公开(公告)号：WO2013100411A1

公开(公告)日：2013-07-04

申请号：PCT/KR2012/010205

申请日：2012-11-29

Applicant: 제일모직 주식회사

Inventor： 신승욱 ,  권효영 ,  이성재 ,  조연진

IPC: C07D417/14 ,  C07D403/14 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07D403/14 ,  C07D417/14 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094

Abstract: 화학식 1로 표현되는 시아누릭산 유도체, 상기 시아누릭산 유도체를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물 및 상기 조성물을 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明涉及：由化学式1表示的氰尿酸衍生物; 包含氰尿酸衍生物的抗蚀剂底层组合物; 以及使用该组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：WO2013062255A2

公开(公告)日：2013-05-02

申请号：PCT/KR2012/008314

申请日：2012-10-12

Applicant: 제일모직 주식회사

Inventor： 권효영 ,  신승욱 ,  이성재 ,  조연진

IPC: C07C309/29 ,  C08G61/12 ,  G03F7/26 ,  G03F7/00 ,  C07C309/04

CPC classification number: C07C309/17 ,  C07C309/42 ,  C07D209/48 ,  C08F20/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038

Abstract: 열산발생제 결합 모노머, 상기 열산발생제 결합 모노머로부터 얻어진 중합체, 상기 중합체를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물 및 상기 레지스트 하층막용 조성물을 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.

Abstract translation: 一种用于抗蚀剂下层膜的组合物，其包含热酸产生剂，从与热酸发生剂偶联的单体获得的聚合物，包含聚合物的抗蚀剂下层膜用组合物，以及使用该抗蚀剂组合物形成图案的方法 底层膜

公开(公告)号：WO2014104544A1

公开(公告)日：2014-07-03

申请号：PCT/KR2013/008836

申请日：2013-10-02

Applicant: 제일모직 주식회사

Inventor： 신승욱 ,  김윤준 ,  김혜정 ,  조연진 ,  최유정

IPC: G03F1/00 ,  C07C63/15 ,  G03F7/26 ,  C07C15/40

CPC classification number: G03F7/004 ,  C07C63/15 ,  C07C63/26 ,  C07C65/32 ,  C07C65/34 ,  C07C65/40 ,  G03F1/00 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  G03F7/40

Abstract: 화학식 1로 표현되는 하드마스크 조성물용 모노머, 상기 모노머를 포함하는 하드마스크 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 상기 화학식 1에서, A, A', L, L', X 및 n의 정의는 명세서에서 정의한 바와 같다.

Abstract translation: 本发明涉及一种由化学式1表示的硬掩模组合物的单体，涉及包含所述单体的硬掩模组合物，以及使用所述硬掩模组合物形成图案的方法。 在上述化学式1中，A，A'，L，L'，X和n的定义与说明书中定义的相同。

公开(公告)号：WO2014069718A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：PCT/KR2013/000179

申请日：2013-01-09

Applicant: 제일모직 주식회사

Inventor： 박유정 ,  권효영 ,  신승욱 ,  이성재 ,  조연진 ,  윤용운 ,  이철호

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/11 ,  G03F7/094

Abstract: 하기 화학식 1로 표현되는 부분을 가지는 중합체, 그리고 용매를 포함하는 레지스트 하층막용 조성물 및 상기 레지스트 하층막용 조성물을 사용한 패턴 형성 방법에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明涉及具有由下式I表示的部分的聚合物，包含溶剂的抗蚀剂下层膜的组合物，以及使用该抗蚀剂下层膜用组合物形成图案的方法。