公开(公告)号：WO2022102272A1

公开(公告)日：2022-05-19

申请号：PCT/JP2021/036222

申请日：2021-09-30

Applicant: メック株式会社

Inventor： 福井　優 ,  秋山　大作 ,  中根　大 ,  西江　健二

IPC: C23F1/14 ,  H01L21/308 ,  H05K3/06

Abstract: 本発明は、銅よりも貴な金属を含む貴金属層と銅層とが共存する被処理物の銅層を選択的にエッチングするエッチング剤であって、銅イオンと、環内に窒素原子を２つ以上有する複素環式化合物及び炭素数が８以下のアミノ基含有化合物からなる群より選ばれる１種以上の窒素含有化合物と、ポリアルキレングリコールと、ハロゲンイオンとを含み、ポリアルキレングリコールを０．０００５重量％以上７重量％以下含み、ハロゲンイオンを１ｐｐｍ以上２５０ｐｐｍ以下含むエッチング剤等である。

公开(公告)号：WO2017086758A1

公开(公告)日：2017-05-26

申请号：PCT/KR2016/013412

申请日：2016-11-21

Applicant: 오씨아이 주식회사

Inventor： 김윤철 ,  박종희 ,  권윤경 ,  장욱

IPC: C23F1/10 ,  C23F1/14 ,  C23F1/16 ,  C23F1/18

CPC classification number: C23F1/10 ,  C23F1/14 ,  C23F1/16 ,  C23F1/18

Abstract: 본 발명은 구리 식각용 조성물 및 과산화수소계 금속 식각용 조성물에 관한 것이며, 보다 구체적으로 구리와 유기물 사이에 형성된 킬레이트 결합의 안정성을 높여 식각용 조성물로부터 구리 침전물의 발생을 억제할 수 있는 구리 식각용 조성물 및 과산화수소계 금속 식각용 조성물 내 과산화수소의 분해 및 다른 성분들의 변성을 방지할 수 있는 과산화수소계 금속 식각용 조성물에 관한 것이다.

Abstract translation: 本发明涉及用于铜蚀刻的组合物和用于蚀刻过氧化氢基金属的组合物，并且更具体地涉及用于提高在铜和有机材料之间形成的螯合键的稳定性的方法， 本发明涉及能够抑制过氧化氢蚀刻用组合物中的过氧化氢等的分解的铜蚀刻用组合物。

公开(公告)号：WO2013041971A2

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：PCT/IB2012/002404

申请日：2012-09-19

Applicant: CIMA NANOTECH ISRAEL LTD.

Inventor： GARBAR, Arkady ,  GRANSTROM, Eric, L. ,  MASRUD, Joseph

IPC: C23F1/14

CPC classification number: C09D5/24 ,  B05D3/007 ,  C23F1/02 ,  G03F7/165 ,  Y10T428/24802 ,  Y10T428/24917

Abstract: A method of producing an article is described. The method includes (a) providing a substrate comprising an etchable surface layer; (b) coating the etchable surface layer with a composition comprising a non- volatile, etch-resistant component in a volatile liquid carrier; and (c) drying the composition to remove the liquid carrier, whereupon the non- volatile, etch-resistant component self-assembles to form etch-resistant traces on the etchable surface layer. The liquid carrier is in the form of an emulsion comprising a continuous phase and a second phase in the form of domains dispersed in the continuous phase.

Abstract translation: 描述制造制品的方法。 该方法包括（a）提供包括可蚀刻表面层的基底; （b）用挥发性液体载体中包含非挥发性耐蚀刻成分的组合物涂覆可蚀刻表面层; 和（c）干燥组合物以除去液体载体，于是非挥发性，耐蚀刻的部件自组装成在可蚀刻表面层上形成耐蚀刻迹线。 液体载体是乳液的形式，其包含分散在连续相中的结构域的连续相和第二相。

公开(公告)号：WO99030355A1

公开(公告)日：1999-06-17

申请号：PCT/US1998/026118

申请日：1998-12-09

IPC: A61L9/00 ,  B08B7/00 ,  C23F1/00 ,  C23F1/14 ,  C23G1/00 ,  C23G1/02 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/311 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/02019 ,  H01L21/30608 ,  H01L21/31111

Abstract: The present invention is directed to wet processing methods for the manufacture of electronic component precursors, such as semiconductor wafers used in integrated circuits.

Abstract translation: 本发明涉及用于制造电子元件前体（例如集成电路中使用的半导体晶片）的湿法加工方法。

公开(公告)号：WO2023034131A1

公开(公告)日：2023-03-09

申请号：PCT/US2022/041628

申请日：2022-08-26

Applicant: FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS U.S.A., INC.

