 ,  生田 順亮

发明人： 生田 順亮

IPC分类号： C03C23/00 ,  C03C15/00 ,  C03C15/02 ,  G03F1/14 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F1/74 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0005 ,  G03F1/82

摘要： 　ガラス基板の表面粗さを該基板の表面全体にわたって増加させることなしに、該基板表面に強固に付着した異物を除去する方法を提供。 　ガラス基板表面から異物を除去する方法であって、前記ガラス基板表面の前記異物が存在する部位周辺に高エネルギービームを照射して、前記高エネルギービームが照射された部位周辺にガラス基板の構成材料の構造的変化による応力を生じさせる工程と、前記高エネルギービーム照射後のガラス基板表面をウェットエッチングする工程と、を含むことを特徴とするガラス基板表面から異物を除去する方法。

摘要翻译： 在不增加玻璃基板的整个基板表面的表面粗糙度的情况下，除去强烈地附着在玻璃基板的表面上的任何异物的方法。 提供从玻璃基板的表面去除任何异物的方法，其特征在于包括以下步骤：用高能量束照射外部物质所在位置周围的玻璃基板的表面，以产生归因于 构成玻璃基板周围的材料的结构变化在用能量束照射的部位上; 并且在用高能量束照射之后湿法蚀刻玻璃基板的表面。

公开(公告)号：WO2009019376A2

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：PCT/FR2008/051308

申请日：2008-07-11

申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE ,  VIASNOFF, Emilie ,  DURANDEAU, Anne ,  NGHIEM, Bernard ,  MONTIGAUD, Hervé ,  LE BELLAC, David

发明人： VIASNOFF, Emilie ,  DURANDEAU, Anne ,  NGHIEM, Bernard ,  MONTIGAUD, Hervé ,  LE BELLAC, David

IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C17/00 ,  C03C17/30 ,  C03C17/34 ,  C03C17/09 ,  B44C1/22 ,  B44C5/04 ,  C03C17/22

CPC分类号： C03C15/00 ,  B44C1/227 ,  B44C5/0407 ,  C03C17/007 ,  C03C17/09 ,  C03C17/30 ,  C03C17/34 ,  C03C2217/425 ,  C03C2217/77 ,  C03C2218/152 ,  C03C2218/33 ,  C03C2218/355 ,  Y10T428/24612

摘要： Procédé de structuration de surface c'est-à-dire la formation d'au moins un réseau de motifs avec une dimension caractéristique sur au moins une portion de surface d'un substrat à fonction verrière caractérisé en ce qu'une solution comprenant au moins un précurseur d'un matériau à déposer est dissociée, à pression atmosphérique, au sein d'une flamme, ladite flamme étant dirigée vers ladite portion de surface de manière à déposer, sous forme d'une pluralité de nodules à base dudit matériau, un masque, ledit masque dudit matériau étant soumis à une étape de gravure.

摘要翻译： 公开了一种用于构造表面的方法，即形成具有玻璃功能的基底的至少一个部分表面上的特征尺寸的至少一个设计系统。 所述方法的特征在于，包含待沉积材料的至少一种前体的溶液在大气压下在火焰中分解，所述火焰被引导到所述部分表面，使得掩模以多个 由所述材料制成的结节和由所述材料制成的掩模被雕刻。

公开(公告)号：WO2008145098A3

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：PCT/DE2008000875

申请日：2008-05-23

申请人： HELMHOTZ ZENTRUM BERLIN FUER M ,  BELAIDI ABDELHAK ,  DITTRICH THOMAS ,  LUX-STEINER MARTHA CHRISTINA

发明人： BELAIDI ABDELHAK ,  DITTRICH THOMAS ,  LUX-STEINER MARTHA CHRISTINA

IPC分类号： C03C17/245 ,  C03C17/25 ,  C09K13/02

CPC分类号： C03C17/2456 ,  C01G23/047 ,  C01P2004/03 ,  C03C15/00 ,  C03C17/256 ,  C03C2217/212 ,  C03C2218/33 ,  C09K13/02 ,  H01G9/2031 ,  Y02E10/542

