一种激光辅助电沉积制备梯度镀层的方法及装置

    公开(公告)号:WO2023020300A1

    公开(公告)日:2023-02-23

    申请号:PCT/CN2022/110471

    申请日:2022-08-05

    Applicant: 江苏大学

    Abstract: 本发明公开了一种激光辅助电沉积制备梯度镀层的方法及装置,在工件基板上利用脉冲激光和电化学反应电沉积出沉积层的同时利用脉冲激光的热量对工件基板表面的沉积层进行重熔,获得均匀分布的重熔层,随后利用残余热量诱导电镀,在重熔层表面获得镀层。本发明方法可以同步制备出基材-重熔层-镀层的三层梯度结构,消除了镀层材料与基体材料的界面,有利于镀层与基体的结合,改善了镀层剥落现象,同时还能保证工件基板的表面性能。另外,本发明装置可以实现激光束和工件基板之间的相对运动,从而可利用多个脉冲激光的热量累积效应在工件表面引发瞬时重熔。

    一种电镀装置及电镀方法
    2.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2022156420A1

    公开(公告)日:2022-07-28

    申请号:PCT/CN2021/137064

    申请日:2021-12-10

    Inventor: 郎马库斯

    Abstract: 一种电镀装置及电镀方法,该电镀装置包括用于对生产板进行电镀的电镀单元,所述电镀单元包括用于朝向所述生产板喷镀电解液的电解液通道和设置于所述电解液通道外表面的电镀组件,所述电镀组件包括设置于所述电解液通道外表面的阳极和设置于阳极内且用于以喷镀反方向吸收电解液的吸入通道。结合使用电解液通道和电镀组件,可以使电解液均匀电镀在生产板上。

    镀膜导电装置、镀膜系统及导电膜的镀膜方法

    公开(公告)号:WO2021164474A1

    公开(公告)日:2021-08-26

    申请号:PCT/CN2021/071608

    申请日:2021-01-13

    Abstract: 提供一种镀膜导电装置、镀膜系统及导电膜(50)的镀膜方法,属于导电性薄膜的制备技术领域。镀膜导电装置用于使导电膜(50)与电源电连接。第一导电结构(20)包括第一导电辊(21)和第一压辊(22)。第二导电结构(30)包括第二导电辊(31)和第二压辊(32)。其中,第一导电结构(20)和第二导电结构(30)被配置成能够使导电膜(50)依次穿过第一导电辊(21)和第一压辊(22)之间以及第二导电辊(31)和第二压辊(32)之间,第一压辊(22)和第二压辊(32)分别用于与导电膜(50)的相对的两个表面接触并施加压力,第一压辊(22)和第二导电辊(31)被配置成等电位,第二压辊(32)和第一导电辊(21)被配置成等电位。可以减小导电膜(50)的第一表面(51)和第二表面(52)的电势差,从而避免导电膜(50)在镀膜过程中被击穿。

    SISTEMA PARA REVESTIR TIRAS DE METAL CON MÚLTIPLES CAPAS, POR MEDIO DE ELECTROCHAPADO
    5.
    发明申请
    SISTEMA PARA REVESTIR TIRAS DE METAL CON MÚLTIPLES CAPAS, POR MEDIO DE ELECTROCHAPADO 审中-公开
    通过电解法涂覆多层金属条的系统

    公开(公告)号:WO2017086766A1

    公开(公告)日:2017-05-26

    申请号:PCT/MX2015/000150

    申请日:2015-11-20

    CPC classification number: C25D5/08 C25D5/10 C25D7/06 C25D17/08 C25D17/10

    Abstract: La presente invención se relaciona con un sistema para revestir tiras de metal con múltiples capas de diversos materiales, por medio de electrochapado; que permita que entre cada etapa del proceso por el cual es sometida la tira de metal, se pude evitar al 100% los residuos del material por el cual es tratada dicha tira, como puede ser, agua, soluciones acuosas del proceso, desengrasantes, soluciones de activado y los contaminantes del medio ambiente, por lo cual se puede garantizar que el producto final tenga un recubrimiento uniforme y continuo, de tal manera que cumpla con los estándares de calidad requeridos para poder certificar el producto con certificaciones internacionales como lo es la certificación "UL" ünderwrites Laboratories, que es necesario para poder comercializar el producto en mercados de Estados Unidos de América y Canadá, entre otras certificaciones y normas.

