摘要:
Ein Verfahren zum Ankontaktieren und Umverdrahten eines in eine Leiterplatte (2) eingebetteten elektronischen Bauteils (1) ist gekennzeichnet durch die folgenden Schritte: Auftragen einer ersten Permanentresistschicht (9) auf eine Kontaktseite (8) der Leiterplatte (2), Strukturieren der ersten Permanentresistschicht (11) zum Herstellen von Freistellungen (10, 12) im Bereich von Kontakten (7) des elektronischen Bauteils (1), Auftragen einer zweiten Permanentresistschicht (11) auf die strukturierte erste Permanentresistschicht (9), Strukturieren der zweiten Permanentresistschicht (11) zum Freilegen der Freistellungen (10) im Bereich der Kontakte (7) und zum Herstellen von Freistellungen (12) entsprechend den gewünschten Leiterzügen (15), Chemisches Beschichten der Freistellungen (10, 12) mit Kupfer, Galvanisches Auffüllen der Freistellungen (10, 12) mit Kupfer, Abtragen von Kupferüberschuss in den Bereichen zwischen den Freistellungen (10, 12).
摘要:
A method of manufacturing a component carrier (100), wherein the method comprises stamping a surface profile in a design layer (102), forming a metallic base structure (122, 122') in at least one indentation (108) of the profiled design layer (102) at least partially by electroplating, and electroplating an electroplating structure (110) in the at least one indentation (108) on or above the metallic base structure (122, 122'),
摘要:
A method of manufacturing a component carrier (100), wherein the method comprises stamping a surface profile in a design layer (102), forming an electrically conductive seed layer (118) on the stamped design layer (102), forming a patterned electroplating protection structure (106) on portions of the seed layer (118) apart from indentations (108) of the profiled design layer (102), and electroplating an electroplating structure (110) selectively on or above portions of the seed layer (118) exposed with respect to the electroplating protection structure (106).
摘要:
Bei einem Verfahren zum Behandeln der Oberfläche eines flächigen Gegenstands (1) durch Anwendung eines flüssigen Mediums (6) auf der Oberfläche (2) zur Veränderung der Struktur und/oder Beschaffenheit der Oberfläche (2) durch wenigstens teilweises Entfernen von Material der Oberfläche (2) durch Einwirken des flüssigen Mediums (6) auf das Material der Oberfläche (2), wobei das zur Behandlung der Oberfläche angewandte bzw. aufgebrachte, flüssige Medium (6) an Rand- bzw. Kantenbereichen (4, 5) der während der Behandlung im wesentlichen horizontal angeordneten Oberfläche von dieser entfernt wird, wird vorgeschlagen, daß das zur Behandlung der Oberfläche (2) angewandte, flüssige Medium (6) zusätzlich an wenigstens einer in Abstand von den Rand- bzw. Kantenbereichen (4, 5) der Oberfläche (2) liegenden Stelle von der zu behandelnden Oberfläche (2) entfernt wird, wodurch sich eine Vergleichmäßigung bei der Durchführung der Behandlung bzw. Bearbeitung der Oberfläche (2) bzw. von darauf auszubildenden Strukturen erzielen läßt. Ein derartiges Verfahren sowie ein derartiger flächiger Gegenstand lassen sich bevorzugt bei einer Herstellung von Leiterplatten einsetzen.