진공 건조기 및 이를 이용한 건조 방법
    2.
    发明申请
    진공 건조기 및 이를 이용한 건조 방법 审中-公开
    真空干燥机及其干燥方法

    公开(公告)号:WO2011005057A2

    公开(公告)日:2011-01-13

    申请号:PCT/KR2010/004486

    申请日:2010-07-09

    CPC classification number: H01L21/02052 H01L21/67034

    Abstract: 본 발명의 목적은, 건조가 시간이 짧고 얼룩 등이 발생하지 않으며 IPA를 사용하지 않으므로써, 화재 위험을 줄이고 유기 오염이 발생하지 않도록 하는 진공건조기 및 이를 이용한 건조방법을 제공하는 것이다. 본 발명은 덮개부분에 디스펜서 노즐이 형성되고 하부에 가스가 배출되는 배출구가 형성되어 있는 진공챔버; 상기 진공챔버 내에 위치하여 복수의 웨이퍼 또는 디스크가 배열되도록 하는 스탠드; 및 상기 진공챔버 내에 상기 스탠드와 상기 배출구사이에 위치하며 복수의 홀이 형성되어 있는 펀칭 플레이트를 포함하는 건조기 및 이를 이용한 건조방법을 제공하는 것이다.

    Abstract translation: 本发明旨在提供一种真空干燥器,其提供短的干燥时间,不留下污渍并且不使用异丙醇(IPA),从而降低火灾的风险并消除污染物的产生,并且使用干燥方法 相同。 因此,提供了一种使用该干燥器的干燥器和干燥方法,其中干燥机包括:真空室,其具有形成在其盖部分处的分配器喷嘴和形成在底部的用于通过其排出气体的出口; 放置在真空室内并用作在其上排列多个晶片或盘的位置的支架; 以及冲压板,其设置在真空室内的支架和出口之间,并且在其中形成有多个孔。

    웨이퍼 건조장치 및 이를 이용한 웨이퍼 건조방법
    4.
    发明申请
    웨이퍼 건조장치 및 이를 이용한 웨이퍼 건조방법 审中-公开
    晶片干燥装置及使用其的晶片干燥方法

    公开(公告)号:WO2011005055A2

    公开(公告)日:2011-01-13

    申请号:PCT/KR2010/004484

    申请日:2010-07-09

    CPC classification number: H01L21/67034

    Abstract: 본 발명의 목적은 웨이퍼의 손상을 줄일 수 있으며 가스의 사용량을 줄일 수 있는 웨이퍼 건조장치 및 이를 이용한 웨이퍼 건조방법을 제공하는 것이다. 본 발명은 측면에 제 1 회전축이 고정되고 상부에 이동이 가능한 제 2 회전축이 형성되며 하부에 제 1 배수구가 형성되어 있는 챔버; 상기 제 1 회전축과 상기 제 2 회전축에 고정되며 끝단에 웨이퍼를 실장하는 카세트가 고정되는 틸트암; 상기 카세트에 IPA/질소 가스를 공급하는 제 1 노즐; 상기 제 2 회전축이 제 1 방향 또는 제 2 방향으로 이동하도록 하는 스크류; 및 상기 스크류를 회전시키는 구동모터를 포함하는 웨이퍼 건조기 및 이를 이용한 웨이퍼 건조방법에 관한 것이다.

    Abstract translation: 发明内容本发明的目的是提供一种晶片干燥设备以及使用该晶片干燥设备的晶片干燥方法,该晶片干燥设备能够减少晶片的损坏并减少使用的气体的量。 本发明提供一种腔室,其包括:腔室,其具有固定到其一侧的第一旋转轴,能够向上移动的第二旋转轴以及形成在其下部的第一排出端口; 倾斜臂,其固定在第一旋转轴和第二旋转轴上并且用于安装晶片的盒被固定到该倾斜臂; 用于向盒供应IPA /氮气的第一喷嘴; 用于使第二旋转轴沿第一方向或第二方向移动的螺钉; 以及用于旋转螺杆的驱动马达以及使用该马达的晶片干燥方法。

    환원제혼합 및 소음감쇄 구조를 갖는 배기가스 탈질시스템
    5.
    发明申请
    환원제혼합 및 소음감쇄 구조를 갖는 배기가스 탈질시스템 审中-公开
    具有还原剂 - 混合和噪声衰减结构的排气除氮系统