    Abstract translation: 本发明涉及一种通过电镀方法用多层不同材料涂覆金属带的系统; 这允许在金属带所经受的过程的每个阶段之间,可以避免所述带处理过的100%的废物材料,例如水,过程的水溶液,脱脂剂,溶液 的活性污染物和环境污染物,因此可以保证最终产品具有均匀和连续的涂层,以符合所要求的质量标准,以便能够用国际认证对产品进行认证,因为它是 认证“UL” &nderwrites实验室,这是必要的能够在美国和加拿大市场销售产品,以及其他认证和标准。

    FILM FORMATION SYSTEM AND FILM FORMATION METHOD FOR FORMING METAL FILM

    公开(公告)号:WO2015025211A3

    公开(公告)日:2015-02-26

    申请号:PCT/IB2014/001567

    申请日:2014-08-20

    Abstract: A solid electrolyte membrane (13) is arranged on a surface of an anode (11) between the anode (11) and a substrate (B) that serves as a cathode. The solid electrolyte membrane (13) is brought into contact with the substrate (B). At the same time, a metal film (F) is formed on the surface of the substrate (B) by causing metal to precipitate onto the surface of the substrate (B) from metal ions through application of voltage between the anode (11) and the substrate (B) in a first contact state where the solid electrolyte membrane (13) contacts the substrate (B). The metal ions are contained inside the solid electrolyte membrane (13).

    めっき方法および電解めっき装置
    8.
    发明申请
    めっき方法および電解めっき装置 审中-公开
    电镀方法和电镀技术

    公开(公告)号:WO2011093023A1

    公开(公告)日:2011-08-04

    申请号:PCT/JP2011/000191

    申请日:2011-01-17

    Abstract:  電解めっき装置(2)は、導電層(12)に接続される陰極(20)と、基材(1)の他面と対向するように基材(1)の下方に配置される陽極(21)と、基材(1)の他面と、陽極(21)との間に電解めっき液(L)を流す電解めっき液供給部(23)とを備える。電解めっき装置(2)は、電解めっき液供給部(23)により、絶縁層(11)の他面と陽極(21)との間に電解めっき液(L)を流すとともに、絶縁層(11)の他面と、陽極(21)との間の電解めっき液(L)を絶縁層(11)の他面よりも下方に排出するように構成される。これにより、安定的にめっきを行うことができるめっき方法、電解めっき装置を提供する。

    Abstract translation: 电解电镀装置(2)具有:与导电层(12)连接的阴极(20); 阳极(21),其布置在基板(1)的下方以面对所述基板(1)的另一个表面; 以及使电解液(L)在基板(1)的另一表面与阳极(21)之间流动的电解液供给单元(23)。 电解电镀装置(2)被构造成使得电解电镀液(L)通过电解电镀液供给单元(23)在绝缘层(11)的另一表面和阳极(21)之间流动 ),并且还将绝缘层(11)的另一表面和阳极(21)之间的电解电镀液(L)排出到绝缘层(11)的另一个表面下方。 结果,提供了能够稳定电镀的电镀方法和电解电镀装置。

    SET FOR CREATING A PROCESS REACTOR FOR FORMING METALLIC LAYERS ON AT LEAST ONE SUBSTRATE
    9.
    发明申请
    SET FOR CREATING A PROCESS REACTOR FOR FORMING METALLIC LAYERS ON AT LEAST ONE SUBSTRATE 审中-公开
    生产用于在一个或多个衬底上形成金属层的工艺反应器的工具包

