公开(公告)号：WO2009150961A2

公开(公告)日：2009-12-17

申请号：PCT/JP2009/060049

申请日：2009-06-02

Applicant: 株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ ,  東 和臣 ,  山口 誠 ,  夏目 義丈 ,  上西 徹

Inventor： 東　和臣 ,  山口　誠 ,  夏目　義丈 ,  上西　徹

IPC: C22B34/12 ,  C22B9/22 ,  F27D11/08

CPC classification number: C22B34/1295 ,  C22B9/10 ,  C22B9/226

Abstract: 　金属塩と金属粉との混合物から金属粉成分を分離する金属の製造方法において、製造に必要なエネルギーを低減することが可能な金属の製造方法を提供する。 　金属塩と金属粉の混合物１を、スキマー１１によって区分された第１のハース１０の原料投入領域１２に供給し、プラズマ１９ａを用いて金属塩の融点以上金属粉の融点未満に加熱、保持し、上層（金属塩が溶融した溶融塩２）と、下層（金属粉の濃度の高まった高濃度固液混合物３）の２層を形成する。そして、上層の溶融塩２を第１のハースの上部の排出口から、下層の高濃度固液混合物３を下層排出口１４から排出する。続いて、高濃度固液混合物３を、金属粉の融点以上に加熱、保持し、高濃度固液混合物３中の金属粉を溶融させて溶融金属とし、上層（溶融塩４）と下層（溶融金属５）を形成し、溶融塩４から溶融金属５を分離し、溶融金属５を凝固させインゴット６とする。

Abstract translation: 公开了一种金属制造方法，其中金属粉末成分与金属盐和金属粉末的混合物分离，其中金属制造方法能够减少制造所需的能量。 将金属盐和金属粉末的混合物（1）供给到通过撇渣器（11）分隔的第一炉床（10）的起始原料输入区域（12）。 使用等离子体（19a）进行加热至等于或大于金属盐的熔点并低于金属粉末的熔点的温度，并保持该温度，产生上层（熔融盐 （2）熔融金属盐）和第二下层（金属粉末浓度高的浓缩固体 - 液体混合物（3））。 接下来，上层熔融盐（2）从第一炉床顶部的排出口排出，而下层高度浓缩的固液混合物（3）从下层排出口排出 （14）。 接着，将高浓度的固液混合物（3）加热到金属粉末的熔点以上的温度，保持温度，高浓缩固液混合物（3）内的金属粉末， 熔融以形成熔融金属，其形成上层（熔融盐（4））和下层（熔融金属（5））。 熔融金属（5）与熔融盐（4）分离，熔融金属（5）固化成锭（6）。

公开(公告)号：WO2007094189A1

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：PCT/JP2007/051937

申请日：2007-02-05

Applicant: 住友チタニウム株式会社 ,  小笠原 忠司 ,  下崎 新二 ,  東 和臣 ,  松尾 俊明

Inventor： 小笠原 忠司 ,  下崎 新二 ,  東 和臣 ,  松尾 俊明

IPC: C02F1/00 ,  B01J35/02 ,  C02F1/46 ,  C02F1/72

CPC classification number: C02F1/32 ,  C02F1/461 ,  C02F2305/10

Abstract: 　空気調和機のクーリングタワー、浄化水槽、フィルター等の水中受光環境下での藻の発生を防止する。これを実現するために、水１に浸漬し、表面に光を受ける防汚対象物２を、第１導電性部材とする。防汚対象面である前記表面に光触媒層３を設ける。導電性の防汚対象物２に対して、外部回路４を介して電気的に接続された第２導電性部材を、対極５として組み合わせ、水１の中に設置する。対極５の使用により光触媒層３による防藻効果を無電源で増強する。

Abstract translation: 在空调机的冷却塔，净水槽，过滤器等中的水下光接收环境下，可以防止藻类的生成。 为了达到这个目的，浸入水（1）中并在表面上接收光的防污物（2）用作第一导电构件。 在该表面上设置光催化剂层（3），即防污物体表面。 通过外部电路（4）与导电性防污物（2）电连接的第二导电构件被组合为对极（5）并放置在水（1）中。 光催化剂层（3）的防藻效果通过使用反极（5）而没有供电而增强。

