Abstract:
Es wird ein Leuchtdiodenchip (1) angegeben, mit: - einem Halbleiterkörper (2), der dazu ausgebildet ist, elektromagnetische Strahlung mit einer Peakwellenlänge zu emittieren, wobei - der Halbleiterkörper (2) zumindest einen Randbereich (6) aufweist, der einen Innenbereich (7) des Halbleiterkörpers (2) in lateralen Richtungen vollständig umgibt, und - der Halbleiterkörper (2) im Randbereich (6) eine größere Bandlücke (8, 9) aufweist als im Innenbereich (7). Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines Leuchtdiodenchips (1) angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft einen optoelektronischen Halbleiterchip (1) mit einem Halbleiterkörper (10) umfassend eine erste Halbleiterstruktur (100), eine zweite Halbleiterstruktur (200) und einen aktiven Bereich (300) zwischen der ersten (100) und der zweiten Halbleiterstruktur (200), und eine Vielzahl von Aussparungen (500), die jeweils zumindest eine der Halbleiterstrukturen (100,200) und den aktiven Bereich (300) durchdringen, wobei eine Deckfläche (300a) des aktiven Bereichs (300) eine zusammenhängende Fläche ist, und zumindest in manchen der Aussparungen (500), Oberflächen (500a) der Aussparungen (500), vollständig mit elektrisch isolierendem Material (5) bedeckt sind.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform weist die Halbleiterschichtenfolge (10) eine n-leitende n-Seite (11), eine p-leitende p-Seite (13) und eine dazwischen liegende aktive Zone (2) auf. Die aktive Zone (2) weist mindestens eine strahlungsaktive Schicht (21) mit einer ersten Materialzusammensetzung zur Erzeugung einerersten Strahlung (L1) auf. Die zumindest eine strahlungsaktive Schicht (21) ist senkrecht zu einer Wachstumsrichtung (z) der Halbleiterschichtenfolge orientiert. Ferner weist die aktive Zone (2) eine Vielzahl von strahlungsaktiven Schläuchen (22) mit einer zweiten Materialzusammensetzung oder einer anderen Kristallstruktur zur Erzeugung einer zweiten Strahlung (L2) auf, wobei die zweite Materialzusammensetzung von der ersten Materialzusammensetzung verschieden ist. Die strahlungsaktiven Schläuche (22) sind parallel zur Wachstumsrichtung (z) orientiert.
Abstract:
Es wird ein Spiegel (20) für einen Laser (21) angegeben, der Spiegel (20) umfassend einen Schichtenstapel (22) mit mindestens einer ersten Schicht (23), die ein erstes Material aufweist, und mindestens einer zweiten Schicht (24), die ein zweites Material aufweist, wobei das erste Material einen ersten Brechungsindex aufweist und das zweite Material einen zweiten Brechungsindex aufweist, der erste Brechungsindex und der zweite Brechungsindex sich um mindestens 0,2 unterscheiden, und die Reflektivität (R) des Spiegels (20) in dem Fall, dass ein erstes Austrittsmedium (25), welches zumindest stellenweise transluzent für elektromagnetische Strahlung einer vorgebbaren Wellenlänge ist, an den Spiegel (20) angrenzt sich um weniger als 10 % von der Reflektivität (R) des Spiegels (20) in dem Fall, dass ein vom ersten Austrittsmedium (25) verschiedenes zweites Austrittsmedium (26), welches zumindest stellenweise transluzent für elektromagnetische Strahlung der vorgebbaren Wellenlänge ist, an den Spiegel (20) angrenzt, unterscheidet für einen Wellenlängenbereich von mindestens ± 20 nm um die vorgebbare Wellenlänge herum. Des Weiteren werden ein Laser (21) und ein Laserbauteil (40) angegeben.
