公开(公告)号：WO2011137071A3

公开(公告)日：2012-03-01

申请号：PCT/US2011033780

申请日：2011-04-25

Applicant: APPLIED MATERIALS INC ,  CRUSE JAMES P ,  LANE JOHN W ,  GREGOR MARIUSCH ,  BUCKIUS DUC ,  DARAN BERRIN ,  COBB CORIE LYNN ,  XU MING ,  NGUYEN ANDREW

Inventor： CRUSE JAMES P ,  LANE JOHN W ,  GREGOR MARIUSCH ,  BUCKIUS DUC ,  DARAN BERRIN ,  COBB CORIE LYNN ,  XU MING ,  NGUYEN ANDREW

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67253 ,  F16K37/00 ,  F16K37/0091 ,  G01F25/00 ,  Y10T29/53022 ,  Y10T137/8158 ,  Y10T137/87153 ,  Y10T137/87684 ,  Y10T137/877

Abstract: Methods and apparatus for calibrating a plurality of gas flows in a substrate processing system are provided herein. In some embodiments, a substrate processing system may include a cluster tool comprising a first process chamber and a second process chamber coupled to a central vacuum transfer chamber; a first flow controller to provide a process gas to the first process chamber; a second flow controller to provide the process gas to the second process chamber; a mass flow verifier to verify a flow rate from each of the first and second flow controllers; a first conduit to selectively couple the first flow controller to the mass flow verifier; and a second conduit to selectively couple the second flow controller to the mass flow verifier.

Abstract translation: 本文提供了用于校准衬底处理系统中的多个气流的方法和装置。 在一些实施例中，衬底处理系统可以包括簇工具，其包括耦合到中心真空传送室的第一处理室和第二处理室; 第一流量控制器，用于向第一处理室提供处理气体; 第二流量控制器，用于向第二处理室提供处理气体; 质量流量验证器，用于验证来自所述第一和第二流量控制器中的每一个的流量; 用于选择性地将第一流量控制器耦合到质量流量验证器的第一导管; 以及用于选择性地将第二流量控制器耦合到质量流量验证器的第二导管。

公开(公告)号：WO2011137071A2

公开(公告)日：2011-11-03

申请号：PCT/US2011/033780

申请日：2011-04-25

Applicant: APPLIED MATERIALS, INC. ,  CRUSE, James P. ,  LANE, John W. ,  GREGOR, Mariusch ,  BUCKIUS, Duc ,  DARAN, Berrin ,  COBB, Corie Lynn ,  XU, Ming ,  NGUYEN, Andrew

Inventor： CRUSE, James P. ,  LANE, John W. ,  GREGOR, Mariusch ,  BUCKIUS, Duc ,  DARAN, Berrin ,  COBB, Corie Lynn ,  XU, Ming ,  NGUYEN, Andrew

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67253 ,  F16K37/00 ,  F16K37/0091 ,  G01F25/00 ,  Y10T29/53022 ,  Y10T137/8158 ,  Y10T137/87153 ,  Y10T137/87684 ,  Y10T137/877

Abstract: Methods and apparatus for calibrating a plurality of gas flows in a substrate processing system are provided herein. In some embodiments, a substrate processing system may include a cluster tool comprising a first process chamber and a second process chamber coupled to a central vacuum transfer chamber; a first flow controller to provide a process gas to the first process chamber; a second flow controller to provide the process gas to the second process chamber; a mass flow verifier to verify a flow rate from each of the first and second flow controllers; a first conduit to selectively couple the first flow controller to the mass flow verifier; and a second conduit to selectively couple the second flow controller to the mass flow verifier.

Abstract translation: 本文提供了用于校准衬底处理系统中的多个气流的方法和装置。 在一些实施例中，衬底处理系统可以包括簇工具，其包括耦合到中心真空传送室的第一处理室和第二处理室; 第一流量控制器，用于向第一处理室提供处理气体; 第二流量控制器，用于向第二处理室提供处理气体; 质量流量验证器，用于验证来自所述第一和第二流量控制器中的每一个的流量; 用于选择性地将第一流量控制器耦合到质量流量验证器的第一导管; 以及用于选择性地将第二流量控制器耦合到质量流量验证器的第二导管。