公开(公告)号：WO2008039068A3

公开(公告)日：2008-08-14

申请号：PCT/NL2007050466

申请日：2007-09-25

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  KONINKL PHILIPS ELECTRONICS NV ,  VAN HERPEN MAARTEN MARINUS JOH ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  FRANKEN JOHANNES CHRISTIAAN LE ,  FRIJNS OLAV WALDEMAR VLADIMIR ,  KLUNDER DERK JAN WILFRED ,  DRIESSEN NIELS MACHIEL ,  SOER WOUTER ANTHON

Inventor： VAN HERPEN MAARTEN MARINUS JOH ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  FRANKEN JOHANNES CHRISTIAAN LE ,  FRIJNS OLAV WALDEMAR VLADIMIR ,  KLUNDER DERK JAN WILFRED ,  DRIESSEN NIELS MACHIEL ,  SOER WOUTER ANTHON

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G01N21/15 ,  G03F7/70558

Abstract: An optical sensor apparatus (1) for use in an extreme ultraviolet lithographic system is disclosed. The apparatus includes an optical sensor comprising a sensor surface (3) and a removal mechanism (5) configured to remove debris (6) from the sensor surface. Accordingly, dose and/or contamination measurements may be carried out conveniently for the lithographic system.

Abstract translation: 公开了一种用于极紫外光刻系统的光学传感器装置（1）。 该装置包括光学传感器，其包括传感器表面（3）和移除机构（5），其构造成从传感器表面去除碎屑（6）。 因此，可以方便地为光刻系统进行剂量和/或污染测量。

公开(公告)号：WO2008035965A3

公开(公告)日：2008-05-29

申请号：PCT/NL2007050451

申请日：2007-09-17

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  FRANKEN JOHANNES CHRISTIAAN LE ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  WASSINK ARNOUD CORNELIS

Inventor： FRANKEN JOHANNES CHRISTIAAN LE ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  WASSINK ARNOUD CORNELIS

IPC: G03F7/20 ,  F16C32/06

CPC classification number: G03F7/70916 ,  B82Y10/00 ,  F16C32/0603 ,  F16C32/0685 ,  F16C33/02 ,  F16C33/72 ,  F16C2300/62 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70941

Abstract: A contaminant trap apparatus (10) arranged in a path (R) of a radiation beam to trap contaminants emanating from a radiation source (50) configured to produce the radiation beam is disclosed. The contaminant trap (10) apparatus includes a rotor (10) having a plurality of channel forming elements (11) defining channels (ch) which are arranged substantially parallel to the direction of propagation of the radiation beam, the rotor (10) including electrically chargeable material and arranged to be electrically charged as a result of the operation of the radiation source (50); and a bearing (20) configured to rotatably hold the rotor (10) with respect to a rotor carrying structure (30), wherein the apparatus is configured to (i) control or redirect an electrical discharge (10) of the rotor (ED), or (ii) suppress an electrical discharge (ED) of the rotor (10), or (iii) both,(i) and (ii).

Abstract translation: 公开了布置在辐射束的路径（R）中的污染捕集装置（10），以捕获从被配置成产生辐射束的辐射源（50）发出的污染物。 污染物捕集器（10）装置包括具有多个通道形成元件（11）的转子（10），所述多个通道形成元件（11）限定了基本上平行于辐射束的传播方向布置的通道（ch），转子（10）包括电 可充电材料并且被布置成由于辐射源（50）的操作而被带电; 以及轴承（20），其构造成相对于转子承载结构（30）可旋转地保持所述转子（10），其中所述装置被配置为（i）控制或重定向所述转子（ED）的放电（10） ，或（ii）抑制转子（10）的放电（ED），或（iii）（i）和（ii）两者。