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公开(公告)号:CN105518532B
公开(公告)日:2018-10-09
申请号:CN201480049179.8
申请日:2014-06-25
申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人: M.赫尔曼
摘要: 本发明涉及一种镜子,尤其是用于微光刻投影曝光设备的镜子。根据本发明的镜子(10、20、30、40)具有光学作用面(10a、20a、30a、40a)、镜子衬底(11、21、31、41)和用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a、40a)上的电磁射线的反射层垛(14、24、34、44);其中在镜子衬底(11、21、31、41)与反射层垛(14、24、34、44)之间布置由III族氮化物构成的层(13、23、33、43),其中所述III族氮化物从包含氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)和铝镓氮化物(AlGaN)的组中选出。
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公开(公告)号:CN103250101B
公开(公告)日:2016-11-02
申请号:CN201180056581.5
申请日:2011-11-17
申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号: G01K11/00 , G01B9/02024 , G01B9/02081 , G01B2290/70 , G01M11/005 , G02B7/181 , G03F7/708 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要: 本发明涉及用于确定在光学系统,尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况的方法和布置。在实施例中,反射镜为EUV反射镜,以及根据本发明的方法包含以下步骤:将至少一个输入测量光束偏转至反射镜(101、201、401、601、701、801)上;测定由输入测量光束在与反射镜(101、201、401、601、701、801)的相互作用之后产生的至少一个输出测量光束的至少一个光学参数;以及基于所述参数确定反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况。
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公开(公告)号:CN103250101A
公开(公告)日:2013-08-14
申请号:CN201180056581.5
申请日:2011-11-17
申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号: G01K11/00 , G01B9/02024 , G01B9/02081 , G01B2290/70 , G01M11/005 , G02B7/181 , G03F7/708 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要: 本发明涉及用于确定在光学系统,尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况的方法和布置。在实施例中,反射镜为EUV反射镜,以及根据本发明的方法包含以下步骤:将至少一个输入测量光束偏转至反射镜(101、201、401、601、701、801)上;测定由输入测量光束在与反射镜(101、201、401、601、701、801)的相互作用之后产生的至少一个输出测量光束的至少一个光学参数;以及基于所述参数确定反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况。
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公开(公告)号:CN105518532A
公开(公告)日:2016-04-20
申请号:CN201480049179.8
申请日:2014-06-25
申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人: M.赫尔曼
CPC分类号: G03F7/702 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要: 本发明涉及一种镜子,尤其是用于微光刻投影曝光设备的镜子。根据本发明的镜子(10、20、30、40)具有光学作用面(10a、20a、30a、40a)、镜子衬底(11、21、31、41)和用于反射撞击到所述光学作用面(10a、20a、30a、40a)上的电磁射线的反射层垛(14、24、34、44);其中在镜子衬底(11、21、31、41)与反射层垛(14、24、34、44)之间布置由III族氮化物构成的层(13、23、33、43),其中所述III族氮化物从包含氮化镓(GaN)、氮化铝(AlN)和铝镓氮化物(AlGaN)的组中选出。
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