公开(公告)号：WO2023057542A1

公开(公告)日：2023-04-13

申请号：PCT/EP2022/077767

申请日：2022-10-06

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： HOLZWARTH, Jared Lee ,  KOLLBERG, Marcel ,  MUKINOVIC, Merim ,  STRAUCH, Stephan

IPC: C23C16/32 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C30B25/10 ,  C30B25/12 ,  H01L21/687 ,  C23C16/325 ,  C23C16/45508 ,  C23C16/4558 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/4586 ,  C30B29/36 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: Die Erfindung betrifft einen in einem CVD-Reaktor angeordneten Tragring (20), der Teil einer Lageranordnung zur Lagerung eines Substrates (10) ist, die oberhalb eines Suszeptors angeordnet ist, und vom Suszeptor mit Wärme versorgt wird, wobei wesentlich ist, dass die Wärme über einen Ringsteg (33) des Tragrings (20) vom Suszeptor zu einem radial äußeren Bereich (21) oder zu einem radial inneren Bereich (22) des Tragrings (20) übertragen wird.

公开(公告)号：WO2021194782A1

公开(公告)日：2021-09-30

申请号：PCT/US2021/022316

申请日：2021-03-15

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： FESPERMAN JR., Ronnie Rex ,  GROOVER, Jesse Michael

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/68 ,  G01B9/02 ,  F16C32/0603 ,  F16C32/0648 ,  H01L21/68735

Abstract: A substrate positioning device for radially positioning a substrate including a first mounting frame, and a plurality of centering devices coupled to the first mounting frame and spaced apart from one another. Each of the plurality of centering devices including a mount, a flexure element coupled to the mount and having a radial edge, and an adjustment member coupled to the mount. The adjustment member is adjusting between a retracted state and an extended state for pivoting the flexure element between a first position and a second position with respect to the mount. Each centering device is separately actuatable to move the flexure element of a respective centering device with respect to an edge of the substrate thereby radially positioning the substrate with respect to the first mounting frame.

公开(公告)号：WO2023274598A1

公开(公告)日：2023-01-05

申请号：PCT/EP2022/059333

申请日：2022-04-07

Applicant: SINGULUS TECHNOLOGIES AG

Inventor： DIPPELL, Torsten ,  HÜBNER, Simon ,  KEMPF, Stefan ,  NOVAK, Emmerich Manfred ,  REISING, Michael ,  ROHRMANN, Reiner

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/673 ,  C23C14/50 ,  H01L21/677 ,  H01L21/6734 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68771

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft einen Substratträger zur Aufnahme und zum Transport mehrerer Substrate.

公开(公告)号：WO2022002345A1

公开(公告)日：2022-01-06

申请号：PCT/EP2020/068223

申请日：2020-06-29

Applicant: EV GROUP E. THALLNER GMBH

Inventor： PLACH, Thomas

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68735

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft einen Substrathalter (1, 1', 1'', 1''', 1'''', 1''''') zur Aufnahme eines Substrats (13), aufweisend Fixierelemente (6, 6', 6'') zur Fixierung des Substrats (13), wobei die Fixierelemente (6, 6', 6'') in Zonen (7, 7') gruppierbar sind, sowie ein korrespondierendes Verfahren.

公开(公告)号：WO2022002848A2

公开(公告)日：2022-01-06

申请号：PCT/EP2021/067689

申请日：2021-06-28

Applicant: AIXTRON SE

Inventor： RUDA Y WITT, Francisco ,  KOLLBERG, Marcel ,  QUARTIER, Georg ,  RAUF, Hendrik ,  CREMER, Stefan

IPC: C23C16/458 ,  H01L21/677 ,  C23C14/50 ,  C23C16/46 ,  H01L21/687 ,  C23C16/4585 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68721 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68771

Abstract: Die Erfindung betrifft einen Transportring zum Transportieren eines Substrates (21), aufweisend einen sich um eine Achse (A) erstreckenden ringförmigen Körper (1) mit einem ringförmigen Unterteil (2), wobei das Unterteil (2) einen Außenabschnitt (6) und radial innerhalb des Außenabschnitts (6) eine Auflagefläche (5) zur Auflage eines Randes des Substrates (21) aufweist, wobei der Außenabschnitt (6) mit Distanzmitteln (7, 7') ein ringförmiges Oberteil (3) trägt, das gegenüber einem radial äußeren Bereich des Außenabschnittes (6) in einer Richtung parallel zur Achse (A) um einen Abstand (D) beabstandet ist. Erfindungsgemäß werden die Distanzmittel (7, 7') von in Umfangsrichtung um die Achse (A) voneinander beanstandeten Einzelstegen gebildet, zwischen denen sich ein beidseitig offener Spalt ausbildet. Die Fertigung der Einzelstege erfolgt beispielsweise durch Drahterosion.

公开(公告)号：WO2022002346A1

公开(公告)日：2022-01-06

申请号：PCT/EP2020/068231

申请日：2020-06-29

Applicant: EV GROUP E. THALLNER GMBH

Inventor： ZINNER, Dominik ,  WAGENLEITNER, Thomas ,  SÜSS, Jürgen Markus ,  PLACH, Thomas ,  MALLINGER, Jürgen

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68735

Abstract: Vorgeschlagen wird ein Substrathalter (1',1'',1''') zum Krümmen eines Substrats (7), aufweisend - eine Fixierplatte (3) zur Befestigung des Substrats (7), - Krümmungsmittel (6, 6', 6'') zur Krümmung der Fixierplatte (3), wobei die Fixierplatte (3) derart ausgebildet ist, dass die Krümmung des Substrats (7) gezielt einstellbar ist, sowie ein korrespondierendes Verfahren.

公开(公告)号：WO2021252758A1

公开(公告)日：2021-12-16

申请号：PCT/US2021/036802

申请日：2021-06-10

Applicant: LAM RESEARCH CORPORATION

Inventor： WEI, Lai ,  KIM, Ji Soo ,  MILLER, Alan, Jeffrey ,  THIE, William ,  LIN, Frank, Yun ,  HAN, Jun Hee Hee ,  LIU, Jie ,  CHIANG, Conan ,  MARTIN, Michael, John

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/68721 ,  H01L21/68735

Abstract: In some examples, a flat Bottom Shadow Ring (fBSR) is provided for processing a substrate in a processing chamber. An example fBSR comprises an overhang for covering an edge of the substrate in the processing chamber. The overhang includes a fiat zone that extends radially outward over the outer edge of the substrate.