公开(公告)号：WO2009035004A1

公开(公告)日：2009-03-19

申请号：PCT/JP2008/066345

申请日：2008-09-10

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  三田 猛志 ,  前田 兼成 ,  山田 陽子 ,  池田 栄達 ,  外山 賢一 ,  菰田 充陽

Inventor： 三田 猛志 ,  前田 兼成 ,  山田 陽子 ,  池田 栄達 ,  外山 賢一 ,  菰田 充陽

IPC: C07D261/04 ,  A01N43/80 ,  A01P7/02 ,  A01P7/04 ,  A61K31/42 ,  A61K31/422 ,  A61K31/506 ,  A61P33/00 ,  A61P33/14 ,  C07D413/04 ,  C07D413/10 ,  C07D413/12

CPC classification number: C07D261/04 ,  A01N43/80 ,  C07D413/04 ,  C07D413/10 ,  C07D413/12

Abstract: 【課題】 新規な有害生物防除剤、特に殺虫剤又は殺ダニ剤を提供する。 【解決手段】 請求の範囲１に一般式（１）［式中、A1、A2 及びA3 は、各々独立してCH、N 等を表し、X1、X2 及びX3 は、各々独立して水素原子等を表し、Y1 は水素原子等を表し、R1 は、-C(O)R1a又は-C(S)R1a を表し、R1a は、-C(R9)(R9a)-S(O)r-R10、-C(R9)(R9a)-S(O)t(R10)=NR11、請求の範囲１に記載されたE-1 等を表し、R2 は水素原子等を表し、R3 はトリフルオロメチル、クロロジフルオロメチル等を表し、R4 は水素原子等を表し、R9 は水素原子等を表し、R9a は水素原子等を表し、R10 はC1～C2 アルキル等を表し、R11 は水素原子等を表し、r は０～２の整数を表し、t は０又は１の整数を表す。］で表される置換イソキサゾリン化合物又はその塩、及びそれらを含有する有害生物防除剤。

Abstract translation: 公开了一种新型害虫防治剂，特别是杀虫剂或杀螨剂。 具体公开的是由权利要求1的通式（1）表示的取代的异恶唑啉化合物（其中，A1，A2和A3独立地表示CH，N等; X1，X2和X3独立地表示氢原子等; Y1表示 氢原子等; R 1表示-C（O）R 1a或-C（S）R 1a; R 1a表示-C（R 9）（R 9a）-S（O）r -R 10，-C（R 9） -S（O）t（R 10）= NR 11，E-1等; R 2表示氢原子等; R 3表示三氟甲基，氯二氟甲基等; R 4表示氢原子等 R9代表氢原子等; R9a表示氢原子等; R10表示C1-C2烷基等; R11表示氢原子等; r表示0-2的整数，t表示0〜 表示0或1的整数）或其盐。 还具体公开了含有这种取代的异恶唑啉化合物或其盐的害虫防治剂。

公开(公告)号：WO2008143186A1

公开(公告)日：2008-11-27

申请号：PCT/JP2008/059070

申请日：2008-05-16

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  根木 隆之 ,  元山 賢一

Inventor： 根木 隆之 ,  元山 賢一

IPC: C09D183/08 ,  B32B27/00 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/111 ,  C08K5/17 ,  C09D183/08

Abstract: 　水接触角が高い基材上でも低い温度で硬化し、高光透過性）、高硬度の耐擦傷性に優れる低屈折率を有する被膜を形成できる被膜形成用塗布液、その製造方法、及び該被膜を使用する反射防止材を提供する。 　含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するポリシロキサン（Ａ）と、炭素数が２０以下の直鎖アルキルアミン化合物（Ｂ）と、全体の炭素数が２０以下でありかつその構造中に炭素数１０以下の環状基を有するアミン化合物（Ｃ）と、を含有することを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。

