Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Konversionselements (2) mit folgenden Schritten angegeben: -Bereitstellen eines Rahmens (8) mit einer Öffnung (9), -Aufbringen einer Opferschicht (10) zumindest auf eine Seitenfläche der zumindest einen Öffnung (9c), -Aufbringen einer reflektierenden Schicht (5) auf die Opferschicht (10), -Einbringen eines Konversionsmaterials (4) in die zumindest eine Öffnung (9), wobei das Konversionsmaterial (4) die reflektierende Schicht (5) bedeckt, und -Entfernen der Opferschicht (10) und des Rahmens (8).
Abstract:
Es wird ein Halbleiterchip (10) mit einem Träger (1) und einem darauf angeordneten Halbleiterkörper (2) angegeben. Der Halbleiterkörper weist eine dem Träger zugewandte erste Halbleiterschicht (21), eine dem Träger abgewandte zweite Halbleiterschicht (22) und eine dazwischenliegende aktive Zone (23) auf. Zumindest eine zur elektrischen Kontaktierung der ersten Halbleiterschicht eingerichtete Stromaufweitungsschicht (32) ist zwischen dem Träger und dem Halbleiterkörper angeordnet. Bevorzugt weist die Stromaufweitungsschicht eine vertikale Schichtdicke (D32) von mindestens 500 nm auf. Eine zur elektrischen Kontaktierung der zweiten Halbleiterschicht eingerichtete Metallschicht (5) ist zwischen dem Träger und der Stromaufweitungsschicht angeordnet, wobei die Metallschicht die Stromaufweitungsschicht vollständig bedeckt. Eine Isolierungsschicht (4) ist in vertikaler Richtung zwischen der Stromaufweitungsschicht und der Metallschicht angeordnet, wobei die Isolierungsschicht die Stromaufweitungsschicht vollständig bedeckt, sodass die Metallschicht von der Stromaufweitungsschicht elektrisch isoliert ist. Insbesondere weist der Isolierungsschicht (4) oder die Metallschicht (5) eine dem Halbleiterkörper abgewandte planarisierte Oberfläche (4B, 5B) auf. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines oder einer Mehrzahl solcher Halbleiterchips angegeben.
Abstract:
Es wird ein strahlungsemittierendes Halbleiterbauelement (1) angegeben, umfassend einen Halbleiterkörper (2) mit einem zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20), einen Träger (3), auf dem der Halbleiterkörper angeordnet ist und ein optisches Element (4), wobei das optische Element mit einer direkten Bondverbindung an dem Halbleiterkörper befestigt ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung von strahlungsemittierenden Halbleiterbauelementen angegeben.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Konvertervorrichtung (1) mit einem Leuchtstoffelement (2) zur Konversion einer Pumpstrahlung (4) in eine Konversionsstrahlung (6), einer ersten Elektrode (7) und einer zweiten Elektrode (8), wobei die erste Elektrode (7) und die zweite Elektrode (8) derart ausgebildet und um das Leuchtstoffelement (2) angeordnet sind, dass sie einen Kondensator bilden, sodass eine mechanische Integrität des Leuchtstoffelements (2) als Dielektrikum des Kondensators durch eine Kapazitätsmessung überwacht werden kann.
Abstract:
Ein Verfahren zum Transferieren von Halbleiterchips umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Transferwerkzeugs mit einer Mehrzahl von Segmenten, wobei jedes Segment einen Flüssigkeitsaufnahmebereich aufweist, zum Bereitstellen einer Mehrzahl von Halbleiterchips in einer regelmäßigen Anordnung auf einem Quellträger, zum Bereitstellen eines Zielträgers, zum selektiven Anordnen von Flüssigkeitstropfen an den Flüssigkeitsaufnahmebereichen von zumindest einigen der Segmente, zum Annähern des Transferwerkzeugs an den Quellträger, wobei jeder Flüssigkeitstropfen mit einem Halbleiterchip in Kontakt gerät und diesen benetzt, zum Abheben des Transferwerkzeugs von dem Quellträger, wobei durch Flüssigkeitstropfen benetzte Halbleiterchips mit dem Transferwerkzeug von dem Quellträger abgehoben werden, zum Annähern des Transferwerkzeugs an den Zielträger, wobei die an dem Transferwerkzeug angeordneten Halbleiterchips in Kontakt mit dem Zielträger geraten, und zum Abheben des Transferwerkzeugs von dem Zielträger, wobei die mit dem Zielträger in Kontakt geratenen Halbleiterchips an dem Zielträger verbleiben.
Abstract:
A fine interval coating member for a LED display and a coating method using the same are provided. The coating member includes column portions and row portions crossing the column portions, and holes between the column portions and the row portions. The body portion includes a material that is melted at a temperature higher than room temperature and that is cured at the room temperature.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Bauelement (100) aufweisend eine erste Komponente (1), eine zweite Komponente (2), ein Verbindungselement (3), das direkt zwischen der ersten Komponente (1) und der zweiten Komponente (2) angeordnet ist, wobei das Verbindungselement (3) zumindest ein erstes Metall (Me1) aufweist, das als eine Haftschicht (4) ausgeformt ist, die direkt an der ersten Komponente (1) und/oder zweiten Komponente (2) angeordnet ist, das als Diffusionsbarriere (5) ausgeformt ist, das Bestandteil einer ersten Phase (31) und/oder einer zweiten Phase (32) des Verbindungselements (3) ist, wobei die erste und/oder zweite Phase (31, 32) jeweils neben dem ersten Metall (Me1) noch weitere von dem ersten Metall verschiedene Metalle umfasst, wobei die Konzentration (c11) des ersten Metalls (Me1) in der ersten Phase (31) größer ist als die Konzentration (c25) des ersten Metalls (Me1) in der zweiten Phase (32).
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Leiterrahmens, zum Bereitstellen eines Stabilisierungsrahmens, zum Anordnen des Stabilisierungsrahmens auf dem Leiterrahmen und zum Einbetten des Leiterrahmens und des Stabilisierungsrahmens in einen Formkörper.
Abstract:
A transferring method, a manufacturing method, a device and an electronic apparatus of micro-LED are disclosed. The method for transferring micro-LED comprises: forming micro-LEDs (505, 506, 507) on a laser-transparent original substrate (406), wherein the micro-LEDs (505, 506, 507) are lateral micro-LEDs (505, 506, 507) whose P electrodes (505p, 506p, 507p) and N electrodes (505n, 506n, 507n) are located on one side; bringing the P electrodes (505p, 506p, 507p) and N electrodes (505n, 506n, 507n) of the lateral micro-LEDs (505, 506, 507) into contact with pads (515, 516, 517) preset on a receiving substrate (504); and irradiating the original substrate (406) with laser (413) from the original substrate (406) side to lift-off the lateral micro-LEDs (505, 506, 507) from the original substrate (406). A technical effect of using lateral micro-LEDs lies in that the processing for N metal electrode after the micro-LED transfer can be omitted.