    公开(公告)号:WO2011053013A2

    公开(公告)日:2011-05-05

    申请号:PCT/KR2010/007472

    申请日:2010-10-28

    Abstract: 본 발명은 배기가스 탈질시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 요소수가 배기가스와 혼합되어 암모니아로 변환되는 화학반응이 일어나는 반응챔버와, 상기 반응챔버에서 유입된 혼합가스에 포함되어 있는 질소산화물이 촉매와의 탈질반응을 통해 질소로 변환되는 화학반응이 일어나는 반응기를 포함하는 배기가스 탈질시스템에 있어서, 상기 반응챔버는 환원제와 배기가스가 짧은 시간 내에 혼합될 수 있도록 하는 다중혼합기를 포함하고, 상기 반응기는 촉매가 코팅되어 있으며 혼합가스가 통과할 수 있는 복수의 관통공의 측면격판이 물결모양형태로 형성되어 있는 촉매필터부를 포함하여, 환원제와 배기가스가 보다 짧은 시간 내에 혼합될 수 있도록 하여 반응챔버의 길이를 줄일 수 있고, 혼합가스와 촉매의 접촉면적은 유지하면서 관통공의 공간을 크게 확보할 수 있어 차압은 최소화하면서도 소음감쇄효과는 높일 수 있는 환원제혼합 및 소음감쇄 구조를 갖는 배기가스 탈질시스템에 관한 것이다.

    Abstract translation: 排气除氮系统技术领域本发明涉及排气除氮系统,更具体地说,涉及排气除氮系统,其包括反应室,在该反应室中发生化学反应,在该反应室中将尿素与废气混合并转化成氨 并且包括其中发生化学反应的反应器,其中通过与催化剂的除氮反应将从反应室流入的混合气体中所含的氮氧化物转化为氮气; 是具有还原剂混合和噪声衰减结构的废气除氮系统,其中反应室包括设计成允许还原剂和废气在短时间内混合的多元混合器,反应器包括 催化剂过滤部分,其中将波形形式提供给涂覆有催化剂并允许混合气体通过的多个通孔的侧面隔板,使得还原剂 并且可以在相当短的时间内混合废气,并且可以减少反应室的长度,并且可以保持通孔的空间大,同时保持混合气体和催化剂之间的接触面积,使得 可以在减小差压的同时增加噪声衰减效果。

    웨이퍼 세정장치 및 그를 이용한 웨이퍼 세정방법
    6.
    发明申请
    웨이퍼 세정장치 및 그를 이용한 웨이퍼 세정방법 审中-公开
    WAFER清洗装置和使用该方法的WAFER清洗方法

    公开(公告)号:WO2011004942A1

    公开(公告)日:2011-01-13

    申请号:PCT/KR2009/007192

    申请日:2009-12-03

    CPC classification number: H01L21/02052 B08B3/08 H01L21/67017

    Abstract: 본 발명의 목적은 과산화수소를 사용하지 않으며, 용존산소량을 줄여 웨이퍼의 변형등을 줄이고 실리콘 소모량을 줄일 수 있는 웨이퍼 세정장치 및 그를 이용한 웨이퍼 세정방법을 제공하는 것이다. 본 발명은 산화막 제거용 약품용액 또는 초순수를 공급받아 상기 산화막 제거용 약품용액 또는 초순수에 용해되어 있는 가스를 분리하여 배출하는 제 1 얇은막 접촉기; 상기 제 1 얇은막접촉기에서 배출된 산화막 제거용 약품용액 또는 초순수를 공급받아 가스를 제거하는 제 2 얇은막 접촉기; 상기 제 1 및 제 2 얇은막접촉기에서 분리된 가스를 외부로 배출하는 진공펌프; 및 상기 제 2 얇은막접촉기에서 배출된 상기 산화막 제거용 약품용액 또는 초순수를 저장하는 공정용기를 구비하는 웨이퍼 세정장치 및 웨이퍼 세정방법을 제공하는 것이다.