Abstract translation: 公开了一种用于形成涂膜的涂布溶液，即使在具有高接触角的基材上也可以在低温下固化，并且可以形成具有高透光率，高硬度，优异的耐刮擦性和低的涂层的涂膜 折射率。 还公开了一种制备涂布溶液的方法。 另外公开了利用该涂膜的防反射材料。 具体公开了用于形成低折射率涂膜的涂布溶液，其包括：具有与其结合的含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷（A） 具有20个或更少碳原子的直链烷基胺化合物（B） 和在其结构中总共具有20个或更少碳原子并具有10个或更少碳原子的环状基团的胺化合物（C）。

公开(公告)号：WO2008066007A1

公开(公告)日：2008-06-05

申请号：PCT/JP2007/072783

申请日：2007-11-26

Applicant: ユニ・チャーム株式会社 ,  辻 智子 ,  向井 敬智 ,  笹山 賢一 ,  橋本 達也 ,  若杉 慶

Inventor： 辻 智子 ,  向井 敬智 ,  笹山 賢一 ,  橋本 達也 ,  若杉 慶

IPC: A61F13/15 ,  A61F13/494

CPC classification number: A61F13/5116 ,  A61F13/4902 ,  A61F13/4906 ,  A61F13/51108 ,  A61F2013/49023 ,  A61F2013/51182

Abstract: 　本発明は装着者側を向く内面側に複数の襞を有し、装着者の肌に馴染んでフィット性に優れる複合シートを有する吸収性物品を提供する。複合シート１７は、少なくとも一方向に伸縮方向（ＷＤ）を有する伸縮性不織布１７２と、非伸縮性不織布１７１と、伸縮性不織布１７２と非伸縮性不織布１７１とが前記伸縮方向に沿って断続的に接合される接合部１７３と、接合部１７３間の非接合部であって伸縮性不織布１７２の非伸張状態における非伸縮性不織布１７１の弛みにより前記伸縮方向と交差する方向に沿うように形成される複数の襞１７４とを備え、前記非伸張状態において襞１７４を前記伸縮方向の一方に揃えて傾倒させた際に、当該襞１７４の折り返し先端部が、隣接する襞に到達しない。

Abstract translation: 一种具有复合片材的吸收性物品，其在内表面侧具有多个褶皱，所述内表面侧面向穿用者侧，从而与穿着者的皮肤一致并且具有优异的适用性。 所述复合片是由拉伸方向（WD）位于至少一个方向的伸缩性无纺布（172）构成的复合片（17） 非伸缩无纺布（171）; 拉伸无纺布（172）和非拉伸无纺布（171）沿着拉伸方向间歇地接合在一起的接合部（173） 和多个皱褶（174），其设置在通过拉伸无纺布（172）的非伸长状态下通过松弛非拉伸无纺布（171）而沿着与拉伸方向相交的方向位于接合部（173）之间的非接合部中，其中， 在非隆起状态下，褶边174共同沿与拉伸方向一致的方向弯曲，褶边174的折回远端部分不会到达与其相邻的褶边。

公开(公告)号：WO2009016735A1

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：PCT/JP2007/064990

申请日：2007-07-31

Applicant: パイオニア株式会社 ,  東北パイオニア株式会社 ,  菅原 淳 ,  奥山 賢一

Inventor： 菅原 淳 ,  奥山 賢一

IPC: G09F9/30 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22 ,  H05B33/26

CPC classification number: H01L27/3288 ,  H01L27/329 ,  H05B33/10 ,  H05B33/22 ,  H05B33/26

Abstract: 　パッシブ駆動方式を採用した有機ＥＬ表示装置において、所望の画素構造で所望の輝度を得るために必要な駆動電流を低下させることで、有機ＥＬ素子の劣化防止、長寿命化を可能にし、また、各画素の開口率を高めて表示性能を向上させる。行方向と列方向にドットマトリクス状に配列された画素電極（３）と、各列方向に配列された画素電極（３）を一又は複数置きに互いに連結するデータ線（２）と、行方向に延設され、各列中で異なるデータ線に連結された複数の画素電極毎に列方向に並べて形成された走査電極（４）とを備え、画素電極（３）は、基板上でパターン形成された透明電極からなり、データ線（２）は、画素電極（３）を相互に連結する部分のみに形成された透明電極からなり、その少なくとも上部に補助電極が積層されている。

