MRAM
    1.
    发明申请
    MRAM 审中-公开
    MRAM

    公开(公告)号:WO2006129725A1

    公开(公告)日:2006-12-07

    申请号:PCT/JP2006/310903

    申请日:2006-05-31

    CPC classification number: H01L43/08 H01F10/3254 H01F10/3272 H01L27/222

    Abstract:  本発明によるMRAMは、基板と、固定された磁化を有する磁化固定層と、反転可能な磁化を有する磁化自由層と、磁化固定層と磁化自由層との間に介設された非磁性のバリア層とを具備する。磁化自由層は、複数の強磁性層と、反強磁性的なRKKY相互作用を発現するように形成された非磁性層とを含む。基板に最も近く位置する非磁性層は、RKKY相互作用の第α 1 次の反強磁性ピークに対応する範囲の膜厚を有し、基板から最も離れて位置する非磁性層は、RKKY相互作用の第α N 次の反強磁性ピークに対応する範囲の膜厚を有している。前記α 1 と前記α N は、下記関係:  α 1 <α N , を満足している。

    Abstract translation: MRAM包括基板,具有固定磁化的磁化固定层,具有可逆磁化强度的磁化自由层以及介于磁化固定层和磁化自由层之间的非磁性阻挡层。 无磁化层包括多个铁磁层和非磁性层,其形成为提供反铁磁RKKY相互作用。 最靠近基板定位的非磁性层的膜厚在与RKKY相互作用的1/1反铁磁性峰值相对应的范围内,而非磁性层位于距离 该衬底的膜厚度在与RKKY相互作用的N + 1级反铁磁性峰值相对应的范围内。 一个< SUB>和< SUB> a< N< N< N< / SUB>满足以下关系:a 1< SUB>< N& / SUB>

    磁気メモリ及び,その製造方法
    3.
    发明申请
    磁気メモリ及び,その製造方法 审中-公开
    磁记忆及其制造方法

    公开(公告)号:WO2006054588A1

    公开(公告)日:2006-05-26

    申请号:PCT/JP2005/021023

    申请日:2005-11-16

    Abstract:  本発明は磁気メモリの磁化自由層の反転磁界のバラツキを低減するための技術を提供するためのものである。本発明による磁気メモリは,第1方向に形状磁気異方性を有し,且つ,磁歪定数が正である強磁性層を含んで構成される磁化自由層と,磁化自由層に第1方向と同一の方向に引っ張り応力を印加する応力誘起構造体とを具備する。

    Abstract translation: 提供了一种用于减少磁存储器的磁化自由层的反转磁场的不规则性的技术。 磁存储器包括:由在第一方向上具有形状磁各向异性的铁磁层形成的无磁化层和正的磁应变常数; 以及用于在与第一方向相同的方向上对无磁化层施加拉伸应力的应力感应结构。

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