    Abstract translation: 本发明旨在提供一种能够通过在不使用过氧化氢的情况下减少溶解氧而减少晶片变形以及消耗硅的晶片清洁装置,以及使用该装置的晶片清洗方法。 因此,提供了一种晶片清洗装置和晶片清洗方法,所述晶片清洗装置包括:第一薄膜接触装置,其接收用于除去氧化物的化学溶液或超纯水,然后分离和排出溶解在其中的气体 用于除去氧化物的化学溶液或超纯水; 第二薄膜接触装置,其接收从第一薄膜接触装置排出的化学溶液或超纯水,并从中除去气体; 用于排出与第一和第二薄膜接触装置分离的气体的真空泵; 以及处理容器,其存储从第二薄膜接触装置排出的化学溶液或超纯水。

    요소수유입로와 분사노즐의 막힘을 방지할 수 있는 배기가스 탈질시스템과 요소수 응고를 방지할 수 있는 요소수 공급장치
    7.
    发明申请
    요소수유입로와 분사노즐의 막힘을 방지할 수 있는 배기가스 탈질시스템과 요소수 응고를 방지할 수 있는 요소수 공급장치 审中-公开
    用于防止在尿素水流入路径和注射喷嘴中防止堵塞的排气的系统,以及用于供应防止尿素水凝结的尿素水的装置

    公开(公告)号:WO2011090258A2

    公开(公告)日:2011-07-28

    申请号:PCT/KR2010/007475

    申请日:2010-10-28

    Abstract: 본 발명은 배기가스 탈질시스템에 대한 것으로, 반응챔버로 요소수와 공기를 공급하는 요소수분사부를 포함하는 배기가스 탈질시스템에 있어서, 상기 요소수분사부는 외부의 공기를 공기유입로를 통해 분사부에 공급하는 공기공급부와; 요소수를 요소수유입로를 통해 분사부에 공급하는 요소수공급부와; 상기 요소수유입로 일측에 연결된 물유입로를 통해 물을 분사부에 공급하는 물공급부와; 상기 요소수유입로에 물 또는 요소수를 선택적으로 분사부에 공급하는 유량제어밸브와; 상기 공기공급부와 상기 요소수공급부에 각각 연결되어 분사노즐을 통해 공기, 요소수, 물을 선택적으로 반응챔버에 배출하는 분사부;를 포함하여, 반응챔버로 요소수와 공기를 계속적으로 배출하는 과정에서 막히게 되는 분사노즐과 요소수유입로에 물을 공급하여 요소수유입로와 분사노즐의 막힘현상을 해결할 수 있는 요소수유입로와 분사노즐의 막힘을 방지할 수 있는 배기가스 탈질시스템과 요소수 응고를 방지할 수 있는 요소수 공급장치에 관한 것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种能够防止尿素水流入路径和喷嘴中的堵塞的排气的脱氮系统,以及能够防止尿素水凝结的尿素水的供给装置。 废气脱氮系统包括向反应室供给尿素水和空气的尿素水注入单元,尿素水喷射单元包括:空气供给单元,其通过空气流入路径向喷射单元供给外部空气; 尿素水供给单元,其通过尿素水流入路径向注射单元供给尿素水; 供水单元,其通过与尿素水流入路径的一侧连接的水流路径向喷射单元供水; 流量控制阀,用于通过尿素水流入路径向喷射单元选择性地供给水或尿素水; 并且所述注射单元连接到空气供应单元和尿素水供应单元,用于选择性地将空气,尿素水和水进料到反应室中。 通过向注射喷嘴和尿素水流入路径供给水,可以防止尿素水流入路径和喷嘴的阻塞,这是由于尿素水和空气连续进入反应室。

    포기조의 부유물 농도측정장치 및 방법

    公开(公告)号:WO2010053312A3

    公开(公告)日:2010-05-14

    申请号:PCT/KR2009/006520

    申请日:2009-11-06

    Inventor: 정종덕 홍성호

    Abstract: 본 발명은 부유물 농도측정장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 하수처리장, 폐수처리장, 분뇨처리장 등의 포기조 내에 농도측정장치가 비침지형으로 설치되어 발광부와 수광부가 피처리수와 접촉하지 않도록 함으로써 오염물질에 의해 오염되지 않고, 포기조 부유물 농도를 정확하게 측정할 수 있는 포기조의 부유물 농도 측정장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명은 오폐수 처리장 포기조의 부유물 농도를 측정하는 부유물 농도 측정장치에 있어서, 하부면이 개방되어 있는 하우징; 상기 하우징 내부 공간에 피처리수와 비접촉식으로 설치되고 하부로 빛을 조사하는 발광부; 상기 하우징 내부 공간에 피처리수와 비접촉식으로 설치되고, 상기 발광부로부터 조사된 후 부유물에 부딪혀 반사되는 빛이 입사되는 수광부; 상기 하우징이 포기조 수면 위로 뜰 수 있도록 하며, 하우징 내 피처리수 수위를 일정하게 유지하는 부기; 및 상기 오폐수내 와류를 정류하고 기포를 분리하는 정류장치를 포함함에 기술적 특징이 있다.

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