用于对准基板和罩板的装置以及使用该装置的方法

    公开(公告)号:CN100487155C

    公开(公告)日:2009-05-13

    申请号:CN200610000430.9

    申请日:2006-01-05

    CPC classification number: G03F9/7038 G03F7/70791 G03F9/7088

    Abstract: 一种用于对准基板和罩板的装置以及使用该装置的方法,其中该装置包括:在基板和罩板的未使用部分中的对准标记,用于在基板与罩板对准时确定对准标记重叠的传感单元,以及用于根据由传感单元所测量和确定的数据而控制对准过程重复进行的控制单元。传感单元可以包括:位于拍摄范围之内以确定对准标记的任何对准误差的照相机。根据本发明的另一实施例,测量基板和罩板间的对准误差来确定该对准误差是否可以接受。当该对准误差不可接受时,重复进行对准基板和罩板的操作,直至对准误差可以接受为止。

    用于对准托盘和托盘固定器的装置

    公开(公告)号:CN100554499C

    公开(公告)日:2009-10-28

    申请号:CN200610000431.3

    申请日:2006-01-05

    Abstract: 一种用于对准托盘和托盘固定器的装置,包括:形成的带有连接孔的垂直定位的托盘,以及具有连接臂以与这些连接孔连接并且防止托盘和托盘固定器弯曲的托盘固定器。该托盘包括能够容纳基板的基板框,并且该托盘固定器与驱动轴连接,以将垂直位置的托盘传送到用于汽相淀积的罩板。多个导引轴的一端可靠接触托盘固定器的后侧,以防止该托盘固定器弯曲。该托盘可以具有磁连接部件,并且该托盘固定器可以具有对应于这些连接部件的支撑部件。这些支撑部件能够在由相应凹槽或突起决定的位置与连接部件磁连接,以对准托盘和托盘固定器。

    基片固定盘及利用该基片固定盘的基片校正系统及其方法

    公开(公告)号:CN1800443B9

    公开(公告)日:2011-07-27

    申请号:CN200510117051.3

    申请日:2005-10-31

    Abstract: 本发明提供一种基片固定盘,为了在真空工程用垂直基片固定盘的平板面上固定和支持所述基片,包含至少一部分以上基片固定单元,并且,通过固定和支持垂直布置的基片,可以进行高精度的校正和更加稳定的蒸镀工艺。基片固定盘(60)及利用该基片固定盘(60)的基片校正系统及其方法,包含被蒸镀蒸镀物的基片(10)、用于容纳所述基片(10)的框架(70)、用于容纳所述框架(70)而构成的盘(60)、用于在所述框架(70)上固定和支持所述基片(10)而构成的至少一个以上基片固定单元(110)。

    遮蔽掩模图案的形成方法

    公开(公告)号:CN1800970B

    公开(公告)日:2011-02-09

    申请号:CN200510092324.3

    申请日:2005-08-26

    Abstract: 本发明提供一种遮蔽掩模图案的形成方法,其在施加有拉力的状态下首先焊接在掩模框上,利用激光形成蒸镀图案,由此容易制作大面积的掩模,并且加工步骤及设备简单,能够缩短加工时间。本发明的遮蔽掩模图案的形成方法在由对掩模框施加有拉力的状态下固定的固定部和形成有图案的透过区域构成的遮蔽掩模上形成图案,其特征在于,包括:一边在所述遮蔽掩模上施加与所述拉力对应的张力一边固定所述遮蔽掩模的步骤;在已固定的遮蔽掩模的透过区域选定图案形成开始位置的步骤;从所述图案形成开始位置沿螺旋方向的形成路径形成所述图案的步骤。

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