控制沉积系统的喷射器的方法

    公开(公告)号:CN1800434B

    公开(公告)日:2010-05-12

    申请号:CN200610000374.9

    申请日:2006-01-06

    Abstract: 本发明提供了一种用于控制喷射器的方法。在控制沉积系统中的包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器的方法中,加热引导通路和喷射喷嘴。在加热引导通路和喷射喷嘴后加热熔罐。此外,在冷却包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器中,冷却熔罐。在冷却熔罐后,冷却引导通路和喷射喷嘴。这种方法的优点在于通过防止由熔罐中蒸发的沉积材料导致喷射喷嘴形成阻塞或喷溅来提高形成在基底上的有机层的均匀性。

    基片固定盘及利用该基片固定盘的基片校正系统及其方法

    公开(公告)号:CN1800443B9

    公开(公告)日:2011-07-27

    申请号:CN200510117051.3

    申请日:2005-10-31

    Abstract: 本发明提供一种基片固定盘,为了在真空工程用垂直基片固定盘的平板面上固定和支持所述基片,包含至少一部分以上基片固定单元,并且,通过固定和支持垂直布置的基片,可以进行高精度的校正和更加稳定的蒸镀工艺。基片固定盘(60)及利用该基片固定盘(60)的基片校正系统及其方法,包含被蒸镀蒸镀物的基片(10)、用于容纳所述基片(10)的框架(70)、用于容纳所述框架(70)而构成的盘(60)、用于在所述框架(70)上固定和支持所述基片(10)而构成的至少一个以上基片固定单元(110)。

    有机物蒸镀装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1743495B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200510096608.X

    申请日:2005-08-25

    Abstract: 一种有机物蒸镀装置,以将衬底大致垂直竖起的状态蒸镀有机物,形成有机薄膜,可适用于大型衬底,且可形成均匀厚度的有机薄膜。本发明的有机物蒸镀装置具有:腔,其构成壳体并且使衬底维持在相对于地面成70°~110°的角度;有机物存储部,其由接收向上述衬底上蒸镀的有机物的至少一个有机物存储位置构成;有机物喷嘴部,其喷射向上述衬底上蒸镀的有机物;连接线路,其将上述有机物喷嘴部和有机物存储部连接;运送装置,其可使上述有机物存储部、有机物喷嘴部及连接线中的至少上述有机物喷嘴沿垂直方向移动。

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