公开(公告)号：WO2021227126A1

公开(公告)日：2021-11-18

申请号：PCT/CN2020/092282

申请日：2020-05-26

Applicant: 宁波恒普真空技术有限公司

Inventor： 刘鹏 ,  徐文立 ,  胡芳 ,  李婷

IPC: F27B5/05 ,  F27B5/14 ,  H05B3/54 ,  F27B5/04 ,  F27B5/06 ,  F27B5/18 ,  F27D11/10

Abstract: 本发明涉及一种加热体及多区域控温的真空炉。该加热体中第一加热单元中多个第一加热片的第一端并联连接至第一连接片，第二端并联连接至第一角连接片；第二加热单元中多个第二加热片的第一端并联连接至第一角连接片，第二端并联连接至第二角连接片；第三加热单元中多个第三加热片的第一端并联连接至第二角连接片，第二端并联连接至第二连接片；第一电极棒固定于第一连接片上，第一电极棒用于与单相变压器的第一接线端连接；第二电极棒固定于第二连接片上，第二电极棒用于与单相变压器的第二接线端连接；加热体的径向截面为U型，第一连接片与第二连接片不共面。本发明可以降低真空炉的温度调节难度，提高真空炉的温度均匀性。

公开(公告)号：WO01013054A1

公开(公告)日：2001-02-22

申请号：PCT/US2000/022202

申请日：2000-08-11

IPC: F27D3/12 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C30B25/10 ,  C30B25/14 ,  F27B5/06 ,  F27B5/14 ,  F27B5/16 ,  F27D1/18 ,  F27D3/00 ,  F27D7/02 ,  F27D9/00 ,  H01L21/00 ,  H01L21/205 ,  H01L21/324

CPC classification number: C23C16/463 ,  C23C16/455 ,  C23C16/4584 ,  C30B25/10 ,  C30B25/14 ,  F27B5/14 ,  F27B2005/161 ,  F27D1/1858 ,  F27D2003/0075 ,  H01L21/67109

Abstract: An apparatus (10) for heat treatment of a wafer (28) is disclosed. The apparatus includes a heating chamber (18) having a heat source (20). A cooling chamber (32) is positioned adjacent to the heating chamber and includes a cooling source (40). A wafer holder (38) is configured to move between the cooling chamber and the heating chamber through a passageway (54) and one or more shutters (52) defines the size of the passageway. The one or more shutters are movable between an open position where the wafer holder can pass through the passageway and an obstructing position which defines a passageway which is smaller than the passageway defined when the shutter is in the open position.

Abstract translation: 公开了一种用于晶片（28）的热处理的设备（10）。 该装置包括具有热源（20）的加热室（18）。 冷却室（32）位于加热室附近并且包括冷却源（40）。 晶片保持器（38）构造成通过通道（54）在冷却室和加热室之间移动，并且一个或多个快门（52）限定通道的尺寸。 一个或多个百叶窗可以在晶片保持器可以穿过通道的打开位置和限定通道的阻塞位置之间移动，该通道小于当快门处于打开位置时限定的通道。

公开(公告)号：WO2021127714A1

公开(公告)日：2021-07-01

申请号：PCT/AT2020/000004

申请日：2020-02-21

Applicant: AMANN GIRRBACH AG

Inventor： REICHERT, Axel

IPC: F27B17/02 ,  F27D99/00 ,  A47H1/104 ,  A61C13/00 ,  E06B9/323 ,  F27B17/025 ,  F27B5/06 ,  F27D11/00 ,  F27D99/0006

Abstract: Sinterofen (1) zum Sintern von dentalen Werkstücken (2), wobei der Sinterofen (1) ein Heizelement (3) mit einem Aufnahmeraum (4) zur Aufnahme des Werkstücks (2) während des Sinterns aufweist und der Aufnahmeraum (4) ein Teilbereich eines Innenraums (5) im Inneren des Heizelements (3) ist und das Heizelement (3) Siliziumkarbid aufweist oder daraus besteht, wobei das Heizelement (3) zumindest bereichsweise als geschlitztes Rohr ausgebildet ist und der Schlitz (6) in das Heizelement (3) bildenden Rohr in einem Heizbereich (7), in dem das Heizelement (3) den Aufnahmeraum (4) umgibt, spiralförmig ausgebildet ist.