摘要： The invention relates to a method and an etching reagent for the wet-chemical etching of TiO2 thin-films and TiO2particles that permits a defined removal of the TiO2thin-film and a reduction of the particle size. The method comprises the steps: production of an etching reagent with a pH value greater than 13, said reagent containing a base with a concentration of > 0.1 mol, selected from the bases NH4OH, NaOH, KOH or mixtures of the same and H2O2 with a smaller concentration than that of the base; setting of a temperature that is equal to or greater than the ambient temperature; immersion of the TiO2 thin-films and TiO2 particles in the etching reagent and steeping of the layers of the TiO2 thin-films and particles; said films and particles are then rinsed with distilled water and dried. To maintain the initial composition of the etching reagent, H2O2 is added during the etching process.

摘要翻译： 这是必须考虑到的方法和TiO2薄膜和颗粒的湿化学蚀刻，这允许定义除去二氧化钛薄膜或在颗粒尺寸的减小的蚀刻剂。 urnfasst生产具有的pH值大于13的蚀刻剂的处理步骤，其包括在> 0.1摩尔的浓度的碱性溶液中，在低浓度从液NH 4 OH，加入NaOH，KOH，或它们的混合物，和H 2 O 2选择的方法相比，苛性碱浓度 ，调节比室温以上的温度下，浸在TiO2薄膜或颗粒的层的蚀刻剂和所述留连TiO2薄膜或微粒，用蒸馏水冲洗并干燥。 为了保持在蚀刻工艺期间的蚀刻剂的初始组合物中加入H 2 O 2。

公开(公告)号：WO2009003524A1

公开(公告)日：2009-01-08

申请号：PCT/EP2007/056756

申请日：2007-07-04

申请人： AGC FLAT GLASS EUROPE SA ,  LEFEVRE, HUGUES

发明人： LEFEVRE, HUGUES

IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  G09F19/22 ,  E06B3/66 ,  F21V15/04 ,  G09F13/08

CPC分类号： C03C15/00 ,  B32B17/10036 ,  B32B17/10174 ,  B32B17/10192 ,  B32B17/10211 ,  B32B17/10761 ,  C03C19/00 ,  F21K9/00 ,  F21V33/0012 ,  F21Y2115/10

摘要： A mat or surface treated upper surface is provided on the exterior, upper surface of a laminated glazing panel incorporating LEDs.

摘要翻译： 垫子或表面处理的上表面设置在包含LED的层压玻璃面板的外部上表面上。

公开(公告)号：WO2008053705A3

公开(公告)日：2008-09-18

申请号：PCT/JP2007070214

申请日：2007-10-10

申请人： ASAHI GLASS CO LTD ,  IKUTA YOSHIAKI

发明人： IKUTA YOSHIAKI

IPC分类号： H01L21/306 ,  H01L21/02

CPC分类号： H01L21/02054 ,  C03C15/00 ,  C03C23/0005 ,  C03C23/0075 ,  G03F1/82

摘要： A method for removing inorganic foreign matters from the surface of a substrate made of silicon or glass or the surface of an inorganic coating formed on the surface of the substrate, which comprises applying a light beam in a wavelength range which makes the light absorption coefficient of at least one of a material of the substrate, a material of the inorganic coating and the inorganic foreign matters be at least 0.01/cm, to the surface of the substrate or to the surface of the inorganic coating in an application amount of at least 10 J/cm

摘要翻译： 一种从硅或玻璃制成的基板的表面除去无机异物的方法或在基板的表面上形成的无机涂层的表面，该方法包括：将波长范围内的光束施加到使光吸收系数为 所述基材的材料，所述无机涂层的材料和所述无机异物中的至少一种与所述基材的表面或所述无机涂层的表面的比例为至少0.01 / cm，涂布量为至少10 焦耳/平方厘米

公开(公告)号：WO2008098338A1

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：PCT/CA2007/000232

申请日：2007-02-15

申请人： INSTITUT NATIONAL D'OPTIQUE ,  PROULX, Antoine

发明人： PROULX, Antoine

IPC分类号： C03B37/023 ,  C03B37/012 ,  G02B6/02

CPC分类号： G02B6/02347 ,  C03B37/0122 ,  C03B37/01225 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/01231 ,  C03B37/0124 ,  C03C15/00