Inventor： MCDONOUGH, James ,  HU, Bin ,  CHENG, Qingmin

IPC: C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/14 ,  C23F1/14 ,  C23F3/00 ,  C09K13/00

Abstract: The present disclosure provides a polishing composition that includes at least one first amine, at least one second amine, and other components such as azoles. The first amine has a low molecular weight, for example 120 g/mol or less. The second amine has a high molecular weight, for example 125 g/mol or higher. The compositions can polish substrates that include copper and molybdenum, or alloys of each, at a high selectivity of copper to molybdenum.

公开(公告)号：WO2022158481A1

公开(公告)日：2022-07-28

申请号：PCT/JP2022/001757

申请日：2022-01-19

Applicant: 関東化学株式会社

Inventor： 柏木一樹 ,  吉田勇喜 ,  井上浩一 ,  川島伊織

IPC: C23F1/14 ,  H01L21/308

Abstract: 【課題】 金膜をヨウ素およびヨウ化物を含有するエッチング液を用いてエッチングする場合、当該エッチング液の濡れ性、微細加工性、液寿命などを向上させるためにＮ－メチル－２－ピロリジノン（ＮＭＰ）を添加することが知られているが、近年人間の健康へ悪影響を及ぼすとの観点から、ＮＭＰを使用が規制されるという課題を有していた。本発明では、ＮＭＰを含有することなく、濡れ性、微細加工性、液寿命などを向上させる金膜のエッチング液およびエッチング方法を提供する。 【解決手段】 金膜をヨウ素およびヨウ化物を含有するエッチング液に特定の有機溶剤を含有することが特徴であり、ＮＭＰを含有することなく、濡れ性、微細加工性、液寿命などを向上させる金膜のエッチング液およびエッチング方法を提供する。

公开(公告)号：WO2017116773A1

公开(公告)日：2017-07-06

申请号：PCT/US2016/067313

申请日：2016-12-16

Applicant: TESSENDERLO KERLEY, INC.

Inventor： HOJJATIE, Michael Massoud ,  LOCKHART, Constance Lynn Frank ,  DIMITRIADIS, Alexandros ,  CLARKSON, Mark P. ,  KOMINSKI, Harry Charles ,  VAN CAUWENBERGH, Jeroen ,  SHULT, Nicholas S. ,  GOLDSMITH, Adam T.

IPC: C23F1/14 ,  C01B15/08 ,  H05K3/38 ,  C09G1/00

CPC classification number: C01B17/64 ,  B01D53/1481 ,  B01D53/502 ,  B01D2251/306 ,  B01D2251/60 ,  B01D2252/10 ,  B01D2257/2045 ,  B01D2257/302 ,  B01D2257/80 ,  B01D2258/02 ,  B01D2258/0283 ,  C01B17/62 ,  Y02A50/2349

Abstract: The invention relates to a process for preparing potassium thiosulfate, potassium sulfite or potassium bisulfite comprising the following steps: Step (1a): providing a potassium hydroxide or potassium carbonate solution for neutralizing acid forming components such as dissolving SO 2 or H 2 S; Step (1b): providing an SO 2 contacting solution, containing at least some potassium sulfite or potassium bisulfite or potassium thiosulfate; Step (2): providing SO 2 gas; Step (3): reacting these to absorb the SO 2 gas and to form an intermediate reaction mixture comprising potassium sulfite, or potassium bisulfite or a mixture thereof, and optionally recovering the potassium sulfite, or potassium bisulfite or a mixture thereof, and/or optionally using steps 4 and 5; Step (4): adding sulfur or sulfide containing compound containing sulfur having the oxidation state of 0, -2 or of between 0 and -2 to the reaction mixture and optionally potassium hydroxide or potassium carbonate, and reacting the mixture under suitable conditions to form potassium thiosulfate; and Step (5): recovering the potassium thiosulfate, and optionally concentrating the potassium thiosulfate.

Abstract translation: 本发明涉及制备硫代硫酸钾，亚硫酸钾或亚硫酸氢钾的方法，其包括以下步骤：步骤（1a）：提供氢氧化钾或碳酸钾溶液用于中和酸形成组分，例如溶解 SO 2或H 2 S; 步骤（1b）：提供SO 2接触溶液，其包含至少一些亚硫酸钾或亚硫酸氢钾或硫代硫酸钾; 步骤（2）：提供SO 2气体; 步骤（3）：使它们反应以吸收SO 2气体并形成包含亚硫酸钾或亚硫酸氢钾或其混合物的中间反应混合物，并且任选地回收亚硫酸钾或亚硫酸氢钾或 其混合物，和/或任选地使用步骤4和5; 步骤（4）：向反应混合物和任选的氢氧化钾或碳酸钾中加入硫或含硫的氧化态为0，-2或0和-2之间的硫的含化合物，并使混合物在合适的条件下反应以形成 硫代硫酸钾; 和步骤（5）：回收硫代硫酸钾，并任选地浓缩硫代硫酸钾。

