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    金属膜の製造方法、下地組成物、金属膜およびその利用
    1.
    发明申请
    金属膜の製造方法、下地組成物、金属膜およびその利用 审中-公开
    生产金属膜，原料组合物，金属膜和金属膜的使用方法

    公开(公告)号：WO2009084337A1

    公开(公告)日：2009-07-09

    申请号：PCT/JP2008/070797

    申请日：2008-11-14

    Applicant: オムロン株式会社 ,  中島 誠二 ,  早瀬 哲生 ,  森 哲也

    Inventor： 中島 誠二 ,  早瀬 哲生 ,  森 哲也

    IPC: C23C18/18 ,  C23C18/20 ,  G02B5/08 ,  H05K3/38

    CPC classification number: H05K3/387 ,  C23C18/06 ,  C23C18/08 ,  C23C18/14 ,  C23C18/1667 ,  C23C18/1678 ,  C23C18/1893 ,  C23C18/2086 ,  C23C18/31 ,  G02B5/0808 ,  G02B27/1073 ,  G02B27/144 ,  H05K3/181 ,  H05K2203/1157 ,  H05K2203/121 ,  Y10T428/31678 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31692

    Abstract: 　本発明に係る金属膜の製造方法は、３つ以上の反応基を有する付加重合性化合物と、酸性基を有する付加重合性化合物と、塩基性基を有する付加重合性化合物と、親水性官能基を有する付加重合化合物と、を含有する下地組成物を用いて有機膜を形成する有機膜形成工程と、上記酸性基を金属（M1）塩にする金属塩生成工程と、上記金属（M1）イオンよりもイオン化傾向の低い金属（M2）イオンを含有する金属（M2）イオン水溶液で処理することによって、上記酸性基の金属（M1）塩を、金属（M2）塩とする金属固定工程と、上記金属（M2）イオンを還元して上記有機膜表面に金属膜を形成する還元工程と、を含む。これにより、任意の基板に対して、安価に金属膜および金属パターンを形成することができる金属膜の製造方法、下地組成物、金属膜およびその利用を提供する。

    Abstract translation: 本发明提供一种金属膜的制造方法，其可以在任何基材，底漆组合物，金属膜和金属膜的使用上以低成本形成金属膜和金属图案。 制造金属膜的方法包括使用底漆组合物形成有机膜的有机膜形成步骤，该底漆组合物包含含有三个以上反应性基团的加成聚合性化合物，含酸性基团的可加成聚合化合物，含碱性基团的可加成聚合化合物 化合物和含亲水官能团的可加成聚合化合物，将酸性基团转化为金属（M1）盐的金属盐生产步骤，用酸性基团处理酸性基团的金属（M1）盐的金属固定步骤 含有离子化倾向低于金属（M1）离子的餐（M2）离子的金属（M2）离子溶液，将酸性基团的金属（M1）盐转化成金属（M2）盐，还原步骤 还原金属（M2）离子以在有机膜的表面上形成金属膜。

    金属膜の製造方法、金属膜およびその利用
    2.
    发明申请
    金属膜の製造方法、金属膜およびその利用 审中-公开
    生产金属膜，金属膜和金属膜的使用方法

    公开(公告)号：WO2009084336A1

    公开(公告)日：2009-07-09

    申请号：PCT/JP2008/070793

    申请日：2008-11-14

    Applicant: オムロン株式会社 ,  中島 誠二 ,  早瀬 哲生 ,  森 哲也

    Inventor： 中島 誠二 ,  早瀬 哲生 ,  森 哲也

    IPC: C23C18/18 ,  C23C18/20 ,  H01B13/00

    CPC classification number: C23C18/14 ,  C23C18/06 ,  C23C18/08 ,  C23C18/1667 ,  C23C18/1678 ,  C23C18/1696 ,  C23C18/1893 ,  C23C18/2086 ,  Y10T428/31678 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31692

    Abstract: 　本発明に係る金属膜の製造方法は、３つ以上の反応基を有する付加重合性化合物と、酸性基を有する付加重合性化合物と、親水性官能基を有する付加重合化合物と、を含有する下地組成物を用いて有機膜を形成する有機膜形成工程と、上記酸性基を金属（M1）塩にする金属塩生成工程と、上記金属（M1）イオンよりもイオン化傾向の低い金属（M2）イオンを含有する金属（M2）イオン水溶液で処理することによって、上記酸性基の金属（M1）塩を、金属（M2）塩とする金属固定工程と、上記金属（M2）イオンを還元して上記有機膜表面に金属膜を形成する還元工程と、上記金属膜を酸化する酸化工程と、を含む。これにより、任意の基板に対して、安価に金属膜および金属パターンを形成することができ、スパッタリング法の問題点を解決しうる金属膜の製造方法、金属膜およびその利用を提供する。

