公开(公告)号：WO2012028534A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：PCT/EP2011/064656

申请日：2011-08-25

Applicant: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN ,  BLASCO, Nicolas ,  DINGEMANS, Gijs ,  KESSELS, Wilhelmus, Mathijs, Marie ,  LACHAUD, Christophe ,  MADEC, Alain ,  POTTS, Stephen

Inventor： BLASCO, Nicolas ,  DINGEMANS, Gijs ,  KESSELS, Wilhelmus, Mathijs, Marie ,  LACHAUD, Christophe ,  MADEC, Alain ,  POTTS, Stephen

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C07F5/06 ,  H01L31/0216

CPC classification number: C23C16/403 ,  C23C16/45553 ,  H01L31/02167 ,  Y02E10/50

Abstract: A composition comprising, for 100% of its total mass, at least 97% of an aluminium precursor of formula: Al(R 1 ) 2 (OR 2 ) with R 1 and R 2 independently selected in the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl and t-butyl; and : - From 200 ppb to 5 ppm of Mo (Molybdenum); - From 1000 ppb to 5 ppm of Fe (Iron); - From 200 ppb to 5 ppm of Cu (Copper); - From 200 ppb to 5 ppm of Ta (Tantalum).

Abstract translation: 对于其总质量的100％，组合物包含至少97％的式（A1）（A1）（A1）的铝前体：R1和R2独立选自甲基，乙基，丙基，异丙基和 叔丁基; 和： - 从200ppb到5ppm的Mo（钼）; - 从1000ppb到5ppm的Fe（铁）; - 从200ppb到5ppm的Cu（铜）; - 从200ppb到5ppm的Ta（钽）。

公开(公告)号：WO2010040741A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：PCT/EP2009/062964

申请日：2009-10-06

Applicant: L'AIR LIQUIDE SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  BLASCO, Nicolas ,  CORREIA-ANACLETO, Anthony ,  PINCHART, Audrey ,  ZAUNER, Andreas

Inventor： BLASCO, Nicolas ,  CORREIA-ANACLETO, Anthony ,  PINCHART, Audrey ,  ZAUNER, Andreas

IPC: C07F9/00 ,  C23C16/18

CPC classification number: H01L21/02205 ,  C07F9/00 ,  C23C16/45553 ,  H01L21/0228 ,  H01L21/3141

Abstract: Compound of the formula Cp(R 1 ) m M(NR 2 2 ) 2 (=NR 3 ) (I): Wherein: M is a metal independently selected from Vanadium (V) or Niobium (Nb) and m ≤ 5; R 1 is an organic ligand, each one independently selected in the group consisting of H, linear or branched hydrocarbyl radical comprising from 1 to 6 carbon atom; R 2 is an organic ligand, each one independently selected in the group consisting of H, linear or branched hydrocarbyl radical comprising from 1 to 6 carbon atom; R 3 is an organic ligand selected in the group consisting of H, linear or branched hydrocarbyl radical comprising from 1 to 6 carbon atom.

Abstract translation: 式（Cp）（R 1）mM（NR 2 2）2（= NR 3）（I）的化合物：其中M是独立地选自钒（V​​）或铌（Nb）和m = 5的金属; R1是有机配体，每个独立地选自H，包含1至6个碳原子的直链或支链烃基; R2是有机配体，每个独立地选自H，包含1至6个碳原子的直链或支链烃基; R3是选自H，包含1至6个碳原子的直链或支链烃基的有机配体。

公开(公告)号：WO2006070165A1

公开(公告)日：2006-07-06

申请号：PCT/FR2005/051134

申请日：2005-12-22

Applicant: L'AIR LIQUIDE SOCIETE ANONYME A DIRECTOIRE ET CONSEIL DE SURVEILLANCE POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  BLASCO, Nicolas ,  MERIC, Vincent

