Abstract:
Electrodeposition of a cobalt or copper alloy, and use in microelectronics The present invention relates to a process for fabricating cobalt or copper interconnects, and to an electrolyte enabling implementation of said process. The electrolyte, with a p H of less than 4.0, comprises cobalt or copper ions, chloride ions, manganese or zinc ions, and at most two organic additives of low molecular mass. One of these additives may be an alpha-hydroxy carboxylic acid.
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren mit dem Oberflächen von Metalloxiden, die chemisch reduzierbar sind, reduziert werden, so dass ein anschließend aufgebrachter metallischer Film eine erhöhte Haftung aufweist. Das erfindungsgemäße Verfahren umfasst dabei mindestens einen ersten Schritt (Schritt a.) des Eintauchens einer Probe, die eine Oberfläche eines Metalloxids aufweist, in eine Elektrolytlösung, die ein Elektronentransfermittel und wahlweise ein Benetzungsmittel umfasst. Daraufhin, Schritt b., wird ein Reduktionsmittel zugegeben und die Oberfläche des Metalloxids wird reduziert. Die Reduktion wird durch Entfernen der Probe aus der Lösung und Eliminieren von Resten der Lösung an der Oberfläche abgebrochen, Schritt c. Außerdem betrifft die vorliegende Erfindung ein Metalloxid, dessen Oberfläche mit dem erfindungsgemäßen Verfahren behandelt wurde und dass eine reduzierte Oberfläche, die mindestens intermetallische Phasen aufweist, aufweist und wobei die Haftung einer metallischen Schicht, die auf die reduzierte Oberfläche aufgebracht wird, derart verbessert ist, dass diese metallische Schicht durch das Abreißen von, auf ihr aufgebrachten Klebebandfilmen -"Scotch Tape Methode"- nicht entfernt bzw. mit einem Reinigungstuch nicht von der Oberfläche abgewischt werden kann.
Abstract:
Magnets including a coating and related methods are described herein. The coating may include an aluminum layer. The aluminum layer may be formed in an electroplating process.
Abstract:
본 발명은 침술용 다공성 침 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로 설명하면, 침술용 침의 표면에 마이크로 크기 내지 나노 크기의 홀을 형성시킨 비표면적을 극대화시킨 침술용 다공성 침을 제조한 후, 상기 침술용 다공성 침의 홀 내 및/또는 홀 주변 등의 침 표면에 귀금속 나노입자를 형성시켜서 다공성 침과 일체화된 귀금속 나노입자가 도금된 침술용 다공성 침 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.
Abstract:
La presente invención se relaciona con un método para revestir tiras de metal con múltiples capas de diversos materiales por medio de un sistema de electrochapado; que permita que entre cada etapa del proceso por el cual es sometida la tira de metal se pude evitar al 100% los residuos del material por el cual es tratada dicha tira, como puede ser, agua, soluciones acuosas del proceso, desengrasantes, soluciones de activado y los contaminantes del medio ambiente, por lo cual se puede garantizar que el producto final tenga un recubrimiento uniforme y continuo,de tal manera que cumpla con los estándares de calidad requeridos para poder certificar el producto con certificaciones internacionales como lo es la certificación "UL" Underwrites Laboratories, que es necesario para poder comercializar el producto en mercados de Estados Unidos de América y Canadá, entre otras certificaciones y normas.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer künstlichen Antik-Ruthenium-Schicht auf einer beschichteten Schmucksteinfassung. Die Antik-Ruthenium-Schicht zeichnet sich durch ein dem natürlichen Alterungsverlauf entsprechendes Erscheinungsbild aus. Die Erfindung betrifft auch Produkte, die mit diesem Verfahren hergestellt wurden.
Abstract:
Disclosed is a method for activating a surface of metals, such as self- passivated metals, and of metal-oxide dissolution, effected using a fluoroanion- containing composition. Also disclosed is an electrochemical cell utilizing an aluminum-containing anode material and a fluoroanion-containing electrolyte, characterized by high efficiency, low corrosion, and optionally mechanical or electrochemical rechargeability. Also disclosed is a process for fusing (welding, soldering etc.) a self-passivated metal at relatively low temperature and ambient atmosphere, and a method for electrodepositing a metal on a self-passivated metal using metal-oxide source.