Abstract translation: 在使用无源驱动方式的有机EL显示装置中，降低了以期望的像素结构获得期望的照明强度所需的驱动电流，以防止有机EL元件劣化并且有机EL元件具有长寿命，并且 增加每个像素的开口率以提高显示性能。 有机EL显示装置包括：排列成行方向和列方向上的点阵形状的像素电极（3），每隔一个地配置的数据线（2），或者每个其他像素电极（3）彼此连接的数据线 列方向，以及对于连接到各列中的不同数据线的多个像素电极在列方向上成行的扫描电极（4）。 像素电极（3）由在基板上形成的透明电极图案构成。 数据线（2）由仅在连接像素电极（3）的部分彼此形成的透明电极构成。 辅助电极至少在其上部层叠。

公开(公告)号：WO2008044742A1

公开(公告)日：2008-04-17

申请号：PCT/JP2007/069882

申请日：2007-10-11

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  谷 好浩 ,  元山 賢一

Inventor： 谷 好浩 ,  元山 賢一

IPC: C09D183/08 ,  C09D5/00 ,  C09D7/12 ,  C09D183/02

CPC classification number: C09D183/08 ,  C08K5/17 ,  C09D7/63

Abstract: 　水接触角が高い基材上でも低い温度で硬化し、高光透過性）、高硬度の耐擦傷性に優れる低屈折率を有する被膜を形成できる被膜形成用塗布液、その製造方法、及び該被膜を使用する反射防止材を提供する。 　含フッ素有機基が結合したケイ素原子を有するポリシロキサン（Ａ）と、炭素数が９～２０の長鎖アミン化合物（Ｂ）とを含有し、それらが有機溶媒（Ｃ）に溶解されてなることを特徴とする低屈折率被膜形成用塗布液。

Abstract translation: 公开了一种用于涂膜形成的涂布溶液，即使在具有高水接触角的基材上也可以在低温下固化，并且能够形成具有高透光性，高硬度，优异的耐刮擦性和低的涂膜 折射率。 还公开了一种生产该涂层溶液的方法。 进一步公开了通过使用涂膜制备的防反射材料。 具体公开了用于形成低折射率涂膜的涂布液，其包含（A）具有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷，（B）具有9〜20个碳原子的长链胺化合物， 和（C）溶解有聚硅氧烷（A）和长链胺化合物（B）的有机溶剂。

公开(公告)号：WO2007102513A1

公开(公告)日：2007-09-13

申请号：PCT/JP2007/054349

申请日：2007-03-06

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  中島 ゆみえ ,  元山 賢一 ,  江口 和輝

Inventor： 中島 ゆみえ ,  元山 賢一 ,  江口 和輝

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133711

Abstract: Disclosed is a silicon-containing liquid crystal aligning agent which enables to produce a liquid crystal alignment film having good liquid crystal alignment and high voltage holding ratio during device operation at a low frequency under high temperature conditions. Also disclosed is a method for producing such a silicon-containing liquid crystal aligning agent. Specifically disclosed is a liquid crystal aligning agent characterized by containing the following polysiloxane (A) and polysiloxane (B). Polysiloxane (A): a polysiloxane obtained by polycondensing an alkoxysilane containing an alkoxysilane represented by the following formula (1). R 1 Si(OR 2 ) 3 (1) (In the formula, R 1 represents an organic group having 8-30 carbon atoms, and R 2 represents a hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms.) Polysiloxane (B): a polysiloxane obtained by polycondensing an alkoxysilane containing a tetraalkoxysilane represented by the following formula (2). Si(OR 3 ) 4 (2) (In the formula, R 3 represents a hydrocarbon group having 1-5 carbon atoms.)