公开(公告)号：WO2005102521A1

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：PCT/JP2005/007451

申请日：2005-04-19

Applicant: 住友金属工業株式会社 ,  住友チタニウム株式会社 ,  西原 克浩 ,  正木 康浩 ,  福田 匡 ,  岡田 克己 ,  下崎 新二 ,  永岡 佐太延 ,  菅野 英明 ,  東 和臣 ,  小笠原 忠司

Inventor： 西原 克浩 ,  正木 康浩 ,  福田 匡 ,  岡田 克己 ,  下崎 新二 ,  永岡 佐太延 ,  菅野 英明 ,  東 和臣 ,  小笠原 忠司

IPC: B01J35/02

CPC classification number: C01G23/0536 ,  B01J21/063 ,  B01J35/002 ,  B01J35/004 ,  B01J37/031 ,  C01P2006/12 ,  Y10T428/31678

Abstract: 　可視光応答型の高活性の酸化チタン系光触媒が、酸性チタン化合物をアンモニアまたはアミンにより終点ｐＨが７以下となる条件で中和して得た(水)酸化チタン原料を、加水分解性化合物を含む雰囲気で熱処理した後、水と接触させ、さらに３５０°C以上の温度で熱処理することにより製造される。得られた酸化チタン系光触媒は、比表面積が１２０ｍ 2 ／ｇ以下で、かつ表面水酸基の量が６００μｅｑ／ｇ以上の酸化チタンからなる。好ましくは、表面水酸基の密度が８μｅｑ／ｍ 2 以上で、表面水酸基のターミナル型水酸基量(Ｔ)とブリッジ型水酸基量(Ｂ)の比がＴ／Ｂ≧０.２０である。この酸化チタン系光触媒は、主スペクトルのｇ値が１.９９３～２.００３および２.００３～２.０１１の２種類の三重線シグナルを有するＥＳＲスペクトルを有し、これらのシグナルの可視光照射前、照射中および照射停止直後の強度比が従来品と異なることでも同定される。

Abstract translation: 通过在末端pH <= 7的条件下首先用氨或胺中和酸性钛化合物，得到氧化钛（氢氧化物）的原料，制造可见光反应性高活性氧化钛基光催化剂， 在含有可水解化合物的环境中对原材料进行热处理，使热处理材料与水接触并在> = 350℃下进行进一步的热处理。 由此获得的氧化钛基光催化剂由<= 120M 2 / g比表面积和> = 600mueq / g表面羟基量​​的氧化钛组成。 优选地，表面羟基的密度为> = 8mueq / m 2，相对于表面羟基，末端羟基（T）与桥连羟基（B）的比例T / B> 0.20。 该钛氧化钛基光催化剂具有具有两种主要光谱g值为1.993〜2.003和2.003〜2.011的三重态信号的ESR光谱，并且可以通过可见光照射前的这些信号的强度比的偏差来识别 在照射期间和在停止与现有技术光催化剂的照射后立即停止。

公开(公告)号：WO2007083729A1

公开(公告)日：2007-07-26

申请号：PCT/JP2007/050759

申请日：2007-01-19

Applicant: 住友チタニウム株式会社 ,  吉原 正裕 ,  小笠原 忠司 ,  下崎 新二 ,  東 和臣

Inventor： 小笠原 忠司 ,  下崎 新二 ,  東 和臣

IPC: C01G23/04 ,  B01J35/02 ,  C23C16/02

CPC classification number: B01J35/004 ,  B01D53/8668 ,  B01D2255/20707 ,  B01D2255/802 ,  B01D2257/70 ,  B01D2259/804 ,  B01J21/063 ,  B01J37/0201 ,  B01J37/0215 ,  B01J37/0225 ,  B01J37/0244 ,  B01J37/03 ,  C01G23/0536 ,  C23C18/04 ,  C23C18/1204 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1241 ,  C23C18/1279 ,  C25D11/02 ,  C25D11/26