    公开(公告)号:WO2008080515A3

    公开(公告)日:2008-09-12

    申请号:PCT/EP2007010739

    申请日:2007-12-10

    Abstract: The invention relates to a set for creating a process reactor for forming metallic layers on at least one substrate, the layers being formed by the precipitation of metal ions contained in a fluid onto the substrates. Said set essentially comprises the following structural elements: a reactor housing (3) comprising two ends (4, 5), a fluid flowing through the reactor housing from one end to the other; a device (6) which is arranged in the region of the efflux (4) from the reactor housing (3) and is used to receive the substrate; at least one overflow (8) which is arranged in the region of the efflux (4) from the reactor housing (3) and via which the fluid (F) flowing in the direction of the substrate (2) can flow out of the reactor housing (3); a collecting tank (10) for receiving the fluid (F) flowing out via the overflow (8); means for redirecting the collected fluid into the reactor housing (3); and at least one anode. In order to obtain a largely homogeneous coating, the process reactor also optionally comprises at least one of the following structural elements: at least one flow adjusting device (S) for the targeted control of the fluid (F) inside the reactor housing (3); at least one field adjusting device (E) for the targeted control of the electrical field created inside the reactor housing (3); at least one auxiliary electrode (H) that can receive either a positive or negative potential and is arranged between the substrate (2) to be coated and the opposite end (5) of the reactor housing (3); at least one diaphragm (B) for orienting the electrical field created inside the reactor hosuing (3); at least one diaphragm (B) for orienting the flow of the fluid (F) inside the reactor housing (3); and at least one ring element (R) for reducing the inner diameter (3i) of the reactor housing (3).

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制备过程的反应器的用于形成在一个或多个基板的金属层,其中在基片上形成通过沉积位于流体的金属离子的层,所述试剂盒包含下列主要部件的试剂盒: - 反应器壳体(3 )具有两个端部(4,5),其中反应器壳体的内部可以通过流体从一端流到另一端; 设置在流出物(4)的距反应器壳体(3)的区域中的装置(6),用于接收衬底; 至少一个溢流(8)在流出的区域(4)可以从反应器壳体排出(3),通过该空气朝向流体从反应器壳体(3)的基板(2)(F)中流动; - 收集容器(10),用于接收离开流体(F)的溢流(8); 用于将收集的流体返回到反应器壳体(3)的装置; 和至少一个阳极,其特征在于,所述工艺反应器,以得到基本上均匀的,均质的涂层进一步任选的一种或多种以下组分,其包括: - 至少一个流调节装置(S),用于选择性地控制所述反应器壳体(3)内的流体(F); 至少一个现场设定装置(E),用于有针对性地控制反应器壳体(3)内建立的电场; - 至少一个辅助电极(H),其可以任选地呈现正电势或负电势并且布置在待涂覆的基板(2)和反应器壳体(3)的相对端部(5)之间; - 至少一个孔(B),用于对准反应器壳体(3)内构建的电场; - 至少一个孔口(B),用于对准反应器壳体(3)内的流体(F)的流动; 和用于减小反应器壳体(3)的内径(3i)的至少一个环形元件(R)。

    DEVICE FOR ELECTROCHEMICALLY DEPOSITING A MATERIAL ON A PLATESHAPED SUBSTRATE

    公开(公告)号:WO2008035961A3

    公开(公告)日:2008-03-27

    申请号:PCT/NL2007/000229

    申请日:2007-09-17

    Abstract: The invention provides a device for electrochemically depositing a material on at least one side of a plate-shaped substrate having a circumferential edge, said device comprising an electrolytic bath with an electrolytic solution therein, which electrolytic bath has at least one inlet opening and at least one outlet opening for feeding and discharging the electrolytic solution to and from the electrolytic bath, respectively, a substrate holder for positioning the substrate in the electrolytic bath such that the substrate is connected as a cathode, an anode arranged in the electrolytic solution opposite the substrate, and a screening member between the anode and the substrate for screening the substrate locally at the circumferential edge of the substrate. The screening member is tubular is shape, while at least one flow passage is provided in the wall of the tubular screening member, which passage can serve as the inlet opening or as the outlet opening for the electrolytic solution.

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