Abstract translation: 公开了一种含硅液晶取向剂，其能够在高温条件下的低频下在器件操作期间产生具有良好的液晶取向和高电压保持率的液晶取向膜。 还公开了制造这种含硅液晶取向剂的方法。 具体公开了一种液晶取向剂，其特征在于含有下述聚硅氧烷（A）和聚硅氧烷（B）。 聚硅氧烷（A）：通过缩聚含有由下式（1）表示的烷氧基硅烷的烷氧基硅烷获得的聚硅氧烷。 R 1（OR 2）3（1）（式中，R 1表示有机基团， 具有8-30个碳原子，R 2表示具有1-5个碳原子的烃基）聚硅氧烷（B）：通过缩聚含有由下式表示的四烷氧基硅烷的烷氧基硅烷获得的聚硅氧烷（ 2）。 Si（OR 3）4（2）（式中，R 3表示具有1-5个碳原子的烃基）

公开(公告)号：WO2007088945A1

公开(公告)日：2007-08-09

申请号：PCT/JP2007/051730

申请日：2007-02-01

Applicant: パイオニア株式会社 ,  東北パイオニア株式会社 ,  竹田 一弘 ,  奥山 賢一 ,  斎藤 豊 ,  村山 竜史 ,  永山 健一

Inventor： 竹田 一弘 ,  奥山 賢一 ,  斎藤 豊 ,  村山 竜史 ,  永山 健一

IPC: B05B15/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/0011 ,  H01L51/0005

Abstract: 　マスクを基板上に配置して、マスクの開口部を介して成膜材料をスプレーして基板上に成膜パターンを形成する際に、高精度に成膜パターンを形成すること、液状の流動性を有する成膜材料をスプレーした場合でも表面張力による成膜精度の低下を防止等する。 　一対の電極間に成膜層が狭持された自発光素子を基板上に形成する際、基板２に配置され、成膜材料６００が噴射されて、基板２上に成膜パターンを成膜する成膜用マスク１０４であって、成膜パターンに応じた開口部１０３ａを備え、少なくとも開口部１０３ａのエッジ部１０４Ａ近傍に、基板２と直接又は他の層を介して略当接する接触部４１が形成され、接触部４１よりも外側に、接触部４１から基板２と成膜用マスク１０４間への液状の成膜材料６００のしみこみを防止する断面略凹形状の溝部４２が形成されている成膜用マスク１０４を用いて、基板２上に成膜を行う。

Abstract translation: 本发明提供一种成膜掩模，通过在基板上设置掩模并通过掩模开口喷涂成膜材料，在基板上形成膜图案时，可以高精度地形成膜图案，即使在液体 并且喷射流体膜形成材料，可以防止例如表面张力降低成膜精度。 通过将掩模（104）设置在基板（2）上并喷射成膜材料（600），成膜掩模（104）用于形成自发光元件，该自发光元件包括保持在基板上的一对电极之间的膜层 ）到基板（2）上以在基板（2）上形成膜图案。 成膜掩模（104）包括对应于膜图案的开口（103a）。 至少在其边缘部分（104A）中的开口（103a）附近，提供了直接或通过其它层近似地抵靠基板（2）的接触部分（41）。 提供了一种用于防止液体成膜材料（600）从接触部分（41）穿透到衬底（2）和成膜掩模（104）之间的大致凹形形状的槽部分（42） 在接触部分（41）的外侧。 使用该成膜掩模（104）进行基板（2）上的成膜。

公开(公告)号：WO2007026965A1

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：PCT/JP2006/317797

申请日：2006-09-01

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  三田 猛志 ,  古川 裕貴 ,  外山 賢一 ,  八尾坂 学 ,  池田 栄達 ,  舛沢 禎英 ,  菰田 充陽

Inventor： 三田 猛志 ,  古川 裕貴 ,  外山 賢一 ,  八尾坂 学 ,  池田 栄達 ,  舛沢 禎英 ,  菰田 充陽

IPC: C07D261/04 ,  A01N43/80 ,  A01P7/02 ,  A01P7/04 ,  C07D413/04

CPC classification number: C07C237/32 ,  A01N43/80 ,  C07C237/36 ,  C07D213/75 ,  C07D213/81 ,  C07D237/20 ,  C07D239/42 ,  C07D241/20 ,  C07D401/12 ,  C07D413/04