Inventor： BLASCO, Nicolas ,  MERIC, Vincent

IPC: C23C16/36 ,  C23C16/32

CPC classification number: C23C16/36 ,  C23C16/32

Abstract: L'invention décrit un procédé de dépôt de couches minces de nitrure de métal dont la composition en carbone et azote peut-être contrôlée en faisant varier le flux des réactifs. Le procédé consiste à faire réagir dans un réacteur de dépôt chimique en phase gazeuse (LPCVD1ALD) : - un composé organométallique liquide de formule Me (NR1R2)^=NRs)x Avec x = 1 , y = 3 ou x = 0, y = 4 ou 5 pour Me = Ta, V, Nb x = 2, y = 2 ou x = 0, y = 4 à 6 pour Me = Mo, W, Cr x = 0, y = 4 pour Me = Hf, Ti, Zr Ri, R2, R3 = groupements alkyle et/ou aryle. un gaz réducteur comme l'hydrogène et l'ammoniac - une aminé possédant au moins une liaison azote-hydrogène, afin de déposer les couches désirées sur un substrat désiré.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于去除其中碳和氮组成可通过改变试剂流控制的薄金属氮化物层的方法。 本发明的方法包括在化学气相沉积反应器（LPCVD1ALD）中反应：式Me（NR1R2）= NRs）x的液体有机金属化合物，其中x = 1，y = 3或x = 0，y = 4 或对于Me = Ta，V，Nb x = 2，y = 2或x = 0，y = 5，对于Me = Mo，W，W，Cr x = 0，y = 4，对于Me = Hf，Ti，Zr R 1，R 2，R 3 =烷基和/或芳基，还原气体如氢和氨以及具有至少一个氮 - 氢键的胺，使得所需层沉积到所需的基底上。

公开(公告)号：WO2019213115A1

公开(公告)日：2019-11-07

申请号：PCT/US2019/029969

申请日：2019-04-30

Applicant: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  LI, Feng ,  PLAZA, Sonia ,  GIRARD, Jean-Marc ,  BLASCO, Nicolas ,  LIU, Yumin

Inventor： LI, Feng ,  PLAZA, Sonia ,  GIRARD, Jean-Marc ,  BLASCO, Nicolas ,  LIU, Yumin

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/285 ,  H01L21/324

Abstract: Conditioning of tungsten pentachloride to form specific crystalline phases is disclosed. The specific crystalline phases permit stable vapor pressures over extended periods of time during vapor deposition and etching processes.

公开(公告)号：WO2017075172A1

公开(公告)日：2017-05-04

申请号：PCT/US2016/059047

申请日：2016-10-27

Applicant: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  AMERICAN AIR LIQUIDE, INC. ,  GIRARD, Jean-Marc ,  KUCHENBEISER, Glenn ,  BLASCO, Nicolas ,  OMARJEE, Vincent ,  PALLEM, Venkateswara

Inventor： GIRARD, Jean-Marc ,  KUCHENBEISER, Glenn ,  BLASCO, Nicolas ,  OMARJEE, Vincent ,  PALLEM, Venkateswara

IPC: B65D25/14 ,  B65D85/00 ,  C23C16/455 ,  C23C16/06

CPC classification number: B65D25/14 ,  B65D85/70 ,  C23C16/045 ,  C23C16/06 ,  C23C16/403 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/448 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45529 ,  C23C16/45555

Abstract: Provided is a vessel having internally wettable surfaces therein coated with one or more barrier layers to, for example, inhibit contamination of a material, such as a metal halide, contained in the vessel.

Abstract translation: 所提供的是具有内部可润湿表面的容器，其中涂布有一个或多个阻隔层以例如抑制容器中容纳的材料（例如金属卤化物）的污染。

公开(公告)号：WO2019213116A1

公开(公告)日：2019-11-07

申请号：PCT/US2019/029970

申请日：2019-04-30

Applicant: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  LI, Feng ,  PLAZA, Sonia ,  GIRARD, Jean-Marc ,  BLASCO, Nicolas ,  LIU, Yumin

Inventor： LI, Feng ,  PLAZA, Sonia ,  GIRARD, Jean-Marc ,  BLASCO, Nicolas ,  LIU, Yumin

IPC: C01G41/04

Abstract: A process of conditioning tungsten pentachloride to form specific crystalline phases are disclosed. The specific crystalline phases permit stable vapor pressures over extended periods of time during vapor deposition and etching processes.

公开(公告)号：WO2019108330A1

公开(公告)日：2019-06-06

申请号：PCT/US2018/058084

申请日：2018-10-30

Applicant: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  SANCHEZ, Antonio ,  GIRARD, Jean-Marc ,  NIKIFOROV, Grigory ,  BLASCO, Nicolas

Inventor： SANCHEZ, Antonio ,  GIRARD, Jean-Marc ,  NIKIFOROV, Grigory ,  BLASCO, Nicolas

IPC: H01L21/316 ,  H01L21/285

Abstract: Titanium-containing film forming compositions comprising titanium halide-containing precursors are disclosed. Also disclosed are methods of synthesizing and using the disclosed precursors to deposit Titanium-containing films on one or more substrates via vapor deposition processes.

