芯片封装结构的形成方法
    1.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2023273582A1

    公开(公告)日:2023-01-05

    申请号:PCT/CN2022/089778

    申请日:2022-04-28

    Inventor: 谭富耀 谢雷

    Abstract: 本发明提供了一种芯片封装结构的形成方法,包括:提供承载于可拉伸层的多个裸片,各个裸片在可拉伸层上的排布保持晶圆切割后的排布;拉伸可拉伸层至相邻裸片之间的距离为预设距离;将拉伸后的可拉伸层以及所承载的各个裸片整体转移至载板;去除拉伸后的可拉伸层;在载板上形成塑封层,以包覆各个裸片;去除载板,在各个裸片的活性面与塑封层上形成电连接结构;切割形成多个芯片封装结构,每个芯片封装结构至少包括一个裸片。根据本发明的实施例,1)利用可拉伸层可将晶圆切割后的多个裸片一次完成转移,贴装效率高;不需要芯片装贴设备,贴装成本低。2)转移至载板的裸片保留了晶圆原本的布局,可使用简单的良率测试技术进行不良追溯。

    MONTAGEVERFAHREN FÜR EINE INTEGRIERTE HALBLEITER-WAFER-VORRICHTUNG SOWIE MONTAGEVORRICHTUNG

    公开(公告)号:WO2021148281A1

    公开(公告)日:2021-07-29

    申请号:PCT/EP2021/050495

    申请日:2021-01-12

    Abstract: Ein Montageverfahren für eine integrierte Halbleiter-Wafer-Vorrichtung, insbesondere integrierte Halbleiter-Bauelement-Anordnung, als Fertigungs-Zwischenprodukt, umfassend - ein Glassubstrat (1) mit mindestens einer von Wänden (3) gebildeten Ausnehmung (2), - ein oder mehrere Halbleiter-Wafer, insbesondere Halbleiter-Bauelemente (9), die in der Ausnehmung (2) anzuordnen sind, und - mindestens ein in die Ausnehmung (2) eingreifendes, am Glassubstrat (1) ausgebildetes Federelement (19) zur Positionshalterung und/oder Ausrichtung des oder der Halbleiter-Wafer (9) in der Ausnehmung (2), weist folgende Verfahrensschritte auf: - Bereitstellen des Glassubstrats (1) mit entspanntem, in den Konturraum (K) des zu positionierenden Halbleiter-Wavers (9) eingreifendem Federelement (19), - Bereitstellen eines Federmanipulator-Substrates (22) mit an den Konturraum (K) des zu positionierenden Halbleiter-Wavers (9) und/oder des mindestens einen Federelements (19) angepasstem Manipulationelement (25), - relatives Verschieben des Glassubstrates (1) zum Federmanipulator-Substrat (22) derart, dass dessen Manipulationselement (25) unter Vorspannung und Auslenkung des Federelementes (19) aus dem Konturraum (K) des Halbleiter-Wavers (9) in die Ausnehmung (2) einfährt, - Platzieren des Halbleiter-Wavers (9) in die Ausnehmung (2), sowie - relatives Zurückverschieben des Glassubstrates (1) zum Federmanipulator-Substrat (22) derart, dass dessen Manipulationselement (25) unter Freigabe des Federelementes (19) aus dem Konturraum (K) des Halbleiter-Wavers (9) ausfährt, wodurch das mindestens eine Federelement (19) den Halbleiter-Waver (9) zur Positionshalterung und/oder Ausrichtung in der Ausnehmung (2) beaufschlagt.

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