公开(公告)号：CN111194479B

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN201880065545.7

申请日：2018-10-17

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： H·法加里亚 ,  J·劳贝尔 ,  永·张

IPC分类号： H01L21/66 ,  G01N21/94 ,  G01N21/88

摘要： 本发明描述用于使用适应性关注区域ACA来执行裸片图像的缺陷检验的方法、系统及制品。使用ACA解决以下问题：处置需要旋转关注区域的组件的旋转；处置其中每一关注区域自身需要旋转、平移或仿射变换的情形；及使由缺陷或工艺变动引起的强度差与由大小变动引起的强度差解耦的情形。

公开(公告)号：CN107533994A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680023662.8

申请日：2016-04-27

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： H·法加里亚 ,  S·卡达尔 ,  T·托雷利 ,  B·里斯 ,  M·马哈德凡 ,  S·潘戴夫

IPC分类号： H01L21/66

摘要： 本发明公开用于基于图像自动检测晶片制造过程的状态的方法及装置。所述方法有利地使用片段掩模来提高所述图像的信噪比。接着，针对片段掩模变化计算度量值以确定预测过程不合规性的片段掩模与度量值的一或多个组合。模型可因所述过程而产生。在另一实施例中，一种方法使用模型来监测过程的合规性。

公开(公告)号：CN107533994B

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：CN201680023662.8

申请日：2016-04-27

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： H·法加里亚 ,  S·卡达尔 ,  T·托雷利 ,  B·里斯 ,  M·马哈德凡 ,  S·潘戴夫

IPC分类号： H01L21/66

摘要： 本发明公开用于基于图像自动检测晶片制造过程的状态的方法及装置。所述方法有利地使用片段掩模来提高所述图像的信噪比。接着，针对片段掩模变化计算度量值以确定预测过程不合规性的片段掩模与度量值的一或多个组合。模型可因所述过程而产生。在另一实施例中，一种方法使用模型来监测过程的合规性。

公开(公告)号：CN108475649A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201780005642.2

申请日：2017-01-05

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： S·卡达尔 ,  S·乔纳宾 ,  H·法加里亚 ,  B·里斯

IPC分类号： H01L21/66 ,  H01L21/67

CPC分类号： G05B19/41875 ,  G05B2219/37224 ,  G06N99/005 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20 ,  Y02P90/22

摘要： 特征提取及分类用于工艺窗监测。基于经掩蔽裸片图像的度量的组合且包含一或多个片段掩模、度量及晶片图像的一组显著组合的分类器能够检测工艺非合规。可基于经计算度量使用分类器确定工艺状态。所述分类器可从标称数据学习。

公开(公告)号：CN105981151B

公开(公告)日：2020-06-09

申请号：CN201580008339.9

申请日：2015-02-12

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： H·法加里亚 ,  T·托雷利 ,  B·里斯 ,  M·马哈德凡

IPC分类号： H01L21/66

摘要： 本发明揭示用于监测加工工具状况的方法及系统。所述方法将单个晶片、单个批次内的多个晶片及多个批次信息一起统计地组合为到定制分类引擎的输入，所述定制分类引擎可消耗单个或多个扫描、通道、晶片及批次以确定加工工具状态。

公开(公告)号：CN106030775A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201580010430.4

申请日：2015-02-25

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： H·法加里亚 ,  S·乔纳宾 ,  B·里斯 ,  M·马哈德凡

IPC分类号： H01L21/66

摘要： 本发明揭示轮廓剪影(Shadow‑gram)，其用于堆叠晶片的边缘检验和计量。系统包含：光源，其将准直光引导在所述堆叠晶片的边缘处；检测器，其与所述光源相对；及控制器，其连接到所述检测器。所述堆叠晶片可相对于所述光源旋转。所述控制器分析所述堆叠晶片的所述边缘的轮廓剪影图像。比较所述堆叠晶片在所述轮廓剪影图像中的侧影(silhouette)的测量与预定测量。可汇总并分析沿所述堆叠晶片的所述边缘的不同点处的多个轮廓剪影图像。

公开(公告)号：CN111164646A

公开(公告)日：2020-05-15

申请号：CN201880064233.4

申请日：2018-10-19

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： J·劳贝尔 ,  H·法加里亚 ,  永·张

IPC分类号： G06T7/33 ,  G06T7/00 ,  H01L21/66

摘要： 可使用方法或系统来使裸片对裸片检测图像对准，所述方法或系统经配置以：接收参考图像及测试图像；从所述参考图像及所述测试图像上的局部区段确定全局偏移及旋转角；及在执行精细对准之前执行所述测试图像的粗略对准去歪斜。

公开(公告)号：CN106030775B

公开(公告)日：2019-08-20

申请号：CN201580010430.4

申请日：2015-02-25

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： H·法加里亚 ,  S·乔纳宾 ,  B·里斯 ,  M·马哈德凡

IPC分类号： H01L21/66

摘要： 本发明揭示轮廓剪影(Shadow‑gram)，其用于堆叠晶片的边缘检验和计量。系统包含：光源，其将准直光引导在所述堆叠晶片的边缘处；检测器，其与所述光源相对；及控制器，其连接到所述检测器。所述堆叠晶片可相对于所述光源旋转。所述控制器分析所述堆叠晶片的所述边缘的轮廓剪影图像。比较所述堆叠晶片在所述轮廓剪影图像中的侧影(silhouette)的测量与预定测量。可汇总并分析沿所述堆叠晶片的所述边缘的不同点处的多个轮廓剪影图像。

公开(公告)号：CN105981151A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201580008339.9

申请日：2015-02-12

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： H·法加里亚 ,  T·托雷利 ,  B·里斯 ,  M·马哈德凡

IPC分类号： H01L21/66

摘要： 本发明揭示用于监测加工工具状况的方法及系统。所述方法将单个晶片、单个批次内的多个晶片及多个批次信息一起统计地组合为到定制分类引擎的输入，所述定制分类引擎可消耗单个或多个扫描、通道、晶片及批次以确定加工工具状态。

公开(公告)号：CN112740021B

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN201980061902.7

申请日：2019-09-20

申请人： 科磊股份有限公司

发明人： A·潘迪 ,  B·里斯 ,  H·法加里亚 ,  永·张 ,  R·拉克哈瓦特

IPC分类号： G01N21/88 ,  G06T7/00 ,  G06N3/02

摘要： 本发明揭示一种用于分析样本的系统，其包含检验子系统及至少一个控制器。所述检验子系统经配置以扫描样本以收集具有第一图像分辨率的第一多个样本图像。所述控制器经配置以基于所述第一多个样本图像来生成缺陷列表。所述控制器经进一步配置以将对应于所述缺陷列表的图像输入到使用源数据来训练的神经网络中，所述源数据包含具有所述第一图像分辨率的样本图像及具有高于所述第一图像分辨率的第二图像分辨率的样本图像。所述控制器经进一步配置以由所述神经网络基于对应于所述缺陷列表的所述图像来生成第二多个样本图像，其中所述第二多个样本图像具有所述第二图像分辨率且对应于所述缺陷列表。