公开(公告)号：WO2011161913A1

公开(公告)日：2011-12-29

申请号：PCT/JP2011/003451

申请日：2011-06-16

Applicant: シャープ株式会社 ,  光洋サーモシステム株式会社 ,  西田 光志 ,  山本 恵司 ,  中谷 淳司 ,  巽 智彦

Inventor： 西田　光志 ,  山本　恵司 ,  中谷　淳司 ,  巽　智彦

IPC: F27D5/00 ,  F27B5/04 ,  F27B5/06 ,  F27D11/02 ,  G02F1/1333

CPC classification number: F27B17/0016 ,  F27B5/06 ,  F27B5/14 ,  F27D5/00 ,  F27D11/12

Abstract: 　熱処理装置は、処理室と、処理室の内部に設けられて赤外線を放射する加熱源と、処理室の内部に設けられ、被処理物を加熱源に対向するように支持する支持部材とを備え、加熱源から放射された赤外線による輻射熱により、被処理物を熱処理する。そして、複数の支持部材は、互いに並行して延びるように形成され、互いに隣り合う支持部材同士の軸心間距離は、２２５ｍｍ以上且つ３３０ｍｍ以下に規定されている。

Abstract translation: 公开了一种设置有处理室的热处理装置，设置在处理室内以发射红外线的加热源，以及设置在处理室内的支撑构件，以支撑待处理物体，使得物体与加热相反 资源。 该物体通过从加热源发射的红外线的辐射热进行热处理。 此外，支撑构件形成为彼此平行地延伸，并且相邻支撑构件的轴线之间的距离被限定为225-330mm。

公开(公告)号：WO01038455A1

公开(公告)日：2001-05-31

申请号：PCT/AU2000/001427

申请日：2000-11-23

IPC: C10B1/04 ,  C10B27/02 ,  C10B47/20 ,  C10B53/08 ,  C21B13/04 ,  F27D17/00 ,  C10B47/18 ,  C21B11/00 ,  F27B5/06

CPC classification number: F27D17/004 ,  C10B1/04 ,  C10B27/02 ,  C10B47/20 ,  C10B53/08 ,  C21B13/04

Abstract: A retort (10) including a thermally insulated casing (12) defining a furnace chamber (14) therein; one or more columns (15) provided within said chamber (14), each column (15) comprising a plurality of vertically orientated, vertically spaced, heat resistant tubes (16, 18, 20, 22), wherein the cross-sectional area of each tube is smaller than that of an adjacent, lower tube, and wherein the ends of adjacent tubes are arranged so as to provide an annular space (24, 26, 28) therebetween, an inlet (17) through which a combustible charge is fed into the uppermost tube (16), an outlet (30) from which reacted charge is removed from the lowermost tube (22); and a fluid conduit (36) for conveying combustible volatiles evolved by heating said charge to a gas burning means (31, 32) for combustion, to thereby provide heat to said retort (10).

Abstract translation: 一种包括在其中限定炉室（14）的绝热壳体（12）的蒸馏器（10） 设置在所述腔室（14）内的一个或多个柱（15），每个柱体（15）包括多个垂直取向的，垂直间隔开的耐热管（16,18,20,22），其中横截面积 每个管小于相邻的下管的管，并且其中相邻管的端部被布置成在其间提供环形空间（24,26,28），入口（17），可燃物质通过所述入口 进入最上管（16），从最下管（22）除去反应的电荷的出口（30）。 以及用于输送可燃挥发物的流体导管（36），其通过将所述电荷加热到用于燃烧的气体燃烧装置（31,32）而放出，从而向所述蒸馏器（10）提供热量。

公开(公告)号：WO9954655A3

公开(公告)日：1999-12-02

申请号：PCT/DE9901186

申请日：1999-04-20

Applicant: FRAUNHOFER GES FORSCHUNG ,  NABERTHERM GMBH & CO INDUSTRIE ,  BOEHM ALEXANDER ,  KORHAMMER CLEMENS ,  SCHOLL ROLAND

Inventor： BOEHM ALEXANDER ,  KORHAMMER CLEMENS ,  SCHOLL ROLAND

IPC: F27B5/06 ,  F27B5/14 ,  F27D1/00 ,  F27D5/00 ,  F16L59/06 ,  B01J13/04 ,  E04B1/80 ,  F27B14/06

CPC classification number: F27D1/00 ,  F27B5/06 ,  F27B2005/143 ,  F27D1/0006 ,  F27D1/0033 ,  F27D5/0062 ,  Y10T428/261

Abstract: Disclosed is a thermal insulation to be inserted between two structures, surfaces, walls or the walls of components which are to be insulated. The thermal insulation consists of an plurality of hollow spheres made up by loose hollow spheres or by hollow spheres which are interconnected by sintered contacts. The ratio of the outer diameter of the hollow spheres to their wall thickness is 5 300. The hollow spheres are made of silicides, silicide composites, metals and intermetals and the alloys thereof, ceramics or glass. When the walls of the hollow spheres have a closed porous structure, the inner pressure in the hollow spheres is between 0 to 0.1 that of the surrounding air pressure at room temperature.

