Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Verbinden von zumindest zwei Komponenten (1, 2) mit den Schritten: A) Bereitstellen zumindest einer ersten Komponente (1) und einer zweiten Komponente (2), B) Aufbringen zumindest einer Spenderschicht (3) auf die erste und/oder die zweite Komponente (1, 2), wobei die Spenderschicht (3) mit Sauerstoff (31) angereichert ist, C) Aufbringen einer Metallschicht (4) auf die Spenderschicht (3), die erste oder die zweite Komponente (1, 2), D) Aufheizen zumindest der Metallschicht (4) auf eine erste Temperatur (T1), so dass die Metallschicht (4) aufgeschmolzen wird und die erste Komponente (1) und die zweite Komponente (2) miteinander verbunden werden, und E) Aufheizen der Anordnung auf eine zweite Temperatur (T2), so dass der Sauerstoff (31) aus der Spenderschicht (3) in die Metallschicht (4) übergeht und die Metallschicht (4) sich zu einer stabilen Metalloxidschicht (5) umwandelt, wobei die Metalloxidschicht (5) eine höhere Schmelztemperatur als die Metallschicht (4) aufweist, wobei zumindest die Spenderschicht (3) und die Metalloxidschicht (5) die erste Komponente (1) mit der zweiten Komponente (2) miteinander verbindet.
Abstract:
Ein optoelektronischer Halbleiterchip (100) umfasst einen Grundkörper mit einem Träger (3) und einer auf einer Oberseite (30) des Trägers (3) angeordneten Halbleiterschichtenfolge (1), die im bestimmungsgemäßen Betrieb elektromagnetische Strahlung emittiert oder absorbiert. Ferner umfasst der Halbleiterchip (100) zwei auf der Halbleiterschichtenfolge (1) angeordnete und vom Träger (3) abgewandte Kontaktflächen (20, 21), über die die Halbleiterschichtenfolge (1) elektrisch kontaktierbar ist. Der Halbleiterchip (100) weist außerdem zwei Kontaktelemente (40, 41) auf, die auf den Kontaktflächen (20, 21) aufgebracht sind und mit diesen elektrisch leitend verbunden sind. Der Träger (3) des Grundkörpers umfasst quer zur Oberseite (30) verlaufende Seitenflächen (32) und eine der Oberseite (30) gegenüberliegende Unterseite (31). Die Kontaktelemente (40, 41) sind als Leiterbahnen ausgebildet, die ausgehend von den Kontaktflächen (20, 21) über Kanten des Grundkörpers bis auf die Seitenflächen (32) des Trägers (3) geführt sind.
Abstract:
In a method according to embodiments of the invention, for a predetermined amount of light produced by a light emitting diode and converted by a phosphor layer comprising a phosphor including a host material and a dopant, and for a predetermined maximum reduction in efficiency of the phosphor at increasing excitation density (i.e. maximum allowed droop), a maximum dopant concentration of the phosphor layer is selected.
Abstract:
실시예에 따른 발광소자는 적어도 2 이상의 발광영역으로 구분되는 전도성 반도체층; 상기 전도성 반도체층 상에 복수의 발광구조물; 상기 복수의 발광구조물 상에 전극층; 상기 전극층과 전기적으로 연결된 제 2 전극; 및 상기 전도성 반도체층과 전기적으로 연결된 제 1 전극을 포함하고, 상기 발광구조물은 라드 형상의 제 1 도전형 반도체층과, 상기 제 1 도전형 반도체층을 감싸는 활성층과, 상기 활성층을 감싸는 제 2 도전형 반도체층을 포함하고, 상기 발광구조물은 상기 전도성 반도체층 상면을 기준으로 연장방향을 달리하는 적어도 2 이상의 외면을 갖는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
실시예는 기판; 상기 기판 상에 서로 이격되어 배치되고, 제1 도전형 반도체층, 활성층 및 제2 도전형 반도체층을 포함하고, 상기 제2 도전형 반도체층의 표면으로부터 상기 활성층을 관통하여 상기 제1 도전형 반도체층의 일부까지 비아홀이 형성된 복수의 발광 셀; 상기 비아홀의 바닥면에서 상기 제1 도전형 반도체층과 전기적으로 연결되는 제1 전극층; 상기 제2 도전형 반도체층 상부에 배치되는 제2 전극층; 및 상기 제1 전극층과 제2 전극층을 전기적으로 분리하는 제1 패시베이션층을 포함하고, 상기 제1 전극층은 상기 발광 셀과 인접한 발광 셀의 제2 전극층과 전기적으로 연결되는 발광소자를 제공하며, 복수의 발광 셀의 상부면 및 서로 이격 된 발광 셀 간의 기판 상에 형성된 제1 패시베이션층과 제1 전극층으로 인하여 발광 소자의 전면에서 광추출 효율을 개선하여 발광 효율을 높일 수 있다.
Abstract:
The present invention provides a light emitting device which emit light having a high-order level without increasing a current injection density to an active layer. A light emitting device according to the present invention includes an upper electrode layer, a lower electrode layer, and an active layer provided between them. In this case, light is emitted by injection of electric current to the active layer through the upper electrode layer and the lower electrode layer, the active layer has a plurality of quantum-confined structures, and a first quantum-confined structure has a ground level having an energy level E 0 and a high-order level having an energy level E 1 , and a second quantum-confined structure has an energy level E 2 which is higher than the E 0 , and the E 1 and the E 2 are substantially matched.
Abstract:
A device emitting mid-infrared light that comprises a semiconductor substrate of GaSb or closely related material. The device can also comprise epitaxial heterostructures of InAs, GaAs, AlSb, and related alloys forming light emitting structures cascaded by tunnel junctions. Further, the device can comprise light emission from the front, epitaxial side of the substrate.