Abstract: 　基材の表面に均質な酸化チタン膜を経済的に形成する。これを実現するために、Ｔｉ分が０．１～１７重量％の四塩化チタン水溶液を、耐熱性を有する基材の表面に膜状に塗布する。液膜状態のまま、四塩化チタン水溶液を３００°C以上に加熱して、液膜中のＨ 2  Ｏ及びＨＣｌを揮発させて、酸化チタン膜とする。基材がアルミニウムなどのように耐酸性が劣る場合は、その金属基材の表面に予め酸化膜等の耐酸皮膜を形成しておく。

Abstract translation: 公开了在基材表面上经济地形成均匀的氧化钛膜的方法。 具体地说，将Ti含量为0.1〜17重量％的四氯化钛水溶液涂布在耐热基材的表面上。 然后将液膜形式的四氯化钛水溶液加热至不低于300℃的温度，从而使液膜中的H 2 O和HCl挥发并形成氧化钛膜。 在碱由耐酸性差的铝等材料构成的情况下，预先在金属基材的表面形成氧化膜等耐酸性涂膜。

公开(公告)号：WO2004097962A1

公开(公告)日：2004-11-11

申请号：PCT/JP2004/005527

申请日：2004-04-16

Applicant: 住友チタニウム株式会社 ,  夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  東 和臣

Inventor： 夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  東 和臣

IPC: H01M4/02

CPC classification number: H01M4/131 ,  H01M4/0404 ,  H01M4/0421 ,  H01M4/0426 ,  H01M4/0471 ,  H01M4/1391 ,  H01M4/485 ,  H01M4/525 ,  H01M10/0525 ,  H01M2004/027

Abstract: SiOを負極30に用いたリチウム二次電池に特徴的な初期充電容量の大きさを阻害することなく、その欠点である初期効率の低さを大幅に改善する。サイクル特性を改善する。これらを実現するために、負極活物質層32として、真空蒸着若しくはスパッタリングにより形成された珪素酸化物の薄膜を、集電体31の表面に形成する。好ましくはイオンプレーティング法により薄膜を形成する。珪素酸化物はSiOx(0.5≦x

Abstract translation: 为了弥补在负极（30）中使用SiO的锂二次电池的缺点，即低的初始效率和循环特性，而不会牺牲大的初始充电容量，锂二次电池的特征在于， 通过真空沉积或溅射在集电体（31）的表面上形成氧化硅作为负极活性物质层（32）。 优选地，通过离子电镀形成薄膜。 氧化硅为SiOx（0.5 <= x <1.0），膜厚为0.1-50μm。 作为真空蒸镀源，使用重量减少率为1.0％以下的SiO沉积物作为真空蒸镀源。 在真空沉积中，集尘器（31）的表面在真空或惰性气氛中被清洁，并且在不暴露于大气的情况下形成氧化硅薄膜。

公开(公告)号：WO2003082769A1

公开(公告)日：2003-10-09

申请号：PCT/JP2003/003894

申请日：2003-03-27

Applicant: 住友チタニウム株式会社 ,  夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  渡辺 宗敏 ,  東 和臣 ,  岩瀬 敏治

Inventor： 夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  渡辺 宗敏 ,  東 和臣 ,  岩瀬 敏治

IPC: C04B35/01

CPC classification number: C04B35/14 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/40 ,  C04B2235/42 ,  C04B2235/421 ,  C04B2235/428 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/79 ,  C04B2235/96 ,  C23C14/3414

Abstract: 質量％で、ボロン、リンまたはアンチモンをドープした珪素粉末を２０～８０％含有させ、残部は一酸化珪素からなる原料粉末、または残部は一酸化珪素または一酸化珪素と二酸化珪素の混合物からなり、この混合物中の一酸化珪素の含有量が２０％以上である原料粉末を成形した一酸化珪素焼結体、およびこれを用いたスパッタリングターゲットである。この焼結体によれば、成膜速度を確保するとともに、成膜される膜特性の安定化を図ることができる。このため、光学用保護膜として透明プラスチックのガス透過防止、ガラスのＮａ溶出防止、またはレンズ表面の保護膜として用いられる酸化珪素系薄膜の成膜用として、広く適用することができる。