摘要： A microstructured optical fiber exhibiting enhanced circularity of the guided light mode is provided. The microstructured optical fiber includes a light-guiding core and a primary cladding surrounding the core wherein the primary cladding has a plurality of holes arranged in hexagonal unit cells defining an Archimedean-like lattice. Preferably, the core is defined by a break in a center of the Archimedean- like lattice, the break being characterised by an absence of at least one of the unit cells. Also preferably, each of the unit cells has seven holes arranged in a centred hexagon. A method of making the microstructured optical fiber is also provided. The method includes fabricating a fiber preform by stacking a plurality of canes around a rod, each cane having a number of holes arranged in a unit cell defining an Archimedean-like lattice, and drawing said fiber preform into the microstructured optical fiber.

摘要翻译： 提供了一种呈现出引导光模式的圆形度增强的微结构光纤。 微结构光纤包括导光芯和围绕芯的初级包层，其中初级包层具有以限定阿基米德样晶格的六边形单元格排列的多个孔。 优选地，芯由阿基米德样晶格的中心的断裂限定，断裂的特征在于不存在至少一个单元电池。 还优选地，每个单元电池具有以中心六边形布置的七个孔。 还提供了制造微结构光纤的方法。 该方法包括通过在棒周围堆叠多个手杖来制造纤维预制件，每个手杖具有布置在限定阿基米德状格子的单位单元中的多个孔，并将所述纤维预制件拉制成微结构化光纤。

公开(公告)号：WO2008054954A3

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：PCT/US2007080671

申请日：2007-10-08

申请人： MOTOROLA INC ,  MANGAT PAWITTER S

发明人： MANGAT PAWITTER S

IPC分类号： B44C1/22

CPC分类号： C03C15/00 ,  C03C17/34 ,  C03C2218/33

摘要： A method is provided for patterning monolithically integrated features having a 1:1 ratio. The method comprises forming a first etch barrier layer (18) over a base layer (14) and applying (52) a template (20) to pattern (52) first printed features (26) in the first etch barrier layer (18). The first etch barrier layer (18) is etched (54) to form second printed features (32) in the base layer (14). A second etch barrier layer (34) is formed over the base layer (14) and the template (20) is applied to pattern (58) third printed features (38) in the second etch barrier layer (34). The second etch barrier layer (34) is etched (60) to form fourth printed features (42) in the base layer (14).

摘要翻译： 提供了一种用于图形化具有1:1比例的单片集成特征的方法。 该方法包括在基底层（14）上形成第一蚀刻阻挡层（18），并在第一蚀刻阻挡层（18）中施加（52）模板（20）以图形（52）第一印刷特征（26）。 第一蚀刻阻挡层（18）被蚀刻（54）以在基底层（14）中形成第二印刷特征（32）。 第二蚀刻阻挡层（34）形成在基底层（14）上，并且模板（20）被施加到第二蚀刻阻挡层（34）中的图案（58）第三印刷特征（38）。 第二蚀刻阻挡层（34）被蚀刻（60）以在基底层（14）中形成第四印刷特征（42）。

公开(公告)号：WO2008020756A3

公开(公告)日：2008-04-17

申请号：PCT/NL2007050403

申请日：2007-08-15

申请人： HORTI SOLUTIONS B V ,  BOON BENJAMINUS JAN ,  QUAK JAN KAREL BENJAMIN

发明人： BOON BENJAMINUS JAN ,  QUAK JAN KAREL BENJAMIN

IPC分类号： C03C15/00 ,  C03C19/00

CPC分类号： C03C15/00 ,  C03C19/00 ,  C03C2204/08

摘要： The invention relates to a panel made of glass for roofs and/or vertical walls for greenhouses for growing crops. On at least one side, the panel is provided with a structured surface which is formed by indentations formed in the glass, with the depth of the various indentations in the panel being between 1 and 100 micrometres. The indentations formed in the panel are of an at least substantially equal depth. The centre- to-centre distance between adjacent indentations is between 1 and 100 microns.