Abstract translation: 它描述了绝缘结构，表面，墙壁或墙壁部件为彼此之间插入的热绝缘。 绝热由松散空心球填充床或通过烧结接触空心球相互连接。 中空球到其壁厚的外径之比为5 - 300。空心球是由硅化物，硅化物复合材料，金属及金属间化合物以及它们的合金，陶瓷和玻璃的。 在中空球的壁的封闭多孔结构中，在空心球0和环境空气压力的0.1之间在室温下的内部压力。

公开(公告)号：WO2021116819A1

公开(公告)日：2021-06-17

申请号：PCT/IB2020/061298

申请日：2020-12-01

Applicant: 株式会社半導体エネルギー研究所

Inventor： 門馬洋平 ,  斉藤丞 ,  落合輝明 ,  三上真弓

IPC: F27B5/06 ,  F27B5/16 ,  F27B7/20 ,  F27B7/32 ,  F27B7/34 ,  F27B7/36 ,  F27B9/24 ,  F27B9/30 ,  F27B9/36 ,  F27B9/38 ,  F27D25/00 ,  H01M4/505 ,  H01M4/525

Abstract: 生産性のよい正極活物質の作製方法を提供する。または生産性よく正極活物質を作製することのできる製造装置を提供する。 リチウムと、遷移金属と、酸素およびフッ素を有する正極活物質の作製方法であって、被処理物の加熱中に固着抑制工程を有する、正極活物質の作製方法。固着抑制工程としては、加熱中に炉を回転させることによる攪拌、加熱中に被処理物の入った容器を振動させることによる攪拌、複数の加熱工程の間に行われる解砕、等がある。これらの作製方法を用いることで、表層部の添加物の分布を良好な正極活物質を作製することができる。

公开(公告)号：WO2021062655A1

公开(公告)日：2021-04-08

申请号：PCT/CN2019/109501

申请日：2019-09-30

Applicant: 江西荧光磁业有限公司

Inventor： 朱明

IPC: F27B5/05 ,  F27B5/06 ,  F27D9/00

Abstract: 一种新型钕铁硼的烧结用真空烧结炉，包括中频电源（1），真空泵（2），接线管（3），真空管（4），炉体（5），底座（6），炉盖（7），测温仪（8），进水管（9），水泵（10），出水管（11）和蓄水池（12），所述的中频电源（1）通过接线管（3）连接有炉体（5）；所述的真空泵（2）设置在中频电源（1）的一侧，且所述真空泵（2）通过真空管（4）连接有炉体（5）；所述的炉体（5）包括坩埚（51），隔热板（52），磁感线圈（53）和炉壁（54），所述的坩埚（51）固定在炉体（5）内隔热板（52）的上端。真空泵（2），水泵（10）和隔热板（52）的设置，结构简单，便于降低钕铁硼磁体烧结所需的最高温度，降低能耗，便于市场推广和应用。

公开(公告)号：WO2021044324A1

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：PCT/IB2020/058191

申请日：2020-09-03

Applicant: IKOI S.P.A.

Inventor： FAORO, Giovanni

IPC: C22B9/04 ,  C22B11/00 ,  F27B5/04 ,  F27B5/06 ,  C22B9/02 ,  C22B11/02

Abstract: The present invention relates to a device (10) for increasing metal evaporation efficiency in containers (3), preferably for use in crucibles (3), in vacuum distillation systems, wherein at least a condenser (8) is provided, said device (10) comprising at least a perforated surface (1), on which a plurality of through holes (5) is provided, said surface (1) being vertically movable with respect to said container(3), with a vertical stroke permitting to said surface (1) to dip within the melting liquid (2) contained in said container (3), said device (10) further comprising lateral edges (4), coupled above said surface (1), so as to realize a continuous wall, said edges along with said surface (1) realizing in combination with said perforated surface (1), a hollow/container suitable for collecting and containing an amount of said melting liquid (2) dripping through said holes (5). The invention also relates to a method which uses said device (10).

公开(公告)号：WO2006028997A3

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：PCT/US2005031375

申请日：2005-09-01

Applicant: BTU INT

Inventor： ORBECK GARY ,  SECCOMBE DONALD A JR

IPC: F27B5/06 ,  F27B5/16

CPC classification number: F27B17/0083 ,  C21D1/767 ,  C21D9/0006 ,  F23C7/02 ,  F23C9/006 ,  F23C2900/09002 ,  F23L7/00 ,  F23M9/06 ,  F27B9/3005 ,  F27B9/3011 ,  F27D1/04 ,  F27D7/04

Abstract: In a system for thermally processing materials, at least one slot eductor is disposed in a wall or roof surface of the furnace chamber to provide circulation of gas within the furnace chamber.

Abstract translation: 在用于热处理材料的系统中，至少一个槽喷射器设置在炉室的壁或屋顶表面中以提供炉室内的气体的循环。