    Abstract translation: 本发明提供一种金属膜的制造方法，其能够在任何基板上以低成本形成金属膜和金属图案，并且可以解决溅射法，金属膜以及金属膜的使用等问题。 制造金属膜的方法包括使用包含含有3个以上反应性基团的可加成聚合化合物的底漆组合物，含酸性基团的可加聚化合物和含有亲水性官能团的有机膜形成有机膜的工序 加成聚合性化合物，将酸性基团转化为金属（M1）盐的金属盐生产步骤，用含有金属（M2）离子水溶液处理酸性基团的金属（M1）盐的金属固定步骤 具有比金属（M1）离子更低的电离倾向的（M2）离子，以将酸性基团的金属（M1）盐转化为金属（M2）盐;还原步骤，还原金属（M2）离子形成 在有机膜的表面上形成金属膜，氧化金属膜的氧化工序。

    金属膜および金属配線パターンの形成方法、金属膜および金属配線パターン形成用下地組成物および金属膜
    3.
    发明申请
    金属膜および金属配線パターンの形成方法、金属膜および金属配線パターン形成用下地組成物および金属膜 审中-公开
    形成金属膜和金属接线图的方法，用于形成金属膜和金属接线图形的金属组合物和金属膜

    公开(公告)号：WO2006132241A1

    公开(公告)日：2006-12-14

    申请号：PCT/JP2006/311322

    申请日：2006-06-06

    Applicant: オムロン株式会社 ,  縄舟 秀美 ,  中島 誠二 ,  森 哲也

    Inventor： 縄舟 秀美 ,  中島 誠二 ,  森 哲也

    IPC: C23C18/30 ,  C08J7/06

    CPC classification number: C23C18/1658 ,  C23C18/161 ,  C23C18/2086 ,  C23C18/31 ,  C23C18/44 ,  C23C18/54 ,  Y10T428/12396

    Abstract: 　酸性基またはそのエステル基を有する付加重合性モノマーおよび重合開始剤を含有する金属膜形成用下地組成物を基板またはフィルム上に塗布し、重合して、有機膜を形成する工程、有機膜が有する酸性基またはそのエステル基を、酸性基の金属（Ｍ１）塩にする工程、有機膜を、金属（Ｍ１）イオンよりイオン化傾向の低い金属（Ｍ２）イオンを含有する水溶液で処理して、酸性基の金属（Ｍ１）塩を金属（Ｍ２）塩にする工程、および金属（Ｍ２）イオンを還元して、有機膜表面に金属膜を形成する工程を含むことを特徴とする金属膜の形成方法、該方法において使用される金属膜形成用下地組成物、および該方法によって形成された金属膜。

    Abstract translation: 公开了一种形成金属膜的方法，包括以下步骤：其中通过将含有具有酸性基团或其酯基的聚合引发剂的聚合引发剂和聚合引发剂的金属成膜用基础组合物施加到基材或 使涂布组合物成膜和聚合; 将有机膜中的酸性基团或其酯基形成为酸性基团的金属（M1）盐的工序; 通过用含有比金属（M1）离子更低的离子化倾向的金属（M2）离子的水溶液处理有机膜，将酸性基团的金属（M1）盐形成金属（M2）盐的步骤， 以及通过还原金属（M2）离子在有机膜的表面上形成金属膜的步骤。 还公开了用于这种方法的金属膜形成的基础组合物和通过这种方法形成的金属膜。

    金属膜の製造方法、下地組成物、金属膜およびその利用
    4.
    发明申请
    金属膜の製造方法、下地組成物、金属膜およびその利用 审中-公开
    生产金属膜的方法，基础成分，金属膜及其用途

    公开(公告)号：WO2008001611A1

    公开(公告)日：2008-01-03

    申请号：PCT/JP2007/061896

    申请日：2007-06-13

    Applicant: オムロン株式会社 ,  森 哲也 ,  中島 誠二

    Inventor： 森 哲也 ,  中島 誠二

    IPC: C23C18/18 ,  C23C18/20 ,  H05K1/03 ,  H05K3/18

    CPC classification number: H05K3/387 ,  C23C18/14 ,  C23C18/1605 ,  C23C18/1608 ,  C23C18/1658 ,  C23C18/1667 ,  C23C18/1678 ,  C23C18/1844 ,  C23C18/2086 ,  C23C18/31 ,  C23C18/44 ,  H05K3/181 ,  H05K2203/1157 ,  H05K2203/121 ,  Y10T428/31678 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31692