摘要翻译： 本发明涉及用于屋顶和/或用于种植庄稼的温室的垂直墙壁的由玻璃制成的面板。 在至少一侧上，面板设置有结构化表面，该结构化表面由形成在玻璃中的凹陷形成，面板中的各种凹陷的深度在1和100微米之间。 在面板中形成的压痕具有至少基本相同的深度。 相邻压痕之间的中心到中心的距离在1到100微米之间。

公开(公告)号：WO2007021403A2

公开(公告)日：2007-02-22

申请号：PCT/US2006/026848

申请日：2006-07-13

申请人： TOKYO ELECTRON LIMITED ,  DIP, Anthony ,  LEITH, Allen, John ,  OH, Seungho

发明人： DIP, Anthony ,  LEITH, Allen, John ,  OH, Seungho

IPC分类号： C03C25/68 ,  B44C1/22 ,  H01L21/302 ,  H01L21/461

CPC分类号： C03C15/00 ,  H01L21/02046 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/02381 ,  H01L21/0245 ,  H01L21/02505 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02639

摘要： A method and system for processing a substrate includes providing the substrate in a process chamber, the substrate having an oxide layer formed thereon, and exposing the substrate to an etching gas containing F 2 gas at a first temperature to remove the oxide layer from the substrate. The substrate may subsequently be heated to a second temperature greater than the first temperature, and a film may then be formed on the substrate at the second temperature. In one embodiment, a Si film is epitaxially formed on a Si substrate.

摘要翻译： 用于处理衬底的方法和系统包括：在处理室中提供衬底，衬底具有在其上形成的氧化物层;以及将衬底暴露于含有F 2 S的蚀刻气体， 在第一温度下将氧化物层从衬底上除去。 随后可以将衬底加热到​​大于第一温度的第二温度，然后可以在第二温度下在衬底上形成膜。 在一个实施例中，Si膜外延地形成在Si衬底上。

公开(公告)号：WO2007000901A1

公开(公告)日：2007-01-04

申请号：PCT/JP2006/312042

申请日：2006-06-15

申请人： 旭テック株式会社 ,  高柳 晃一郎

发明人： 高柳 晃一郎

IPC分类号： B01J19/00 ,  C03C23/00 ,  C04B41/91 ,  C23C8/16

CPC分类号： C23C8/16 ,  C03C15/00 ,  C03C17/001 ,  C03C23/0075 ,  C03C2217/75 ,  C03C2218/15 ,  C03C2218/31 ,  C04B41/009 ,  C04B41/502 ,  C04B41/85 ,  C23C8/18 ,  Y10T428/24479 ,  C04B41/0072 ,  C04B41/4529 ,  C04B35/01 ,  C04B35/10

摘要： 　非帯電性及び親水性が高く、汚染物質の付着を防止できる部材と表面処理方法及びその装置を提供する。 　表面処理装置は、水蒸気発生ユニット１と、水蒸気を過熱して過熱水蒸気を発生させるための過熱ユニット５と、過熱水蒸気を被処理部材（セラミックス類、金属類）１４に噴霧又は接触させるための処理ユニット１１とを備えている。被処理部材を、３００～１０００°Cの過熱水蒸気で処理すると、親水性及び帯電防止性を付与できる。被処理部材は、ＰＶＤ，ＣＶＤ，ドライエッチングなどの気相法により基材を表面処理する気相表面処理装置（チャンバーなど）内の処理空間と接触する部材（窓部材など）であってもよい。

摘要翻译： 具有高抗静电性和亲水性的成分，其能够防止污染物的粘附，以及用于表面处理的方法和系统。 表面处理系统包括蒸汽发生单元（1），用于使蒸汽过热以产生过热蒸汽的过热单元（5），以及用于将过热蒸汽喷射或使其被处理的构件（陶瓷， 金属）（14）。 当用300-1000℃的过热蒸汽处理时，待处理的构件可以赋予亲水性和抗静电性。 要处理的构件可以是与汽相表面处理系统（例如室）中的处理空间接触的构件（窗构件），用于通过诸如PVD，CVD和干蚀刻之类的气相法表面处理衬底 。