制冷红外探测器及其芯片的制造方法

    公开(公告)号:CN118116944A

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN202410284921.9

    申请日:2024-03-13

    Abstract: 本发明公开了一种制冷红外探测器及其芯片的制造方法,属于半导体技术领域,该制冷红外探测器芯片的制造方法,包括以下步骤:提供一芯片,所述芯片上形成有若干铟柱,所述芯片为用于形成所述制冷红外探测器的器件芯片或读出电路芯片;在载体上形成光刻胶层,将所述载体具有光刻胶层的一侧设置在所述铟柱上进行压焊;去除所述光刻胶层,并移除所述载体。通过在载体上涂覆光刻胶,形成光刻胶层形成平整的表面,再将载体和芯片进行压焊,控制压焊的压力和时长,能够将高度不同的铟柱挤压到同一高度平面,进而提高铟柱的均匀性。

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