    Abstract: 　本発明の金属膜の製造方法は、３つ以上の反応基を有する付加重合性化合物と、酸性基を有する付加重合性化合物と、親水性官能基を有する付加重合化合物と、を含有する下地組成物を、基板またはフィルム上に塗布し、重合して、有機膜を形成する有機膜形成工程と、上記有機膜を、金属（M1）イオンを含有する水溶液で処理することによって、上記酸性基を金属（M1）塩にする金属塩生成工程と、上記金属（M1）イオンを含有する水溶液で処理した有機膜を、上記金属（M1）イオンよりもイオン化傾向の低い金属（M2）イオンを含有する金属（M2）イオン水溶液で処理することによって、上記酸性基の金属（M1）塩を、金属（M2）塩とする金属固定工程と、上記金属（M2）イオンを還元して上記有機膜表面に金属膜を形成する還元工程と、を含む。それゆえ、金属、特に金の膜を効率よく製造することができる。

    Abstract translation: 公开了一种金属膜的制造方法，其包括有机成膜工序，其中含有具有3个以上反应性基团的加成聚合性化合物的基础组合物，具有酸性基团的加成聚合性化合物和具有亲水性功能性的加成聚合性化合物 将组合物涂布在基材或膜上并在其上聚合，从而形成有机膜，金属盐形成步骤，其中有机膜用含有金属（M1）离子的水溶液处理，从而将酸性基团形成金属（ M1）盐，金属固定步骤，其中用含有金属（M1）离子的水溶液处理的有机膜用含有比金属（M1）离子更低离子化倾向的金属（M2）离子的水溶液处理， 从而将酸性基团的金属（M1）盐形成金属（M2）盐，还原步骤，其中在冲浪上形成金属膜 通过还原金属（M2）离子来获得有机薄膜。 因此，该方法能够有效地制造金属膜，特别是金膜。

    硬化性組成物および光学デバイス
    7.
    发明申请
    硬化性組成物および光学デバイス 审中-公开
    可固化组合物和光学装置

    公开(公告)号：WO2008152833A1

    公开(公告)日：2008-12-18

    申请号：PCT/JP2008/053439

    申请日：2008-02-27

    Applicant: オムロン株式会社 ,  東亞合成株式会社 ,  中島 誠二 ,  福原 智博 ,  伊藤 満雄 ,  増谷 直紀 ,  寺井 宏介

    Inventor： 中島 誠二 ,  福原 智博 ,  伊藤 満雄 ,  増谷 直紀 ,  寺井 宏介

    IPC: C08G59/14 ,  C08G59/32 ,  C08K5/5415 ,  C08L63/00 ,  C09J163/00 ,  C09J163/08 ,  G02B6/24

    CPC classification number: C08L13/00 ,  C08G59/186 ,  C08G59/226 ,  C08K5/0025 ,  C08L63/00 ,  G02B6/36 ,  G02B6/3636

    Abstract: 　本発明は、カルボキシ末端ブタジエンニトリルゴム変性ビスフェノールＡ型エポキシ化合物（Ａ－１）および／またはエポキシ化ポリブタジエン化合物（Ａ－２）と、上記（Ａ－１）および（Ａ－２）以外のカチオン重合性化合物（Ｂ）とを含有する硬化性組成物であって、当該硬化性組成物の硬化物の２５°C、５８９ｎｍでの屈折率が１．４０以上１．６０以下であることを特徴とする硬化性組成物に関する。これにより、高温環境下または高温高湿度環境下でも剥離等の不具合を起こすことなく、長期にわたり、光学デバイスの接着を実現出来る硬化性組成物、およびそれを用いた光学デバイスを提供する。

    Abstract translation: 一种可固化组合物，其包含：用羧基封端的丁二烯/丁腈橡胶和/或环氧化的聚丁二烯化合物（A-2）改性的双酚A环氧化合物（A-1）; 和除了化合物（A-1）和（A-2）以外的阳离子聚合性化合物（B）。 可固化组合物的特征在于给出在25℃和589nm测量的折射率为1.40-1.60的固化物体。 该固化性组合物能够使光学元件长时间保持粘接，即使在高温环境或高温高湿环境下也不会发生分离等问题。 还提供了用可固化组合物制成的光学装置。

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