Abstract: Disclosed is a novel harmful organism-controlling agent, particularly an insecticide or acaricide. An isoxazoline-substituted benzamide compound represented by the general formula (1) or a salt thereof; and a harmful organisms-controlling agent comprising the compound or salt: (1) wherein A 1 , A 2 and A 3 independently represent a carbon or nitrogen atom; G represents a benzene ring or the like; W represents an oxygen or sulfur atom; X represents a halogen atom, a C 1 -C 6 haloalkyl group or the like; Y represents a halogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group or the like; R 1 represents -CH=NOR 1a , -C(O)OR 1c , -C(O)NHR 1d or a phenyl group substituted by (Z) p1 , D-14, D-52, D-53, D-55 to -59 or the like; R 1a represents a C 1 -C 6 alkyl group or the like; R 1c represents a C 1 -C 6 alkyl group or the like; R 1d represents a hydrogen atom, -C(O)R 15 , -C(O)OR 15 or the like; R 2 represents a C 1 -C 6 alkyl group, -CH 2 R 14a , a C 1 -C 6 alkynyl group, -C(O)R 15 , -C(O)OR 15 or the like, provided that R 2 may represent a hydrogen atom when R 1 represents -CH=NOR 1a , -C(O)OR 1c or -C(O)NHR 1d ; R 3 represents a C 1 -C 6 haloalkyl group or the like; R 14a represents a cyano group, -OR 26 or the like; R 15 represents a C 1 -C 6 alkyl group, a C 1 -C 6 haloalkyl group, a C 1 -C 4 alkoxy(C 1 -C 4 )alkyl group, a C 1 -C 4 alkylthio(C 1 -C 4 )alkyl group, a C 3 -C 6 cycloalkoxy group, a C 2 -C 6 alkenyl group or the like; R 25 represents a C 1 -C 4 alkyl group, a C 1 -C 4 haloalkyl group, -C(O)R 32 , -C(O)OR 32 or the like; R 32 represents a C 1 -C 6 alkyl group, a C 3 -C 6 cycloalkyl group or the like; Z represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a C 1 -C 5 alkyl group, a C 1 -C 6 alkoxy group or the like; m is an integer of 0 to 5; n is an integer of 0 to 4; and p1 is an integer of 1 to 5.

Abstract translation: 公开了一种新颖的有害生物体控制剂，特别是杀虫剂或杀螨剂。 由通式（1）表示的异恶唑啉取代的苯甲酰胺化合物或其盐; 和包含该化合物或盐的有害生物体控制剂：（1）其中A 1，A 2和A 3独立地代表碳 或氮原子; G表示苯环等; W表示氧或硫原子; X表示卤素原子，C 1 -C 6卤代烷基等; Y表示卤素原子，C 1 -C 6烷基等; R 1表示-CH = NOR 1a，-C（O）OR 1c，-C（O）NHR 1d， 或由（Z）P 1，D-14，D-52，D-53，D-55至-59等取代的苯基; R 1a表示C 1 -C 6 -C 6烷基等; R 1c表示C 1 -C 6 -C 6烷基等; R 1d表示氢原子，-C（O）R 15，-C（O）OR 15等; R 2表示C 1 -C 6烷基，-CH 2 R 14a， -C（O）R 15，-C（O）OR 15，-C（O） 15等，条件是当R 1表示-CH = NOR 1时，R 2可以表示氢原子， - C（O）OR 1c或-C（O）NHR 1d; R 3代表C 1 -C 6 -C 6卤代烷基等; R 14a表示氰基，-OR 26等; R 15表示C 1 -C 6烷基，C 1 -C 6烷基，C 1 -C 6烷基，C 1 -C 6烷基， 卤代烷基，C 1 -C 4烷氧基（C 1 -C 4 -C 4烷基），C 1 -C 4烷基 ，C 1 -C 4烷基硫代（C 1 -C 4 - ）烷基，C

