A METHOD FOR POSITIONING COMPONENTS ON A SUBSTRATE AND SUBSTRATES SUITABLE FOR THE METHOD

    公开(公告)号:WO2022002733A1

    公开(公告)日:2022-01-06

    申请号:PCT/EP2021/067266

    申请日:2021-06-23

    Abstract: A method for accurately positioning a component on a receiver substrate is provided, wherein the component is transferred from a donor substrate to a receiver substrate facing the donor substrate. The method comprises creating at least one nozzle at a predefined location in the area of contact between a blister forming layer on the donor substrate, and a component attached to the donor substrate by adhesion to the blister forming layer. The blister forming layer comprises at least a dynamic release layer, consisting of a dynamic release material, i.e. material that is vaporised when a laser beam of a given wavelength and flux density is directed to the donor substrate at the location of the component, from the back side of the donor substrate. The application of the laser beam thus creates a blister that contains vaporized dynamic release material.The blister expands until a nozzle is created, the nozzle allowing the vaporized dynamic release material to exit the blister and cause the release of the component and its propulsion towards the receiver substrate. The nozzle releases the material in the form of a narrow jet of gas, which improves the directionality of the transfer.

    VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER BELEUCHTUNGSVORRICHTUNG

    公开(公告)号:WO2021122449A1

    公开(公告)日:2021-06-24

    申请号:PCT/EP2020/085958

    申请日:2020-12-14

    Abstract: Das Verfahren zur Herstellung einer Beleuchtungsvorrichtung umfasst einen Verfahrensschritt A), in dem ein Waferverbund mit einer auf einem Trägersubstrat angeordneten Halbleiterschichtenfolge bereitgestellt wird. Weiter umfasst das Verfahren einen Verfahrensschritt B), in dem der Waferverbund in eine Vielzahl erster optoelektronischer Halbleiterchips mit jeweils einem Abschnitt der Halbleiterschichtenfolge und des Trägersubstrats durchtrennt wird. In einem weiteren Verfahrensschritt C) werden zumindest einige der ersten optoelektronischen Halbleiterchips auf einen ersten Hilfsträger übertragen. Des Weiteren umfasst das Verfahren einen Verfahrensschritt D), in dem die ersten optoelektronischen Halbleiterchips auf dem ersten Hilfsträger zur Anpassung an eine vorgegebene Form zugeschnitten werden. In einem weiteren Verfahrensschritt E) werden die ersten optoelektronischen Halbleiterchips von dem ersten Hilfsträger auf einen Träger übertragen.

    芯片封装结构的形成方法
    6.
    发明申请

    公开(公告)号:WO2023273582A1

    公开(公告)日:2023-01-05

    申请号:PCT/CN2022/089778

    申请日:2022-04-28

    Inventor: 谭富耀 谢雷

    Abstract: 本发明提供了一种芯片封装结构的形成方法,包括:提供承载于可拉伸层的多个裸片,各个裸片在可拉伸层上的排布保持晶圆切割后的排布;拉伸可拉伸层至相邻裸片之间的距离为预设距离;将拉伸后的可拉伸层以及所承载的各个裸片整体转移至载板;去除拉伸后的可拉伸层;在载板上形成塑封层,以包覆各个裸片;去除载板,在各个裸片的活性面与塑封层上形成电连接结构;切割形成多个芯片封装结构,每个芯片封装结构至少包括一个裸片。根据本发明的实施例,1)利用可拉伸层可将晶圆切割后的多个裸片一次完成转移,贴装效率高;不需要芯片装贴设备,贴装成本低。2)转移至载板的裸片保留了晶圆原本的布局,可使用简单的良率测试技术进行不良追溯。

    SUBSTRAT TEMPORAIRE DEMONTABLE COMPATIBLE AVEC DE TRES HAUTES TEMPERATURES ET PROCEDE DE TRANSFERT D'UNE COUCHE UTILE A PARTIR DUDIT SUBSTRAT

    公开(公告)号:WO2021250333A1

    公开(公告)日:2021-12-16

    申请号:PCT/FR2021/050718

    申请日:2021-04-26

    Applicant: SOITEC

    Abstract: L'invention concerne un substrat temporaire, démontable à une température de démontage supérieure à 1000°C et comprenant : - une couche utile semi-conductrice s'étendant selon un plan principal, - un substrat support, - une couche intermédiaire disposée entre la couche utile et le substrat support, et présentant une épaisseur, selon un axe normal au plan principal, inférieure à 20nm, - une interface de collage située dans la couche intermédiaire ou adjacente à celle-ci, - des atomes d'au moins une espèce gazeuse distribués selon un profil de concentration le long de l'axe normal au plan principal, avec un maximum de concentration supérieur à 1021/cm3, lesdits atomes restant piégés dans la couche intermédiaire et/ou dans une couche adjacente du substrat support d'épaisseur inférieure ou égale à 10nm et/ou dans une sous-couche adjacente de la couche utile d'épaisseur inférieure ou égale à 10nm, lorsque le substrat temporaire est soumis à une température inférieure à la température de démontage, et lesdits atomes étant destinés à diffuser à une interface de détachement lorsque le substrat temporaire est soumis à une température supérieure ou égale à la température de démontage. L'invention concerne également un procédé de fabrication dudit substrat temporaire. Enfin, l'invention concerne un procédé de transfert d'une couche utile sur un substrat receveur, à partir du substrat temporaire démontable, pour former une structure composite.

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