公开(公告)号：WO2004030830A1

公开(公告)日：2004-04-15

申请号：PCT/US2003/030736

申请日：2003-09-26

Applicant: EKC TECHNOLOGY, INC.

Inventor： SVENDSEN, Leo, G. ,  MUKHERJEE, Shyama, P. ,  ROMAN, Paul, J., Jr. ,  HILL, Ross, H. ,  MADSEN, Harold, O. ,  ZHANG, Xin ,  HOHERTZ, Donna

IPC: B05D1/02

CPC classification number: C23C18/06 ,  C01G11/02 ,  C23C2/04 ,  C23C2/26 ,  C23C8/02 ,  C23C18/08 ,  C23C18/1204 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/127 ,  C23C18/1279 ,  C23C18/1283 ,  C23C18/14 ,  C23C24/08 ,  C23C26/00 ,  C23C26/02 ,  C23C30/00 ,  G03F7/0047 ,  H01L21/02175 ,  H01L21/02183 ,  H01L21/02186 ,  H01L21/02189 ,  H01L21/02194 ,  H01L21/02203 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/02348 ,  H01L21/31691 ,  H01L21/31695 ,  H05K1/162 ,  H05K3/105

Abstract: This invention comprises methods for making nanostructured and nanoporous thin film structures of various compositions. These films can be directly patterned. In these methods, precursor films are deposited on a surface and different components of the precursor film are reacted under selected conditions, forming a nanostructured or nanoporous film. Such films can be used in a variety of applications, for example, low k dielectrics, sensors, catalysts, conductors or magnetic films. Nanostructured films can be created: (1) using one precursor component and two reactions, (2) using two or more components based on differential rates of photochemical conversion, (3) using two precursors based on the thermal sensitivity of one precursor and the photochemical sensitivity of the other, and (4) by photochemical reaction of a precursor film and selected removal of a largely unreacted component from the film.

Abstract translation: 本发明包括制备各种组合物的纳米结构和纳米多孔薄膜结构的方法。 这些膜可以直接图案化。 在这些方法中，前体膜沉积在表面上，并且前体膜的不同组分在选择的条件下反应，形成纳米结构或纳米多孔膜。 这种膜可以用于各种应用，例如低k电介质，传感器，催化剂，导体或磁性膜。 可以制备纳米结构膜：（1）使用一个前体组分和两个反应，（2）基于光化学转化的差异速率使用两种或更多种组分，（3）使用基于一种前体的热敏感性的两种前体和光化学 另一方的灵敏度，（4）通过前体膜的光化学反应，并从膜中选择除去大部分未反应的成分。