Abstract:
Es wird ein Messverfahren mit den folgenden Schritten angegeben: - Aussenden eines Sendesignals, das zumindest einen Lichtpuls umfasst, wobei eine Amplitude einer Intensität des Lichtpulses mit einer Modulationsfrequenz moduliert ist, - Detektieren eines Empfangssignals, das zumindest einen Teil des Sendesignals umfasst, das von einem externen Objekt reflektiert wird, - Auswählen zumindest einer Frequenzkomponente des Empfangssignals, die der Modulationsfrequenz des Sendesignals entspricht, - Ermitteln eines Abstandes zum externen Objekt aus einer Zeitdifferenz zwischen dem Aussenden des Sendesignals und der Detektion der ausgewählten Frequenzkomponente des Empfangssignales. Des Weiteren wird eine Messvorrichtung angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Transfer eines Bauelements, insbesondere eines optoelektronischen Bauelements, bei dem wenigstens ein Bauelement bereitgestellt wird, welches über eine Stützhalterung an einem ersten Träger befestigt ist, wobei das Bauelement auf einer dem ersten Träger abgewandten Seite einen Transferbereich aufweist. Ein lichtleitendes Abhebeelement wird mit einem Lichtaustrittsbereich gegenüber dem Transferbereich positioniert und ein erster Laserlichtpuls erzeugt. Dadurch wird ein Transfermaterial zwischen dem Lichtaustrittsbereich und Transferbereich aufgeschmolzen, so dass der Lichtaustrittsbereich mit dem Transferbereich durch das aufgeschmolzene Transfermaterial verbunden wird. Das Bauelement wird abgehoben und über einem Ablegebereich positioniert. Dann wird ein zweiter Laserlichtpuls erzeugt, so dass das Transfermaterial erneut aufgeschmolzen wird und das Abhebeelement von dem Transferbereich vor einem Erstarren des Transfermaterials wegbewegt, so dass das Bauelement auf dem Ablegebereich verbleibt.
Abstract:
Die kantenemittierende Halbleiterlaserdiode (100) umfasst ein Aufwachssubstrat (2), eine auf dem Aufwachssubstrat (2) angebrachte Halbleiterschichtenfolge (1) mit einer aktiven Schicht (13) und zwei einander gegenüberliegende Facetten (4). Die Facetten (4) begrenzen die Halbleiterschichtenfolge (1) in einer lateralen Richtung (L). Die Halbleiterschichtenfolge (1) umfasst zwei an die Facetten (4) grenzende Randbereiche (R) und einen direkt an beide Randbereiche (R) grenzenden Zentralbereich (Z). Innerhalb der Randbereiche (R) ist ein Volumenanteil der aktiven Schicht (13) an der Halbleiterschichtenfolge (1) jeweils geringer als im Zentralbereich (Z).
Abstract:
A method of treating a semiconductor wafer (10) comprising a set of Aluminum Gallium Indium Phosphide light emitting diodes or AlGaInP-LEDs to increase the light generating efficiency of the AlGaInP-LEDs, wherein each ALGaInP-LED includes a core active layer for light generation sandwiched between two outer layers, the core active layer having a central light generating area (20) and a peripheral edge (22) surrounding the central light generating area, the method comprising the step of treating the peripheral edge (22) of the core active layer of each AlGaInP-LED with a laser beam (L), thus increasing the minimum band gap in each peripheral edge (22) to such an extent that, during later operation of the AlGaInP-LED, the electron-hole recombination is essentially confined to the central light generating area.
Abstract:
Es wird ein Leuchtdiodenchip mit einer epitaktischen Halbleiterschichtenfolge (1) mit einer aktiven Zone (2), die im Betrieb elektromagnetische Strahlung erzeugt undeiner Passivierungsschicht (10) angegeben, in der elektrische Ladungsträger statisch fixiert sind oder die zu einer Absättigung der Oberflächenzustände der Halbleiterschichtenfolge (1) führt. Die Passivierungsschicht (10) ist auf einer Seitenfläche (8) der Halbleiterschichtenfolge (1) aufgebracht und die Passivierungsschicht (10) überdeckt zumindest die aktive Zone (2).
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Trägers mit einer elektrischen Kontaktfläche, zum Anordnen eines optoelektronischen Halbeiterchips auf der elektrischen Kontaktfläche des Trägers, zum Anordnen eines Einbettungsmaterials über dem Träger, wobei das Einbettungsmaterial eingebettete Partikel aufweist, wobei der optoelektronische Halbleiterchip zumindest teilweise in das Einbettungsmaterial einbettet wird, zum Anordnen einer Elektrode über dem optoelektronischen Halbleiterchip und dem Einbettungsmaterial, zum Anlegen eines inhomogenen elektrischen Felds zwischen der elektrischen Kontaktfläche und der Elektrode, wobei die Partikel durch das elektrische Feld zumindest teilweise umorientiert werden, und zum Aushärten des Einbettungsmaterials.