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公开(公告)号：CN107069402B
公开(公告)日：2019-03-22
申请号：CN201710048926.1
申请日：2017-01-23
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: H01S3/10
Abstract: 本发明公开了一种基于双折射滤波的增益平坦宽带钕玻璃放大器，它包括偏振控制器、双折射滤波光谱均衡器和钕玻璃放大器，偏振控制器由在光路中依次排列的四分之一波片和半波片组成，所述双折射滤波光谱均衡器由在光路中依次排列的起偏器、相位延迟器和检偏器组成，所述起偏器和检偏器的偏振透过方向一致，所述相位延迟器固定于旋转调整架上，所述钕玻璃放大器包括钕玻璃和泵浦光源。本发明结合双折射滤波光谱均衡器和钕玻璃放大器，构建了一种增益平坦的钕玻璃宽带激光放大器。具体而言是采用双折射光谱滤波技术调节光谱透过率，对传统钕玻璃放大器的增益光谱进行反补偿，最终实现在较宽光谱范围内的平坦的增益谱线。
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公开(公告)号：CN103604509B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201310613251.2
申请日：2013-11-27
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
Abstract: 一种超短脉冲激光残余角色散的测量装置和测量方法，其测量装置构成为：光束行进方向依次为第一直角棱镜，第一平行平板，第二直角棱镜，第二平行平板，消色差透镜，1×2端口的分束器，入射光束经过1×2端口的分束器后分成两部分光，一部分光会聚到电荷耦合元件CCD上，另一部分光入射到光谱仪上。该发明利用直角棱镜与平行平板的组合作为光谱调制器从宽带激光中选择分立的波长，最终不同传播方向的光谱分量在CCD上呈现分立的点，通过分立光点的波长和相对位置即可计算宽带光束的残余角色散。它具有结构简单、可实现实时、单次、二维测量超短脉冲激光残余角色散的特点。
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公开(公告)号：CN109374264B
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201811590277.9
申请日：2018-12-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜缺陷激光损伤阈值的测试方法，该方法中激光束经衰减器后到达光束分束器，光束分束器透射方向的激光束经过聚焦透镜到达金属膜，CCD相机记录激光辐照在金属膜表面的光斑位置和辐照在光学薄膜表面时的激光损伤点坐标，扫描电子显微镜记录激光辐照在光学薄膜中缺陷损伤点纵向深度位置，并完成对缺陷损伤点横向能量密度细分与纵向电场归一化处理相结合分析，从而解决了光学薄膜激光损伤阈值测试中，将激光光斑中随机分布的缺陷损伤点与高斯分布的激光能量密度等效的视作均匀分布，并将激光峰值能量密度作为缺陷损伤能量密度，以及因忽略缺陷损伤点所受光学薄膜电场分布影响所带来的问题。从而提高测试精度。
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公开(公告)号：CN107069402A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710048926.1
申请日：2017-01-23
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S3/10061 , H01S3/10023
Abstract: 本发明公开了一种基于双折射滤波的增益平坦宽带钕玻璃放大器，它包括偏振控制器、双折射滤波光谱均衡器和钕玻璃放大器，偏振控制器由在光路中依次排列的四分之一波片和半波片组成，所述双折射滤波光谱均衡器由在光路中依次排列的起偏器、相位延迟器和检偏器组成，所述起偏器和检偏器的偏振透过方向一致，所述相位延迟器固定于旋转调整架上，所述钕玻璃放大器包括钕玻璃和泵浦光源。本发明结合双折射滤波光谱均衡器和钕玻璃放大器，构建了一种增益平坦的钕玻璃宽带激光放大器。具体而言是采用双折射光谱滤波技术调节光谱透过率，对传统钕玻璃放大器的增益光谱进行反补偿，最终实现在较宽光谱范围内的平坦的增益谱线。
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公开(公告)号：CN105652487A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201610245863.4
申请日：2016-04-20
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
CPC classification number: G02F1/132 , G02F1/1326 , G02F1/3515
Abstract: 本发明提供了一种金属纳米颗粒掺杂的液晶光开关，该液晶光开关包括石英基板，两块石英基板形成一端开口的腔室，石英基板的四周用热封层完全热封封闭，所述腔室的内壁上均涂覆有ITO薄膜层，所述ITO薄膜层上均涂覆有金属纳米颗粒层，所述腔室中灌有液晶分子和经过表面活性剂修饰的金属纳米颗粒，灌入液晶分子和经过表面活性剂修饰的金属纳米颗粒后，腔室的开口端热封封闭。本发明泵浦光照射石英基板，引起金属纳米颗粒的表面等离激元共振效应，使液晶分子取向发生偏转，改变了信号光的透射光强，由此形成开关效应；金属纳米颗粒的存在明显降低液晶光开关的阈值光强，开关的响应速度也明显提高，在未来全光器件和全光通信中有可观的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107942598A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201711165504.9
