本发明公开了一种MPCVD装置，包括沉积台、基片台、升降台、微波石英窗、上盖板、底板、压力传感器、复合视窗、厚度测量装置、视觉装置、测温装置、等离子体诊断装置、真空密封圈及微波屏蔽密封圈；上盖板与底板围成反应腔，在上盖板的顶部设置有进气孔，在底板上设置有出气孔；微波石英窗为圆环形，设于沉积台与底板之间，通过微波石英窗将反应腔与外界空气隔离；升降台内设置有真空通道和冷却通道，基片台下表面与升降台上表面构成真空腔，所述真空腔与所述真空通道连通，在所述真空腔内设置有监测气压的压力传感器。采用本发明的MPCVD装置，可有效防止视窗处微波泄露，实时对工艺参数进行监测，以及使金刚石的生长面始终处于同一生长高度。