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公开(公告)号：CN107799442A
公开(公告)日：2018-03-13
申请号：CN201710779419.5
申请日：2017-09-01
申请人： 株式会社斯库林集团
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70975 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/67155
摘要： 本发明涉及一种基板清洗装置及具备该基板清洗装置的基板处理装置，所述基板清洗装置包括具有圆形的上端面的清洗刷，通过使清洗刷的上端面与利用旋转夹具旋转的基板的下表面接触，来清洗基板的下表面。为了清洗清洗刷，设置空间形成构件。空间形成构件具有下端面。另外，在空间形成构件形成有内部空间，该内部空间在下端面具有圆形开口。在圆形开口被清洗刷的上端面堵塞的状态下，向空间形成构件的内部空间供给清洗液，从而使清洗液从圆形开口经过清洗刷的上端面和空间形成构件的下端面之间流出。
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公开(公告)号：CN105593761A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201380079975.1
申请日：2013-09-30
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/182 , G03F7/70825 , G03F7/70975
摘要： 提供一种在尤其用于微光刻的光学成像设备中使用的光学成像设备模块(117.1)，包含光学元件支撑子结构(118.1)和辅助支撑子结构(119.1)。光学元件支撑子结构配置为支撑光学元件(106.2)，并且具有第一暂时支撑接口布置。光学元件配置为形成光学成像设备的光学元件组的部分，所述光学成像设备配置为在使用曝光光的曝光过程中将掩模图案的像转印至基板上。辅助支撑子结构(119.1)配置为支撑辅助部件(115)，并且具有第二暂时支撑接口布置，辅助部件配置为在曝光过程期间执行曝光过程除了将图案的像转印至基板上的辅助功能。辅助部件(115)配置为在曝光过程期间与光学元件空间上关联，并且由辅助支撑结构支撑，所述辅助支撑结构包含与光学元件支撑子结构(118.1)机械分离的方式的辅助支撑子结构(119.1)。第一暂时支撑接口布置和第二暂时支撑接口布置配置为可释放地与至少一个暂时连接装置(121)合作，至少一个暂时连接装置配置为在光学成像设备的装配期间经由光学元件支撑子结构(118.1)暂时支撑辅助支撑子结构(119.1)。
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公开(公告)号：CN105185697A
公开(公告)日：2015-12-23
申请号：CN201510362489.1
申请日：2010-12-16
申请人： 株式会社尼康
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/708 , G03F7/70975 , H01L21/027
摘要： 本发明是有关于一种基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法。基板处理装置包括：进行用以处理基板的规定动作的驱动部；将配置着驱动部的驱动区、与驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部；覆盖驱动区及周围区的室本体部；设置在驱动区及周围区的至少一方的电离器；及对基板进行规定处理的处理部。基板处理装置的控制方法是：对应于设置在上述室本体部的第1门的第1开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接，使上述电离器进行动作。
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公开(公告)号：CN102749812B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201210228940.7
申请日：2007-09-03
申请人： 株式会社尼康
发明人： 柴崎祐一
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , G03F7/70975 , Y10T29/49117
摘要： 控制装置根据测量移动体WST相对XY平面的倾斜角的干涉仪的测量值，在光栅(39Y1,39Y2)的周期方向使移动体相对XY平面倾斜角度α，根据此倾斜前后的编码器系统(62A,62C)的测量值与角度α的信息，算出光栅表面相对XY平面内的移动体的位置控制的基准的基准面(例如投影光学系统的像面)的阿贝偏移量。接着，控制装置根据编码器系统所测量的XY平面内的移动体的位置信息、及因光栅表面的阿贝偏移量造成的移动体相对XY平面的倾斜角所对应的编码器系统的测量误差，沿着XY平面驱动移动体。
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公开(公告)号：CN102119364B
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN200980129546.4
申请日：2009-06-10
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： 关彦彬
CPC分类号： G03F7/70141 , G02B7/003 , G02B7/028 , G03F7/70816 , G03F7/70833 , G03F7/70975
摘要： 本发明涉及一种光学设备(101)，具体是用于微光刻，包括光学模块(104)、支撑结构(109)和连接装置(108)，其中，所述连接装置包括具有第一连接器部分(110.1)和第二连接器部分(110.2)的至少一个连接单元(110)。所述第一连接器部分连接到所述光学模块，所述第二连接器部分连接到所述支撑结构。所述第一连接器部分具有带有第一主曲率(K1-1)的第一接触表面(110.3)，所述第一主曲率定义第一主曲率轴(AK2-1)，而所述第二连接器部分具有带有第二主曲率(K2-1)的第二接触表面(110.4)，所述第二主曲率定义第二主曲率轴。所述第二主曲率与所述第一主曲率匹配，并且在已安装状态中所述第一接触接触表面与所述第二接触表面接触。所述连接装置包括对所述第一连接器部分和所述第二连接器部分作用的定位装置(111)的至少一部分，其中所述定位装置被设计为使得，在出现在所述已安装状态之前的调节状态中，以非接触的方式在所述第一接触表面和所述第二接触表面之间保持窄间隙(111.4)，从而可以关于所述第一主曲率轴在所述第一接触表面和所述第二接触表面之间进行补偿运动，而在所述第一连接器部分和所述第二连接器部分之间不发生所述补偿运动造成的任何力的作用。
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公开(公告)号：CN102360169B