公开(公告)号：WO2013161959A1

公开(公告)日：2013-10-31

申请号：PCT/JP2013/062261

申请日：2013-04-25

Applicant: 独立行政法人科学技術振興機構

Inventor： 山本　貴富喜 ,  羽月　竜治

IPC: C23F1/14 ,  C23F1/02 ,  C23F3/04 ,  H01L21/308

CPC classification number: C23F1/02 ,  C09K13/00 ,  C23F1/16 ,  C23F3/03 ,  C23F3/06 ,  H01L21/32134

Abstract: 　環境に影響を与える試薬等を使用することなく、金属又は金属酸化物をエッチングする方法、金属又は金属酸化物表面を原子レベルで平滑化する方法、原子レベルでパターニングする方法を提供する。　オゾンのみを水に溶解したオゾン水を用いて、金属又は金属酸化物をエッチング又は金属又は金属酸化物表面を平滑化することができる。また、オゾンのみを水に溶解したオゾン水でエッチングできる金属又は金属酸化物上に、前記オゾン水に溶解しない金属をレジストとして設け、前記オゾン水でエッチングすることで、パターニングすることができる。

Abstract translation: 提供了一种不使用试剂等来蚀刻金属或金属氧化物的方法，其影响环境，在原子水平上平滑金属或金属氧化物的表面的方法以及原子级上的图案化方法 。 金属或金属氧化物的蚀刻或金属或金属氧化物的表面的平滑化是可能的，其中只使用臭氧溶解的臭氧水。 图案化也可以通过提供不溶于臭氧水中的金属作为抗蚀剂来进行，所述金属或金属氧化物可以被仅臭氧溶解的臭氧水进行蚀刻，并使用臭氧水进行蚀刻。

公开(公告)号：WO2010040917A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：PCT/FR2009/001194

申请日：2009-10-08

Applicant: IFP ,  SOLVIONIC ,  MALBOSC, François ,  BEVON, Marjorie ,  FANTINI, Sébastien ,  OLIVIER-BOURBIGOU, Hélène

Inventor： MALBOSC, François ,  BEVON, Marjorie ,  FANTINI, Sébastien ,  OLIVIER-BOURBIGOU, Hélène

IPC: C11D7/60 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  B08B3/04 ,  C23F1/14 ,  C23G1/00

CPC classification number: C11D11/0023 ,  B08B3/10 ,  B08B3/12 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3281 ,  C11D11/0029 ,  C11D11/0047 ,  C23G1/088 ,  C23G1/10 ,  C23G1/125 ,  C23G1/26 ,  G03F7/422

Abstract: L'invention concerne un procédé de nettoyage utilisant une solution à base de liquide ionique particulier de type protique (PILs: Protic ionic liquids), la solution étant employée comme fluide de nettoyage et/ou de décapage de surfaces telles que les métaux, les céramiques, les verres, les semi-conducteurs et les matières plastiques, les surfaces ayant été oxydées et/ou souillées par des huiles, des graisses ou des salissures, et/ou ayant été recouvertes d'un revêtement de protection. Le liquide ionique résulte du mélange d'une diamine de type imidazole et d'au moins un acide contenant au moins une fonction carboxylique.

Abstract translation: 本发明涉及一种使用包含离子液体，特别是质子型（PILs：质子离子液体）的溶液的溶液的清洗方法，该溶液用作用于清洁和/或剥离表面的流体，例如金属，陶瓷，玻璃 半导体和塑料材料，其中所述表面已经被油，油脂或土壤氧化和/或污染和/或用保护涂层覆盖。 离子液体通过将咪唑二胺与至少一种含有至少一个羧酸官能团的酸混合而获得。

公开(公告)号：WO2023013697A1

公开(公告)日：2023-02-09

申请号：PCT/JP2022/029849

申请日：2022-08-03

Applicant: 東ソー株式会社

Inventor： 川島　弘之 ,  松本　直樹 ,  野村　真太朗 ,  服部　一希 ,  小池　健仁 ,  太田　恵理子

IPC: H05B33/10 ,  C07C25/18 ,  C07C25/22 ,  C07C211/54 ,  C07C211/56 ,  C07C211/61 ,  C07C215/50 ,  C23F1/14 ,  H01L51/50 ,  H05B33/26

Abstract: 膜表面への金属薄膜の形成を高度に抑制できる金属パターニング用材料、フルオロ化合物、これらを用いた金属パターニング用薄膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、金属パターンの形成方法および電子機器を提供する。　分子量が５００以上５０００以下である化合物を含む、金属パターニング用材料であって、　前記化合物が、　分子中の炭素原子数に対するフッ素原子数の割合が２０％以上であり、　分子内に、単環、連結、もしくは縮環である、芳香族炭化水素基および／またはヘテロ芳香族基および／または環状アルキル基と、　少なくとも１つ以上のフルオロアルキル構造、もしくは１つのみのフルオロアルキレン構造と を有し、　前記フルオロアルキル構造、およびフルオロアルキレン構造を形成している炭素原子のうち、フッ素原子と直接結合している炭素原子数の割合が３０％以上である、金属パターニング用材料を用いる。