申请日：2017-11-21
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G02F1/35
CPC classification number: G02F1/353 , G02F2001/354
Abstract: 本发明公开了一种基于切伦科夫辐射实现亚飞秒级超短脉冲合成的方法，包括：步骤1，建立基准光路，将非线性晶体置于六维旋转平移台上，旋转六维旋转平移台调节非线性晶体的角度，使非线性切伦科夫辐射在非线性晶体内表面发生，步骤2，据入射激光在非线性晶体内表面反射的角度确定各阶倍频光在晶体中的非线性切伦科夫辐射角，步骤3，入射激光产生的基频光、二倍频光、三倍频光、四倍频光、五倍频光及更高阶倍频光沿各自辐射角出射，经过振幅型液晶光调制器、相位型液晶光调制器调制后，经第二色散棱镜，各阶光波传输方向由平行变为汇聚，经第三色散棱镜后，合成一束亚飞秒级超短脉冲。本发明实现亚飞秒级光波形合成过程，高效率、高保真度。
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公开(公告)号：CN110618143B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201911024331.8
申请日：2019-10-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种波长分离薄膜缺陷激光损伤阈值的测试方法及系统，该方法以不同波长激光辐照波长分离薄膜的不同损伤机理及损伤形貌作为依据，将缺陷损伤点对应的致损波长激光进行判定，并将缺陷损伤的时间以及二维空间中位于高斯光斑内的坐标进行判断进行能量密度细化分析，结合缺陷损伤点的深度以及两波长激光各自对应的电场，完成对缺陷损伤点在时间与三维空间的能量密度进行细分，有效地解决了国际标准测试法中，无法判定缺陷损伤对应波长激光能量，将高斯光斑内不均匀分布的激光能量密度以及缺陷损伤点等效的看作为均匀分布，并将峰值能量密度作为缺陷损伤能量密度，忽略缺陷损伤的时间以及纵向电场影响所带来的问题，提高了测试精度。
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公开(公告)号：CN110618143A
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201911024331.8
申请日：2019-10-25
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种波长分离薄膜缺陷激光损伤阈值的测试方法及系统，该方法以不同波长激光辐照波长分离薄膜的不同损伤机理及损伤形貌作为依据，将缺陷损伤点对应的致损波长激光进行判定，并将缺陷损伤的时间以及二维空间中位于高斯光斑内的坐标进行判断进行能量密度细化分析，结合缺陷损伤点的深度以及两波长激光各自对应的电场，完成对缺陷损伤点在时间与三维空间的能量密度进行细分，有效地解决了国际标准测试法中，无法判定缺陷损伤对应波长激光能量，将高斯光斑内不均匀分布的激光能量密度以及缺陷损伤点等效的看作为均匀分布，并将峰值能量密度作为缺陷损伤能量密度，忽略缺陷损伤的时间以及纵向电场影响所带来的问题，提高了测试精度。
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公开(公告)号：CN105157857B
公开(公告)日：2017-11-14
申请号：CN201510602067.7
申请日：2015-09-21
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: G01J11/00
Abstract: 本发明涉及到一种超短脉冲时间同步的测量装置，该测量装置包括有光学延迟线、第一半透半反镜、第二半透半反镜、透镜、非线性晶体、小孔光阑、第一光电二极管、半波片、合束器、四分之一波片、偏振分束器、第二光电二极管、第三光电二极管和减法器；测量方法是采用光学互相关测量时间同步，即由第一光电二极管获得和频光信号的最大值，使两束待测超短脉冲初步达到时间同步；采取电学能量平衡法进一步提升时间同步测量精度，在初步时间同步的基础上，若减法器输出信号为0，则两束超短脉冲达到高精度时间同步。本发明的时间同步测量精度可达亚飞秒量级，能够用于皮秒、飞秒等超短脉冲激光的时间同步测量。
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公开(公告)号：CN104889576B
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201510360385.7
申请日：2015-06-26
Applicant: 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
IPC: B23K26/382 , B23K26/0622 , B23K26/064 , B23K26/16 , B23K26/067 , B23K101/36
Abstract: 本发明涉及一种高深径比微孔的制备方法及制备装置，用以高深径比微孔。本发明的制备方法是利用双脉冲组合的方式来制备高深径比微孔，在激光光源中包含了两种脉宽不同的激光组合，利用数字信号延时发生器分别控制双脉冲组合达到样品的时间，两种激光器的激光脉冲通过光学元器件组合聚焦至样品上，直接对样品进行激光刻蚀；制备装置中包括有飞秒激光器、纳秒激光器、数字信号延时发生器、半波片、光学起偏器、分束镜、全反射镜、白光光源、电荷耦合元件、三维移动平台和电脑。本发明技术可以直接突破单脉冲所能制备的最大微孔深径比极限，很好地解决目前微孔制备中深径比不高的技术难题。
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