一种氢终端金刚石/氧化镓异质集成互补器件及制备方法

    公开(公告)号:CN115831968A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202211534911.3

    申请日:2022-12-01

    摘要: 本发明涉及一种氢终端金刚石/氧化镓异质集成互补器件及制备方法,CMOS反相器包括:金刚石衬底层、氧化镓衬底层、第一源电极、第一漏电极、第一介质层、第一栅电极、氢终端表面层、第二源电极、第二漏电极、第二介质层和第二栅电极。本发明实施例通过异质集成的方法将氢终端金刚石PMOS和氧化镓NMOS结合在一起制备超宽禁带半导体CMOS器件,有效解决了金刚石难以实现n型掺杂、氧化镓难以实现p型掺杂的关键难题,保证了器件的各自的高性能和整体的高质量,实现了适合超高温、强辐照环境应用的高性能超宽禁带半导体CMOS反相器。

    可调沟道宽度的金刚石可变阈值场效应晶体管及制备方法

    公开(公告)号:CN116314280A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310072475.0

    申请日:2023-02-02

    摘要: 本发明公开了一种可调沟道宽度的金刚石可变阈值场效应晶体管,包括N型金刚石衬底、P‑型金刚石外延层、P+型金刚石外延层、源电极、漏电极、栅介质层、栅电极以及背电极,其中,P‑型金刚石外延层设置在N型金刚石衬底上表面;在P‑型金刚石外延层上表面左右两侧分别设置P+型金刚石外延层,源电极和漏电极分别设置在左右两侧的P+型金刚石外延层上,P+型金刚石外延层分别与其上方的源电极和漏电极形成欧姆接触;栅介质层设置在P‑型金刚石外延层未被P+型金刚石外延层覆盖的上表面,栅电极设置在栅介质层的上表面;背电极设置在N型金刚石衬底下表面。本发明的金刚石场效应管具有高热导率、高抗辐照性、耗尽型与增强型灵活的可选择性等优势。

    一种氢终端金刚石/氧化镓异质横向二极管及制备方法

    公开(公告)号:CN115799345A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202211521460.X

    申请日:2022-11-30

    摘要: 本发明涉及一种氢终端金刚石/氧化镓异质横向二极管及制备方法,横向二极管包括:金刚石衬底层、n型Ga2O3层、氢终端金刚石表面层、阴极和阳极,其中,所述n型Ga2O3层位于所述金刚石衬底层上的一侧,所述氢终端金刚石表面层位于所述金刚石衬底层上的另一侧,所述阴极位于所述n型Ga2O3层上,所述阳极位于所述氢终端金刚石表面层上。该横向二极管通过异质集成的方法将p型电导金刚石和n型电导Ga2O3结合在一起,制备超宽禁带半导体异质集成准垂直二极管器件,有效解决了金刚石难以实现n型掺杂、氧化镓难以实现p型掺杂的难题,提高了二极管的击穿电压,实现了超宽禁带半导体互补导电器件。