Abstract translation: 通过形成由20〜80质量％的掺杂有硼，磷或锑的硅粉末和平衡量的一氧化硅或一氧化硅和二氧化硅的混合物构成的原料粉末而制备的一氧化碳烧结体，其中， 混合物中一氧化硅的含量为20％以上; 以及使用该一氧化硅烧结体的溅射靶。 溅射靶可用于确保令人满意的高成膜速率，同时提供减小膜特性变化的膜，因此可以广泛有利地用于形成作为光学用保护膜的氧化硅薄膜，用于 例如，用于防止透明塑料中的气体渗透和防止钠从玻璃中溶解并保护透镜的表面。

公开(公告)号：WO2007086517A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：PCT/JP2007/051286

申请日：2007-01-26

Applicant: 住友チタニウム株式会社 ,  東 和臣 ,  小笠原 忠司 ,  下崎 新二 ,  片倉 勝己

Inventor： 東 和臣 ,  小笠原 忠司 ,  下崎 新二 ,  片倉 勝己

IPC: C01B11/04 ,  C02F1/46 ,  C25B1/26 ,  C25B11/10

CPC classification number: C25B1/003 ,  C01B11/04 ,  C01B11/06 ,  C02F1/32 ,  C02F1/4674 ,  C02F1/725 ,  C02F1/727 ,  C02F1/74 ,  C02F2001/46142 ,  C02F2103/42 ,  C02F2201/46165 ,  C02F2201/4619 ,  C02F2305/10 ,  C25B1/26

Abstract: 　次亜塩素酸を外部からの電力エネルギーの供給なしに経済的に生成する。これを実現するために、酸化チタン電極１と対向電極２とで構成した光電池を、金属塩化物を含む電解質溶液３中に設置する。電解質溶液３中の光電池の対向電極２への酸素供給が可能な環境下で、酸化チタン電極１に光を照射する。

Abstract translation: 经济地生产次氯酸而不提供外部电能。 具体地说，将由氧化钛电极（1）和对置电极（2）组成的光电池放置在含有金属氯化物的电解液（3）中。 在可以向电解液（3）中的光电池的对电极（2）供给氧的情况下，用光照射氧化钛电极（1）。

公开(公告)号：WO2007013261A1

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：PCT/JP2006/313214

申请日：2006-07-03

Applicant: 住友チタニウム株式会社 ,  株式会社アイメス ,  城戸 淳二 ,  夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  東 和臣 ,  森 浩一

Inventor： 城戸 淳二 ,  夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  東 和臣 ,  森 浩一

IPC: C23C14/34 ,  H01L51/50 ,  H05B33/04

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C23C14/08 ,  H01B1/08 ,  H01L51/5253 ,  H05B33/26

Abstract: 　スパッタリング膜に高い水分バリア性と高い柔軟性を付与でき、合わせて、スパッタリングにおいて高い成膜レートを確保できると共に、成膜対象物へのダメージを可及的に軽減できるスパッタリングターゲットを提供する。これを実現するために、重量比でＳｉＯ粉末を２０～８０％含み、残部がＴｉＯ 2  粉末及び／又はＴｉ粉末である混合粉末を加圧焼結する。焼結体はＳｉαＴｉβＯγ（α、β、γはＳｉ、Ｔｉ、Ｏの各モル比）なる組成を有し、α／βが０．４５～７．２５、γ／（α＋β）が０．８０～１．７０を各満足する。

Abstract translation: 公开了一种溅射靶，其能够提供具有高防潮性和高柔性的溅射膜。 该溅射靶也可以确保高的成膜速率，同时减少在溅射期间对其上形成膜的物体的损伤。 为了实现这样的溅射靶，将重量比为20-80％的SiO粉末和余量的TiO 2粉末和/或Ti粉末的粉末混合物经受 压力烧结。 烧结体的组成为SiaTißO （其中a，β和β表示Si，Ti和O的相应摩尔比），a /β满足0.45-7.25，而α/（a +β）满足0.80-1.70。