公开(公告)号：WO2006106827A1

公开(公告)日：2006-10-12

申请号：PCT/JP2006/306666

申请日：2006-03-30

Applicant: パイオニア株式会社 ,  奈良 智昭 ,  内山 賢一 ,  中川 誠 ,  伊吹 哲

Inventor： 奈良 智昭 ,  内山 賢一 ,  中川 誠 ,  伊吹 哲

IPC: H05K7/14 ,  H05K7/04

CPC classification number: H05K7/1417 ,  G06F1/181 ,  G06F1/184 ,  G06F1/187

Abstract: 　鋼板をプレス加工して形成する下ケース体２１０の側面部２１２に、側面部２１２の外面側が回路基板４００を載置する上面となる状態に側面部２１２に対して略垂直に舌片状に取付面部２１５Ａを切り起こし形成されている。下ケース体２１０の底面部２１１に、底面部２１１の下面が下ケース体２１０の端面部２１３に対向する状態で、先端縁が取付面部２１５Ａの突出方向の一側縁に略平行に接触する状態に支持面部２１５Ｂを切り起こし形成する。回路基板４００をねじ４１０にて取付面部２１５Ａのねじ孔２１６に取り付ける際の取付作業力を支持面部２１５Ｂにて受け止め、ねじ４１０とねじ孔２１６との軸方向が略一致する状態を維持し、良好に取り付けできる。

Abstract translation: 在通过按压钢板形成的下壳体（210）的侧表面（212）处，通过切割和弯曲形成舌形安装表面（215A），其中安装表面（215A）基本垂直 （212）的侧表面（212）的侧表面（212）的外表面侧是放置电路板（400）的上侧。 而且，在下壳体的底面211处，通过切割和弯曲形成支撑面215B，其中支撑面215B的上边缘基本上平行并与其接触。 （215A）的突出方向的侧边缘，底面（211）的下表面面向下壳体（210）的端面（213）。 通过螺钉（410）将电路板（400）安装到安装表面（215A）中的螺纹孔（216）上的工作力被支撑表面（215B）接收，支撑表面（215B）保持安装面 螺钉（400）和螺钉孔（216）基本对准，从而能够进行良好的安装工作。

公开(公告)号：WO2005059051A1

公开(公告)日：2005-06-30

申请号：PCT/JP2004/018922

申请日：2004-12-17

Applicant: 日産化学工業株式会社 ,  谷 好浩 ,  元山 賢一

Inventor： 谷 好浩 ,  元山 賢一

IPC: C09D183/10

CPC classification number: C08G77/50 ,  C09D5/1675 ,  C09D183/14

Abstract: 　基材上に改良された被膜を形成させる方法を提供しようとするものであり、特に、基材上に、１．２８～１．３８の屈折率と９０～１１５度の水接触角を示し、かつ当該基材の表面に密着して形成された被膜を提供する。 　Ｓｉ（ＯＲ） 4 で示される珪素化合物（Ａ）と、（Ｒ 1 Ｏ） 3 ＳｉＣＨ 2 ＣＨ 2 （ＣＦ 2 ） n ＣＨ 2 ＣＨ 2 Ｓｉ（ＯＲ 1 ） 3 で示される珪素化合物（Ｂ）と、Ｒ 2 ＣＨ 2 ＯＨで示されるアルコール（Ｃ）と、蓚酸（Ｄ）とを特定比率に含有する反応混合物を水の不存在下に５０～１８０°Cで加熱することにより、ポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液を基材表面に塗布し、その塗膜を８０～４５０°Cで熱硬化させることにより当該基材表面に密着して形成され、１．２８～１．３８の屈折率と９０～１１５度の水接触角を示す被膜、その被膜の形成方法及びその塗布液の製造方法。

Abstract translation: 公开了一种在基材上形成改性涂膜的方法。 具体公开了一种涂布膜，其以压平方式形成在基材的表面上，折射率为1.28-1.38，水接触角为90-115度。 折射率为1.28-1.38，水接触角为90-115度的涂膜形成如下：通过在50-180℃下加热反应混合物而形成聚硅氧烷溶液，而不存在水 反应混合物含有表示为Si（OR）4的硅化合物（A），以（R 1 O）3 SiCH 2 CH 2（CF 2）n CH 2 CH 2 Si（OR 1）3表示的硅化合物（B），醇（C） 以特定比例表示为R 3 CH 2 OH和草酸（D）; 然后将含有溶液的涂布液施加到基材的表面上; 并且涂膜在80-450℃下热固化，使其紧密粘附到基面上。 还公开了形成这种涂膜的方法和这种涂布液的制造方法。