公开(公告)号：WO2017116665A1

公开(公告)日：2017-07-06

申请号：PCT/US2016/066120

申请日：2016-12-12

Applicant: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  WIESE, Stefan ,  GATINEAU, Satoko ,  DUSSARRAT, Christian ,  GIRARD, Jean-Marc ,  BLASCO, Nicolas

Inventor： WIESE, Stefan ,  GATINEAU, Satoko ,  DUSSARRAT, Christian ,  GIRARD, Jean-Marc ,  BLASCO, Nicolas

IPC: C23C16/14

CPC classification number: C23C16/42 ,  C23C16/18 ,  C23C16/30 ,  C23C16/36

Abstract: Manganese-containing film forming compositions, their preparation, and their use for the vapor deposition of films are disclosed. The manganese-containing film forming compositions comprise silylamide-containing precursors, particularly {Mn[N(SiMe 2 Et) 2 ] 2 } 2 .

Abstract translation: 公开了含锰的成膜组合物，它们的制备以及它们用于气相沉积膜的用途。 含锰的成膜组合物包含含有甲硅烷基酰胺的前体，特别是{Mn [N（SiMe 2 Et）] 2] 2 sub ₂

公开(公告)号：WO2012028539A1

公开(公告)日：2012-03-08

申请号：PCT/EP2011/064675

申请日：2011-08-25

Applicant: L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  TECHNISCHE UNIVERSITEIT EINDHOVEN ,  BLASCO, Nicolas ,  DINGEMANS, Gijs ,  KESSELS, Wilhelmus Mathijs Marie ,  LACHAUD, Christophe ,  MADEC, Alain

Inventor： BLASCO, Nicolas ,  DINGEMANS, Gijs ,  KESSELS, Wilhelmus Mathijs Marie ,  LACHAUD, Christophe ,  MADEC, Alain

IPC: C07F5/06 ,  C23C16/455 ,  H01L31/0216

CPC classification number: C23C16/45553 ,  H01L31/02167 ,  Y02E10/50

Abstract: A composition comprising, for 100% of its total mass, at least 97% of a Trialkylaluminium and: - From 200 ppb to 5 ppm of Mo (Molybdenum); - From 1000 ppb to 5 ppm of Fe (Iron); - From 200 ppb to 5 ppm of Cu (Copper); - From 200 ppb to 10 ppm of Ta (Tantalum).

Abstract translation: 对于其总质量的100％，包含至少97％的三烷基铝和 - 从200ppb至5ppm的Mo（钼）的组合物; - 从1000ppb到5ppm的Fe（铁）; - 从200ppb到5ppm的Cu（铜）; - 从200ppb到10ppm的Ta（钽）。

公开(公告)号：WO2010012595A1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：PCT/EP2009/059067

申请日：2009-07-15

Applicant: L'AIR LIQUIDE SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE ,  BLASCO, Nicolas ,  CORREIA-ANACLETO, Anthony ,  PINCHART, Audrey ,  ZAUNER, Andreas ,  WANG, Ziyun

Inventor： BLASCO, Nicolas ,  CORREIA-ANACLETO, Anthony ,  PINCHART, Audrey ,  ZAUNER, Andreas ,  WANG, Ziyun

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/18

CPC classification number: C23C16/45553 ,  C23C16/18

Abstract: A method for forming a tantalum-containing layer on a substrate, the method comprising at least the steps of: a) providing a vapor comprising at least one precursor compound of the formula Cp(R 1 ) m Ta(NR 2 2 ) 2 (=NR 3 ) (I):Wherein: R 1 is an organic ligand, each one independently selected in the group consisting of H, linear or branched hydrocarbyl radical comprising from 1 to 6 carbon atoms; R 2 is an organic ligand, each one independently selected in the group consisting of H, linear or branched hydrocarbyl radical comprising from 1 to 6 carbon atoms; R 3 is an organic ligand selected in the group consisting of H, linear or branched hydrocarbyl radical comprising from 1 to 6 carbon atoms; b) reacting the vapor comprising the at least one compound of formula (I) with the substrate, according to an atomic layer deposition process, to form a layer of a tantalum-containing complex on at least one surface of said substrate.

Abstract translation: 一种在基底上形成含钽层的方法，所述方法至少包括以下步骤：a）提供包含至少一种式Cp（R1）m Ta（NR2 2）2（= NR3）的前体化合物的蒸气 ）（I）：其中R1是有机配体，每个独立地选自H，包含1至6个碳原子的直链或支链烃基; R2是有机配体，每个独立地选自H，包含1至6个碳原子的直链或支链烃基; R3是选自H，包含1至6个碳原子的直链或支链烃基的有机配体; b）根据原子层沉积方法使包含至少一种式（I）化合物的蒸气与基材反应，以在所述基材的至少一个表面上形成含钽复合物层。