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201110322431.6
申请日：2007-09-03
申请人： 株式会社尼康
发明人： 柴崎祐一
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B21/042 , G03F7/70341 , G03F7/70483 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70975 , G03F9/70 , G03F9/7046 , G03F9/7049 , H01L21/68 , H01L21/681 , Y10T29/49002
摘要： 本发明提供移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、组件制造方法、以及校正方法。通过控制装置，使用编码器系统的包含X编码器与Y编码器的至少各一个的三个编码器(Enc1，Enc2，Enc3)测量载台WST在XY平面内的位置信息，根据该位置信息的测量结果及该位置信息的测量所使用的读头(编码器)(Enc1，Enc2及Enc3)的平行于XY平面的面内的位置信息(p1，q1)、(p2，q2)及(p3，q3)，在XY平面内驱动载台WST。据此，能一边使用包含多个读头的编码器系统切换载台WST的移动中控制所使用的读头(编码器)，一边高精度控制载台的移动。
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公开(公告)号：CN102834775A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180015664.X
申请日：2011-02-10
申请人： 株式会社尼康
发明人： 一之濑刚
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70833 , G03F7/70825 , G03F7/70975 , Y10T29/49895
摘要： 本发明的曝光装置的制造方法包含为使机体的计量架的绝对基准面与载台模块的载台位置基准面间的位置关系成为所欲关系，而调整用以决定机体与载台模块间的对接时位置关系的定位装置的动作(步骤412～418)。如此，之后仅需通过定位装置将机体与载台模块加以对接，机体的絶对基准面与载台模块的载台位置基准面间的位置关系即成为所欲关系。
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公开(公告)号：CN102566320A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201210037442.4
申请日：2008-12-29
申请人： 株式会社尼康
发明人： 柴崎祐一
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70425 , G03F7/70975 , G03F9/7088 , G03F9/7096 , Y10T29/49002
摘要： 本发明公开一种曝光装置、曝光方法以及器件制造方法。在晶片载台(WST)在Y轴方向上直线移动的期间，由多点AF系统(90)检测在X轴方向以既定间隔设定的多个检测点的晶片(W)表面的面位置信息，由沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL21～AL24)分别检测晶片上彼此不同位置的标记，由周边曝光系统(51)使晶片的缺照射的一部分曝光。据此，与无关系地进行标记检测动作、面位置信息(焦点信息)的检测动作、以及周边曝光动作的场合相比较，能提升生产率。
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公开(公告)号：CN102540767A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201210035719.X
申请日：2008-12-29
申请人： 株式会社尼康
发明人： 柴崎祐一
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70425 , G03F7/70975 , G03F9/7088 , G03F9/7096 , Y10T29/49002
摘要： 本发明公开一种曝光装置、移动体驱动系统、图案形成装置、以及曝光方法。在晶片载台(WST)在Y轴方向上直线移动的期间，由多点AF系统(90)检测在X轴方向以既定间隔设定的多个检测点的晶片(W)表面的面位置信息，由沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL21～AL24)分别检测晶片上彼此不同位置的标记，由周边曝光系统(51)使晶片的缺照射的一部分曝光。据此，与无关系地进行标记检测动作、面位置信息(焦点信息)的检测动作、以及周边曝光动作的场合相比较，能提升生产率。
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公开(公告)号：CN102119364A
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：CN200980129546.4
申请日：2009-06-10
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： 关彦彬
CPC分类号： G03F7/70141 , G02B7/003 , G02B7/028 , G03F7/70816 , G03F7/70833 , G03F7/70975
摘要： 本发明涉及一种光学设备(101)，具体是用于微光刻，包括光学模块(104)、支撑结构(109)和连接装置(108)，其中，所述连接装置包括具有第一连接器部分(110.1)和第二连接器部分(110.2)的至少一个连接单元(110)。所述第一连接器部分连接到所述光学模块，所述第二连接器部分连接到所述支撑结构。所述第一连接器部分具有带有第一主曲率(K1-1)的第一接触表面(110.3)，所述第一主曲率定义第一主曲率轴(AK2-1)，而所述第二连接器部分具有带有第二主曲率(K2-1)的第二接触表面(110.4)，所述第二主曲率定义第二主曲率轴。所述第二主曲率与所述第一主曲率匹配，并且在已安装状态中所述第一接触接触表面与所述第二接触表面接触。所述连接装置包括对所述第一连接器部分和所述第二连接器部分作用的定位装置(111)的至少一部分，其中所述定位装置被设计为使得，在出现在所述已安装状态之前的调节状态中，以非接触的方式在所述第一接触表面和所述第二接触表面之间保持窄间隙(111.4)，从而可以关于所述第一主曲率轴在所述第一接触表面和所述第二接触表面之间进行补偿运动，而在所述第一连接器部分和所述第二连接器部分之间不发生所述补偿运动造成的任何力的作用。
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