公开(公告)号：WO2006046353A1

公开(公告)日：2006-05-04

申请号：PCT/JP2005/016226

申请日：2005-09-05

Applicant: 住友チタニウム株式会社 ,  夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  東 和臣

Inventor： 夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  東 和臣

IPC: H01M4/04 ,  H01M4/48 ,  H01M4/66

CPC classification number: H01M4/0426 ,  H01M4/1391 ,  H01M4/485 ,  H01M4/525 ,  H01M4/661 ,  H01M10/0525 ,  H01M2004/021 ,  H01M2004/027 ,  Y10T29/49115

Abstract: 　ＳｉＯ負極を用いたリチウム二次電池に特徴的な初期充電容量の大きさを阻害することなく、その欠点である初期効率の低さを大幅に改善する。ＳｉＯ層の厚みを大きくしたときのサイクル特性の低下を阻止する。これらを実現するために、集電体の表面に負極活物質層としてＳｉＯの薄膜を真空蒸着若しくはスパッタリングにより形成する。好ましくはイオンプレーティング法により薄膜を形成する。ＳｉＯ薄膜の厚みを５μｍ以上とする。集電体の表面粗度を最大高さ粗さＲｚで５．０以上とする。薄膜形成後に非酸化性雰囲気中で熱処理を行う。

Abstract translation: 在不损害使用一氧化硅负极的锂二次电池的特征性大的初始放电容量的情况下，初始效率低的问题显着提高。 此外，防止了当SiO层的厚度增加时循环特性的降低。 具体地，通过真空沉积或溅射在集电体的表面上形成作为负极活性物质层的SiO薄膜。 该薄膜优选通过离子电镀形成，并且该SiO薄膜的厚度不小于5μm。 收集器的表面粗糙度，即轮廓的平均最大高度（Rz）设定为不小于5.0。 在形成薄膜之后，在非氧化气氛中进行热处理。

公开(公告)号：WO2003070659A1

公开(公告)日：2003-08-28

申请号：PCT/JP2002/012567

申请日：2002-11-29

Applicant: 住友チタニウム株式会社 ,  夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  渡辺 宗敏 ,  東 和臣 ,  岩瀬 敏治

Inventor： 夏目 義丈 ,  小笠原 忠司 ,  渡辺 宗敏 ,  東 和臣 ,  岩瀬 敏治

IPC: C04B35/01

CPC classification number: C04B35/645 ,  C04B35/14 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/604 ,  C04B2235/658 ,  C04B2235/6581 ,  C04B2235/79

Abstract: A sintered object of silicon monoxide being used as a material for forming a silicon oxide based thin film in which evaporation residue is 4% or less of the sample mass before measurement when thermogravimetry of a sample of sintered object is performed in a vacuum atmosphere where the heating temperature is 1300 ringC and the pressure is up to 10 Pa. The sintered object can be produced by sintering SiO particles having a grain size of 250 mum or above under a non-oxygen atmosphere after it is press-formed or while being pressed. Since the sintered object exhibits a high evaporation rate, productivity of silicon oxide based thin film can be enhanced when it is used as a material for forming a film. It can be applied widely for forming a silicon oxide based thin film being employed as an electric insulating film, a mechanical protection film, an optical protection film, a gas barrier for packaging a food, and the like.

Abstract translation: 作为用于形成氧化硅类薄膜的材料的氧化硅系薄膜的烧结体，其中，在真空气氛中进行烧结体样品的热重分析时，蒸发残渣为测定前样品质量的4％以下， 加热温度为1300℃，压力高达10Pa，烧结体可以在压制成型后或在被压制的同时，在非氧气氛下烧结粒径为250μm以上的SiO粒子。 由于烧结体表现出高的蒸发速率，因此当用作形成薄膜的材料时，可以提高氧化硅基薄膜的生产率。 可以广泛地应用于形成用作电绝缘膜的氧化硅基薄膜，机械保护膜，光学保护膜，用于包装食品的气体屏障等。